在半導(dǎo)體工業(yè)中， “絕對清潔”的要求擴展到設(shè)備（臭氧發(fā)生器，接觸到的設(shè)備），這意味著不會產(chǎn)生顆粒，沒有金屬，離子或有機污染物。目前德國ANSEROS安索羅斯的臭氧發(fā)生器以及其他的臭氧處理系統(tǒng)已經(jīng)可以“絕對清潔”的要求。

為了保證臭氧在半導(dǎo)體工業(yè)清洗的應(yīng)用的可重復(fù)性，必須測量液態(tài)臭氧濃度，對清洗過程進(jìn)行控制。

因為臭氧在晶圓清洗過程中的反應(yīng)與飲用水或者廢水處理中的臭氧反應(yīng)是一樣的。由于臭氧在水中的吸收與晶片的處理（清洗、光刻膠去除等）通常是兩個獨立的系統(tǒng)，它們之間的距離最大為40 m。因此，應(yīng)該測量臭氧的衰減速率或至少接近使用點的液態(tài)臭氧濃度，以確保過程的可重復(fù)性。

高級氧化過程（AOPs）

高級氧化過程（AOPs）， 作為涉及高反應(yīng)性自由基中間體特別是OHo的產(chǎn)生的水處理過程。即使是高pH值的臭氧，也是AOP的一種。由于臭氧主要通過非選擇性間接途徑與天然水中的大多數(shù)有機污染物發(fā)生反應(yīng)，因此AOPs代表了催化這些自由基產(chǎn)生的替代技術(shù)，從而加速了有機污染物的破壞。由于自由基在其攻擊方式上相對非選擇性，因此它們能夠氧化所有還原物質(zhì)，并且不像分子臭氧那樣局限于特定類別的污染物。

適用于高級氧化工藝（AOP）的臭氧水處理系統(tǒng)PAP-SC

在半導(dǎo)體加工中，需要一個完全干凈的臭氧系統(tǒng)。在加工過程中（晶圓/IMEC清洗/RCA清洗/SOM等），任何從臭氧系統(tǒng)排放到半導(dǎo)體表面的金屬和顆粒都會影響晶圓的質(zhì)量，包括臭氧系統(tǒng)的部件臭氧發(fā)生器COM-AD或臭氧分析儀WM，ANSEORS安索羅斯臭氧水系統(tǒng)PAP-SC在與臭氧接觸時完全不含金屬，因此ANSEROS安索羅斯臭氧水處理系統(tǒng)可用于濕法清洗和干法清洗，不管是有酸還是無酸。為了確保安全，ANSEORS安索羅斯臭氧水系統(tǒng)PAP-SC還包括一個臭氧破壞器CAT-HO。其中臭氧發(fā)生器COM-AD配合ANSEROS臭氧分析儀及控制系統(tǒng)，可以精準(zhǔn)控制臭氧濃度，且雙壁石英管的設(shè)計使電極不接觸臭氧，保證了臭氧氣體的干凈。

德國ANSEROS安索羅斯是全球?qū)I(yè)的臭氧技術(shù)開發(fā)制造商，其生產(chǎn)的臭氧發(fā)生器和臭氧水處理系統(tǒng)廣泛運用各個行業(yè)。

翁開爾是德國ANSEROS安索羅斯中國總代理，擁有近40年的行業(yè)經(jīng)驗，能根據(jù)您的需求為您提供專業(yè)的解決方案，歡迎致電【400-6808-138】咨詢。

責(zé)任編輯：tzh