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電子發(fā)燒友網(wǎng)>市場(chǎng)分析>聚焦模擬IC:工藝若跟不上 境遇將趨下行

聚焦模擬IC:工藝若跟不上 境遇將趨下行

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2025-12-16 14:46:48220

圣邦微電子榮獲2025國(guó)產(chǎn)模擬IC行業(yè)車規(guī)級(jí)卓越獎(jiǎng)

在由21Dianyuan主辦的第四屆年度電源行業(yè)配套品牌評(píng)選活動(dòng)中,圣邦微電子憑借在車規(guī)級(jí)模擬集成電路領(lǐng)域卓越的技術(shù)創(chuàng)新與產(chǎn)品表現(xiàn),榮膺“國(guó)產(chǎn)模擬IC-車規(guī)級(jí)-卓越獎(jiǎng)”。
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半導(dǎo)體制造工藝中,經(jīng)晶棒切割后的硅晶圓尺寸檢測(cè),是保障后續(xù)制程精度的核心環(huán)節(jié)。共聚焦顯微鏡憑借其高分辨率成像能力與無損檢測(cè)特性,成為檢測(cè)過程的關(guān)鍵分析工具。下文,光子灣科技詳解共聚焦顯微鏡檢測(cè)硅晶
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2025-09-23 18:03:471147

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【「AI芯片:科技探索與AGI愿景」閱讀體驗(yàn)】+工藝創(chuàng)新繼續(xù)維持著摩爾神話

。那該如何延續(xù)摩爾神話呢? 工藝創(chuàng)新將是其途徑之一,芯片中的晶體管結(jié)構(gòu)正沿著摩爾定律指出的方向一代代演進(jìn),本段加速半導(dǎo)體的微型化和進(jìn)一步集成,以滿足AI技術(shù)及高性能計(jì)算飛速發(fā)展的需求。 CMOS工藝
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善思創(chuàng)興薄膜力學(xué)斷層掃描測(cè)試儀:聚焦鋰電池材料檢測(cè),解決行業(yè)核心測(cè)試痛點(diǎn)

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聚焦離子束(FIB)技術(shù)分析

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2025-07-10 14:32:321000

霍爾IC的原理和分類

霍爾IC是一種能夠進(jìn)行高/低電平數(shù)字信號(hào)輸出的傳感器,便于后端驅(qū)動(dòng)器和微控制器進(jìn)行數(shù)據(jù)處理,因此被廣泛應(yīng)用于各種白色家電和工業(yè)設(shè)備中。本頁介紹霍爾IC的原理和分類。
2025-07-08 14:28:131842

超聲波傳感器~聚焦換能器:醫(yī)美界的“精準(zhǔn)煥顏”黑科技

煥顏新紀(jì)元超聲波聚焦換能器是基于先進(jìn)的超聲波技術(shù)而研發(fā)的高科技設(shè)備。它能夠超聲波能量精準(zhǔn)聚焦于皮膚深層,就像一把無形的“手術(shù)刀”,在不損傷表皮的情況下,直接作用
2025-06-26 10:48:16473

聚焦離子束技術(shù)的崛起與應(yīng)用拓展

聚焦離子束(FIB)技術(shù)是一種先進(jìn)的納米加工和分析工具。其基本原理是在電場(chǎng)和磁場(chǎng)作用下,離子束聚焦到亞微米甚至納米量級(jí),通過偏轉(zhuǎn)和加速系統(tǒng)控制離子束掃描運(yùn)動(dòng),實(shí)現(xiàn)微納圖形的監(jiān)測(cè)分析和微納結(jié)構(gòu)的無
2025-06-24 14:31:45553

激光焊接技術(shù)在焊接空調(diào)閥的工藝應(yīng)用

工藝應(yīng)用。 激光焊接技術(shù)在焊接空調(diào)閥的工藝應(yīng)用優(yōu)勢(shì): 1.精準(zhǔn)熱控制與低變形, 激光焊接通過微米級(jí)光斑實(shí)現(xiàn)局部能量聚焦,顯著降低熱影響區(qū)范圍,尤其適用于銅鋁異種材料的連接,避免傳統(tǒng)焊接中因高溫導(dǎo)致的材料氧化或
2025-06-23 14:32:49507

GLAD應(yīng)用:高斯光束的吸收和自聚焦效應(yīng)

和自聚焦效應(yīng)之后的理想高斯光束聚焦 (4)經(jīng)過吸收和自聚焦效應(yīng)之后的帶有像差的高斯光束聚焦 圖1.模擬示意圖 模擬結(jié)果 圖2. 初始理想高斯光束光強(qiáng)分布 圖3. 理想高斯光束的成像切片 圖4. 介質(zhì)
2025-06-17 08:52:44

激光焊接技術(shù)在焊接電磁閥的工藝應(yīng)用

應(yīng)用。 ? ? 在激光焊接技術(shù)在焊接電磁閥的工藝應(yīng)用特性方面,激光焊接具有能量密度高、熱輸入精準(zhǔn)的特點(diǎn)。微米級(jí)的光束聚焦能力使其能夠?qū)崿F(xiàn)精密焊接,特別適用于電磁閥中薄壁結(jié)構(gòu)和細(xì)小流道的連接??焖偌訜崂鋮s的工藝特性有效控
2025-06-13 15:38:17627

中圖儀器CHOTEST共聚焦顯微鏡

中圖儀器CHOTEST共聚焦顯微鏡以共聚焦技術(shù)為原理結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等對(duì)器件表面進(jìn)行非接觸式掃描并建立表面3D圖像,通過系統(tǒng)軟件對(duì)器件表面3D圖像進(jìn)行數(shù)據(jù)處理與分析,并獲取
2025-06-12 13:41:12

中圖白光共聚焦顯微鏡

中圖白光共聚焦顯微鏡以白光LED為光源,主要用于對(duì)各種精密器件及材料表面進(jìn)行微納米級(jí)測(cè)量。它以轉(zhuǎn)盤共聚焦光學(xué)系統(tǒng)為基礎(chǔ),結(jié)合高穩(wěn)定性結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和3D重建算法,共同組成測(cè)量系統(tǒng),保證儀器的高測(cè)量精度。中
2025-06-10 16:27:04

聚焦顯微鏡—賦能光學(xué)元件精密質(zhì)控

分辨率。加工過程中產(chǎn)生的邊緣塌陷、周期畸變或面形偏差未能精準(zhǔn)識(shí)別,當(dāng)此類缺陷元件被集成至光通信模塊或成像系統(tǒng)時(shí),導(dǎo)致光束傳播相位失配、成像質(zhì)量劣化等問題,甚至造成整機(jī)系統(tǒng)的功能性失效。中圖儀器共聚焦
2025-06-05 10:09:260

詳析模擬與數(shù)字微波移相器的工作原理及特性

的SYN649系列移相器在通信、雷達(dá)、儀器儀表等眾多領(lǐng)域發(fā)揮著關(guān)鍵作用。本文聚焦模擬與數(shù)字微波移相器,探討其工作原理與特性。 一、工作原理 模擬移相器模擬移相原理:早期模擬移相器利用傳輸介質(zhì)對(duì)傳導(dǎo)波動(dòng)引入相移的特性。例如
2025-06-03 17:24:10778

薄膜晶體管技術(shù)架構(gòu)與主流工藝路線

導(dǎo)語薄膜晶體管(TFT)作為平板顯示技術(shù)的核心驅(qū)動(dòng)元件,通過材料創(chuàng)新與工藝優(yōu)化,實(shí)現(xiàn)了從傳統(tǒng)非晶硅向氧化物半導(dǎo)體、柔性電子的技術(shù)跨越。本文聚焦于薄膜晶體管制造技術(shù)與前沿發(fā)展。
2025-05-27 09:51:412511

材料共聚焦3D成像顯微鏡

VT6000系列材料共聚焦3D成像顯微鏡以共聚焦技術(shù)為原理結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等對(duì)器件表面進(jìn)行非接觸式掃描并建立表面3D圖像,通過系統(tǒng)軟件對(duì)器件表面3D圖像進(jìn)行數(shù)據(jù)處理與分析,并獲取
2025-05-26 16:20:36

PPS注塑IC元件封裝中的應(yīng)用優(yōu)勢(shì)與工藝

在當(dāng)今數(shù)字化時(shí)代,集成電路(IC)作為現(xiàn)代科技的核心,封裝是電子制造中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。IC元件封裝不僅是保護(hù)芯片免受外界環(huán)境影響的關(guān)鍵屏障,更是確保電子設(shè)備性能穩(wěn)定、高效運(yùn)行的重要保障。 一、PPS注塑
2025-05-19 08:10:47625

GLAD應(yīng)用:高斯光束的吸收和自聚焦效應(yīng)

和自聚焦效應(yīng)之后的理想高斯光束聚焦 (4)經(jīng)過吸收和自聚焦效應(yīng)之后的帶有像差的高斯光束聚焦 圖1.模擬示意圖 模擬結(jié)果 圖2. 初始理想高斯光束光強(qiáng)分布 圖3. 理想高斯光束的成像切片 圖4. 介質(zhì)
2025-05-16 08:47:10

電機(jī)引線螺栓硬釬焊工藝研究

低溫軟釬焊(即錫焊)工藝。但由于Pb及其化合物的劇毒性對(duì)人類健康和生活環(huán)境的危害,且鉛錫焊料抗蠕變性能較差、熱強(qiáng)度低、不耐溫等缺點(diǎn)不能滿足電機(jī)可靠使用的質(zhì)量要求,為此部分電機(jī)引線螺栓接頭的焊接采用
2025-05-14 16:34:07

電子束半導(dǎo)體圓筒聚焦電極

電子束半導(dǎo)體圓筒聚焦電極 在傳統(tǒng)電子束聚焦中,需要通過調(diào)焦來確保電子束焦點(diǎn)在目標(biāo)物體上。要確認(rèn)是焦點(diǎn)的最小直徑位置非常困難,且難以測(cè)量。如果焦點(diǎn)是一條直線,就可以免去調(diào)焦過程,本文介紹一種能把
2025-05-10 22:32:27

什么是SMT錫膏工藝與紅膠工藝?

SMT錫膏工藝與紅膠工藝是電子制造中兩種關(guān)鍵工藝,主要區(qū)別在于材料特性、工藝目的及適用場(chǎng)景。以下是詳細(xì)解析:
2025-05-09 09:15:371245

聚焦離子束技術(shù):原理、應(yīng)用與展望

合作伙伴。FIB技術(shù)的基本原理聚焦離子束技術(shù)的核心在于特定元素(如鎵元素)的離子化為帶正電的離子(Ga+),并通過電場(chǎng)加速使其獲得高能量。隨后,借助靜電透鏡系統(tǒng)
2025-05-08 14:26:23524

提供半導(dǎo)體工藝可靠性測(cè)試-WLR晶圓可靠性測(cè)試

隨著半導(dǎo)體工藝復(fù)雜度提升,可靠性要求與測(cè)試成本及時(shí)間之間的矛盾日益凸顯。晶圓級(jí)可靠性(Wafer Level Reliability, WLR)技術(shù)通過直接在未封裝晶圓上施加加速應(yīng)力,實(shí)現(xiàn)快速
2025-05-07 20:34:21

電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極

電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極 隨著科技進(jìn)步,對(duì)電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長(zhǎng)和電子束聚焦后的焦點(diǎn)直徑有關(guān),電子波長(zhǎng)可通過增加加速電極電壓來減小波長(zhǎng),而電子束聚焦
2025-05-07 06:03:45

聚焦離子束技術(shù):納米加工與分析的利器

離子束技術(shù)進(jìn)行全面剖析,以期為相關(guān)領(lǐng)域的研究人員和從業(yè)者提供有價(jià)值的參考。聚焦離子束技術(shù)核心聚焦離子束技術(shù)的核心在于利用電透鏡離子束聚焦成極小尺寸的離子束,進(jìn)而
2025-04-28 20:14:04554

聚焦塑封集成電路:焊錫污染如何成為可靠性“絆腳石”?

本文聚焦塑封集成電路焊錫污染問題,闡述了焊錫污染發(fā)生的條件,分析了其對(duì)IC可靠性產(chǎn)生的多方面影響,包括可能導(dǎo)致IC失效、影響電化學(xué)遷移等。通過實(shí)際案例和理論解釋,深入探討了焊錫污染對(duì)封裝塑封體的不可
2025-04-18 13:39:561085

聚焦離子束技術(shù)的原理和應(yīng)用

聚焦離子束(FIB)技術(shù)在納米科技里很重要,它在材料科學(xué)、微納加工和微觀分析等方面用處很多。離子源:FIB的核心部件離子源是FIB系統(tǒng)的關(guān)鍵部分,液態(tài)金屬離子源(LMIS)用得最多,特別是鎵(Ga
2025-04-11 22:51:22651

智能IC卡可以做什么工藝呢?

1、IC卡可以根據(jù)客戶提供的素材進(jìn)行版面設(shè)計(jì),也可由客戶提供設(shè)計(jì)稿2、IC卡的厚度從0.5mm到2mm,一般國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)厚度0.84MM3、IC卡的標(biāo)準(zhǔn)大小是85.5mmX54mm,圓角104、IC
2025-04-01 14:51:48751

聚焦離子束技術(shù):原理、特性與應(yīng)用

聚焦離子束(Focused-Ion-Beam,FIB)技術(shù)是一種先進(jìn)的微納加工與分析手段。其基本原理是通過電場(chǎng)和磁場(chǎng)的作用,離子束聚焦到亞微米甚至納米級(jí)別,并利用偏轉(zhuǎn)和加速系統(tǒng)控制離子束的掃描運(yùn)動(dòng)
2025-03-27 10:24:541522

CMOS,Bipolar,F(xiàn)ET這三種工藝的優(yōu)缺點(diǎn)是什么?

在我用photodiode工具選型I/V放大電路的時(shí)候,系統(tǒng)給我推薦了AD8655用于I/V,此芯片為CMOS工藝 但是查閱資料很多都是用FET工藝的芯片,所以請(qǐng)教下用于光電信號(hào)放大轉(zhuǎn)換(主要考慮信噪比和帶寬)一般我們用哪種工藝的芯片, CMOS,Bipolar,F(xiàn)ET這三種工藝的優(yōu)缺點(diǎn)是什么?
2025-03-25 06:23:13

AD7324BRUZ 一款4通道、12位加號(hào)逐次逼近型模數(shù)轉(zhuǎn)換器ADC

各種高性能模擬 IC,能夠在 33 V 工作電壓下工作,其尺寸是上一代高壓器件無法實(shí)現(xiàn)的。與使用傳統(tǒng) CMOS 工藝模擬 IC 不同,iCMOS 元件可以接受雙極
2025-03-21 11:43:19

VirtualLab Fusion應(yīng)用:用于X射線束的掠入射聚焦

Radiation 27.5 (2020): 1307-1319]。使用兩個(gè)物理上分離的橢圓鏡聚焦光束的兩個(gè)維度即可完成聚焦。系統(tǒng)可以入射的X射線聚焦到納米級(jí)的光斑尺寸。該系統(tǒng)在
2025-03-21 09:17:39

CMOS集成電路的基本制造工藝

本文主要介紹CMOS集成電路基本制造工藝,特別聚焦于0.18μm工藝節(jié)點(diǎn)及其前后的變化,分述如下:前段工序(FrontEnd);0.18μmCMOS前段工序詳解;0.18μmCMOS后段鋁互連工藝;0.18μmCMOS后段銅互連工藝。
2025-03-20 14:12:174132

砥礪創(chuàng)新 芯耀未來——武漢芯源半導(dǎo)體榮膺21ic電子網(wǎng)2024年度“創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)獎(jiǎng)”

2024年,芯途璀璨,創(chuàng)新不止。武漢芯源半導(dǎo)體有限公司(以下簡(jiǎn)稱“武漢芯源半導(dǎo)體”)在21ic電子網(wǎng)主辦的2024年度榮耀獎(jiǎng)項(xiàng)評(píng)選中,憑借卓越的技術(shù)創(chuàng)新實(shí)力與行業(yè)貢獻(xiàn),榮膺“年度創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)獎(jiǎng)”。這一
2025-03-13 14:21:54

VirtualLab Fusion應(yīng)用:應(yīng)用一個(gè)熱透鏡對(duì)高斯光束聚焦

9, 2548-2553 (1970)]。這個(gè)案例展示了當(dāng)輸入功率變化時(shí),熱透鏡焦距以及聚焦光束直徑的變化。這個(gè)例子發(fā)表在[H. Zhong, J. Opt. Soc. Am. A 35]。 建模任務(wù) 結(jié)果
2025-03-13 08:52:49

聚焦離子束掃描電子顯微鏡(FIB-SEM)的用途

離子束掃描電子顯微鏡(FIB-SEM)是聚焦離子束(FIB)技術(shù)與掃描電子顯微鏡(SEM)技術(shù)有機(jī)結(jié)合的高端設(shè)備。什么是FIB-SEM?FIB-SEM系統(tǒng)通過聚焦離子束(FIB)和掃描電子顯微鏡
2025-03-12 13:47:401075

TRCX應(yīng)用:顯示面板工藝裕量分析

制造顯示面板的主要挑戰(zhàn)之一是研究由工藝余量引起的主要因素,如CD余量,掩膜錯(cuò)位和厚度變化。TRCX提供批量模擬和綜合結(jié)果,包括分布式計(jì)算環(huán)境中的寄生電容分析,以改善顯示器的電光特性并最大限度地減少缺陷。 (a)參照物 (b)膜層未對(duì)準(zhǔn)
2025-03-06 08:53:21

聚焦顯微成像系統(tǒng)

VT6000共聚焦顯微成像系統(tǒng)是一款用于對(duì)各種精密器件及材料表面進(jìn)行微納米級(jí)測(cè)量的檢測(cè)儀器。它基于光學(xué)共軛共焦原理,結(jié)合精密縱向掃描,以在樣品表面進(jìn)行快速點(diǎn)掃描并逐層獲取不同高度處清晰焦點(diǎn)并重
2025-03-05 14:19:57

聚焦離子束技術(shù)在現(xiàn)代科技的應(yīng)用

離子束技術(shù)的核心在于利用高能離子束對(duì)樣品進(jìn)行加工和分析。其基本原理是鎵(Ga)等元素在強(qiáng)電場(chǎng)的作用下加速,形成高能離子束。通過精確控制電場(chǎng)和磁場(chǎng),離子束能夠聚焦
2025-03-03 15:51:58736

國(guó)內(nèi)EDA大廠芯華章?lián)Q,聚焦發(fā)展,戰(zhàn)略升級(jí)

2月28日針對(duì)外界傳出的人事變動(dòng)消息,國(guó)內(nèi)EDA廠商芯華章正式做出了回應(yīng)。其中,公司任命謝仲輝先生、齊正華先生擔(dān)任聯(lián)席CEO,王禮賓先生繼續(xù)擔(dān)任董事長(zhǎng),聚焦戰(zhàn)略資源整合與融資相關(guān)工作。 ? 以下
2025-02-28 18:17:58626

AD7322BRUZ 一款2通道、12位加號(hào)逐次逼近型模數(shù)轉(zhuǎn)換器 (ADC)

。它支持開發(fā)各種高性能模擬 IC,能夠在 33 V 工作電壓下工作,其尺寸是上一代高壓器件無法實(shí)現(xiàn)的。與使用傳統(tǒng) CMOS 工藝模擬 IC 不同,iCMOS 元
2025-02-27 11:29:36

AD7323BRUZ 一款4通道12位加符號(hào)逐次逼近型模數(shù)轉(zhuǎn)換器 (ADC)

工藝。它支持開發(fā)各種高性能模擬 IC,能夠在 33 V 工作電壓下工作,其尺寸是上一代高壓器件無法實(shí)現(xiàn)的。與使用傳統(tǒng) CMOS 工藝模擬 IC 不同,iCMOS
2025-02-27 11:22:10

AD7321BRUZ 一款2通道、12位加符號(hào)逐次逼近型模數(shù)轉(zhuǎn)換器ADC

高性能模擬 IC,能夠在 33 V 工作電壓下工作,其尺寸是上一代高壓器件無法實(shí)現(xiàn)的。與使用傳統(tǒng) CMOS 工藝模擬 IC 不同,iCMOS 元件可以接受雙極輸
2025-02-27 11:11:55

AD7328BRUZ 一款8通道、12位逐次逼近型模數(shù)轉(zhuǎn)換器ADC

各種高性能模擬 IC,能夠在 33 V 工作電壓下工作,其尺寸是上一代高壓器件無法實(shí)現(xiàn)的。與使用傳統(tǒng) CMOS 工藝模擬 IC 不同,iCMOS 元件可以接受雙極
2025-02-27 10:56:49

聚焦離子束與掃描電鏡聯(lián)用技術(shù)

靜電透鏡離子束聚焦至極小尺寸,最小束斑直徑可小于10納米,是一種高精度的顯微加工工具。當(dāng)前商用系統(tǒng)中,離子源種類豐富,涵蓋鎵(Ga)、氙(Xe)、氦(He)等。在
2025-02-25 17:29:36935

材料共聚焦顯微測(cè)量系統(tǒng)

VT6000材料共聚焦顯微測(cè)量系統(tǒng)采用全電動(dòng)化設(shè)計(jì),并可無縫銜接位移軸與掃描軸的切換,圖像視窗和分析視窗同界面的設(shè)計(jì)風(fēng)格,實(shí)現(xiàn)了所見即所得的快速檢測(cè)效果。 VT6000材料共聚焦顯微測(cè)量
2025-02-19 14:56:59

VirtualLab Fusion應(yīng)用:通過熱透鏡聚焦不同類型的高斯模式

在高功率激光應(yīng)用中,一種常見的效果是通過熱致透鏡聚焦。 雖然這種影響通常是有害的,但它也可用于特定應(yīng)用。 例如,在光鑷和粒子俘獲領(lǐng)域中,使用Ince-Gaussian模式,因?yàn)樗鼈兊墓馐喞词乖?/div>
2025-02-17 09:55:33

VirtualLab Fusion應(yīng)用:通過熱透鏡聚焦的高斯光束

–2553(1970)]。這個(gè)使用案例顯示了熱透鏡焦距的變化,以及當(dāng)輸入功率改變時(shí)聚焦光束直徑的變化。這個(gè)使用案例發(fā)表在[H. Zhong, J. Opt. Soc. Am. A35]。 建立任務(wù) 結(jié)果
2025-02-17 09:44:54

聚焦離子束顯微鏡(FIB):原理揭秘與應(yīng)用實(shí)例

工作原理聚焦離子束顯微鏡的原理是通過離子束聚焦到納米尺度,并探測(cè)離子與樣品之間的相互作用來實(shí)現(xiàn)成像。離子束可以是氬離子、鎵離子等,在加速電壓的作用下,形成高能離子束。通過使用電場(chǎng)透鏡系統(tǒng),離子束
2025-02-14 12:49:241871

什么是聚焦離子束(FIB)?

什么是聚焦離子束?聚焦離子束(FocusedIonBeam,簡(jiǎn)稱FIB)技術(shù)作為一種前沿的納米級(jí)加工與分析手段,近年來在眾多領(lǐng)域嶄露頭角。它巧妙地融合了離子束技術(shù)與掃描電子顯微鏡(SEM)技術(shù)的優(yōu)勢(shì)
2025-02-13 17:09:031179

低噪聲二次電源模擬電路設(shè)計(jì):聚焦于電源模塊的優(yōu)化

基于電源模塊的低噪聲二次電源模擬電路設(shè)計(jì) 引言 模擬電子技術(shù)作為一門入門性質(zhì)的技術(shù)基礎(chǔ)課,其內(nèi)容與后續(xù)的大量專業(yè)課都直接關(guān)聯(lián),因此各理工類院校所有涉及電類的專業(yè)都將其作為后續(xù)專業(yè)課的重要基礎(chǔ)課
2025-02-13 10:09:434931

背金工藝工藝流程

本文介紹了背金工藝工藝流程。 本文解析一下背金工藝的具體的工藝流程及每步的工藝原理。 背金工藝工藝流程 ? 如上圖,步驟為: ? tape→grinding →Si etch?→ Detape
2025-02-12 09:33:182055

聚焦離子束技術(shù):納米的精準(zhǔn)操控與廣闊應(yīng)用

納米的精準(zhǔn)尺度聚焦離子束技術(shù)的核心機(jī)制在于利用高能離子源產(chǎn)生離子束,并借助電磁透鏡系統(tǒng),離子束精準(zhǔn)聚焦至微米級(jí)乃至納米級(jí)的極小區(qū)域。當(dāng)離子束與樣品表面相互作用時(shí),其能量傳遞與物質(zhì)相互作用的特性被
2025-02-11 22:27:50733

轉(zhuǎn)盤共聚焦光學(xué)成像系統(tǒng)

中圖儀器VT6000轉(zhuǎn)盤共聚焦光學(xué)成像系統(tǒng)以轉(zhuǎn)盤共聚焦光學(xué)系統(tǒng)為基礎(chǔ),結(jié)合高穩(wěn)定性結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和3D重建算法,共同組成測(cè)量系統(tǒng)。一般用于略粗糙度的工件表面的微觀形貌檢測(cè),可分析粗糙度、凹坑瑕疵、溝槽等
2025-01-16 14:56:21

3D高精度共聚焦顯微鏡

,共同組成測(cè)量系統(tǒng),保證儀器的高測(cè)量精度。 VT6000系列3D高精度共聚焦顯微鏡可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造及封裝工藝檢測(cè)、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學(xué)
2025-01-15 17:19:06

如何通過ADS1256傳感器采集的模擬信號(hào)轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號(hào),經(jīng)過SPI口接到MAX3140再接到MSP430進(jìn)行數(shù)據(jù)處理?

請(qǐng)問,我想通過ADS1256傳感器采集的模擬信號(hào)轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號(hào),之后經(jīng)過SPI口接到MAX3140(SPI轉(zhuǎn)485 chip),再接到MSP430進(jìn)行數(shù)據(jù)處理。 因?yàn)槲覀冏罱K的上位機(jī)設(shè)
2025-01-15 07:43:32

一文帶你了解聚焦離子束(FIB)

聚焦離子束(FIB)技術(shù)是一種高精度的納米加工和分析工具,廣泛應(yīng)用于微電子、材料科學(xué)和生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。FIB通過高能離子束聚焦到樣品表面,實(shí)現(xiàn)對(duì)材料的精確加工和分析。目前,使用Ga(鎵)離子
2025-01-14 12:04:311486

AN-620:AD1836和AD1953用于帶DSP的4輸入/9輸出模擬系統(tǒng)

電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《AN-620:AD1836和AD1953用于帶DSP的4輸入/9輸出模擬系統(tǒng).pdf》資料免費(fèi)下載
2025-01-13 16:07:280

聚焦離子束技術(shù):核心知識(shí)與應(yīng)用指南

精細(xì)調(diào)控離子流在微納米尺度的加工技術(shù)中,實(shí)現(xiàn)離子流的亞微米乃至納米級(jí)聚焦是一項(xiàng)至關(guān)重要的工藝。借助于精密的偏轉(zhuǎn)和加速機(jī)制,離子流能夠進(jìn)行精確的掃描運(yùn)動(dòng),完成微納米級(jí)圖形的檢測(cè)與分析,以及無需掩模的微
2025-01-08 10:59:36936

聚焦集成電路IC:掀起電子浪潮的 “芯片風(fēng)暴”

集成電路IC,宛如現(xiàn)代科技王國(guó)中的 “魔法芯片”,雖體積微小,卻蘊(yùn)含著改變世界的巨大能量。捷多邦小編今天與大家聊聊集成電路IC。
2025-01-07 15:33:35786

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