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標(biāo)簽 > 光刻膠
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。
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電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/黃山明)如果對半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)有興趣的話,一定對光刻膠(Photoresist)略有耳聞,這是一種對光敏感的高分子材料,廣泛應(yīng)用于微電子...
2026-01-13 標(biāo)簽:光刻膠 6.3k 0
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 在芯片制造領(lǐng)域,光刻膠用光引發(fā)劑長期被美日韓企業(yè)壟斷,成為制約我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵“卡脖子”技術(shù)。近日,這一局面被打破——湖北...
2025-12-17 標(biāo)簽:光刻膠 6.6k 0
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/黃山明)芯片,一直被譽(yù)為 人類智慧、工程協(xié)作與精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要設(shè)備光刻機(jī)就是 雕刻這個結(jié)晶的 “ 神之手 ”...
國產(chǎn)光刻膠重磅突破:攻克5nm芯片制造關(guān)鍵難題
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 近日,我國半導(dǎo)體材料領(lǐng)域迎來重大突破。北京大學(xué)化學(xué)與分子工程學(xué)院彭海琳教授團(tuán)隊(duì)及合作者通過冷凍電子斷層掃描技術(shù),首次在原位狀態(tài)下解...
2025-10-27 標(biāo)簽:光刻膠 7k 0
從光固化到半導(dǎo)體材料:久日新材的光刻膠國產(chǎn)替代之路
當(dāng)您尋找可靠的國產(chǎn)半導(dǎo)體材料供應(yīng)商時,一家在光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)全產(chǎn)業(yè)鏈突破的企業(yè)正脫穎而出——久日新材(688199.SH)。這家光引發(fā)劑巨頭,正以令人矚目...
國產(chǎn)百噸級KrF光刻膠樹脂產(chǎn)線正式投產(chǎn)
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 近日,八億時空宣布其KrF光刻膠萬噸級半導(dǎo)體制程高自動化研發(fā)/量產(chǎn)雙產(chǎn)線順利建成,標(biāo)志著我國在中高端光刻膠領(lǐng)域的自主化進(jìn)程邁出...
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 光刻膠作為芯片制造光刻環(huán)節(jié)的核心耗材,尤其高端材料長期被日美巨頭壟斷,國外企業(yè)對原料和配方高度保密,我國九成以上光刻膠依賴進(jìn)口...
行業(yè)案例|膜厚儀應(yīng)用測量之光刻膠厚度測量
光刻膠,又稱光致抗蝕劑,是一種關(guān)鍵的耐蝕劑刻薄膜材料。它在紫外光、電子束、離子束、X 射線等的照射或輻射下,溶解度會發(fā)生變化,主要應(yīng)用于顯示面板、集成電...
2025-07-11 標(biāo)簽:光刻膠 629 0
金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合物應(yīng)用及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 在半導(dǎo)體及微納制造領(lǐng)域,光刻膠剝離工藝對金屬結(jié)構(gòu)的保護(hù)至關(guān)重要。傳統(tǒng)剝離液易造成金屬過度蝕刻,影響器件性能。同時,光刻圖形的精確測量是保障工藝質(zhì)量...
引言 在芯片制造過程中,光刻膠剝離是關(guān)鍵環(huán)節(jié),而傳統(tǒng)剝離液易對芯片金屬層造成腐蝕,影響器件性能。同時,光刻圖形的精確測量對芯片制造工藝的優(yōu)化至關(guān)重要。本...
光刻膠圖案化方法及光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠的圖案化和剝離是形成精確圖形結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵步驟,而光刻圖形的準(zhǔn)確測量則是確保工藝質(zhì)量的重要環(huán)節(jié)。本文將詳細(xì)介紹光刻膠...
金屬低刻蝕的光刻膠剝離液及其應(yīng)用及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離是重要工序。傳統(tǒng)剝離液常對金屬層產(chǎn)生過度刻蝕,影響器件性能。同時,光刻圖形的精確測量也是確保制造質(zhì)量的關(guān)鍵。...
減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量
? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié),但其可能對器件性能產(chǎn)生負(fù)面影響。同時,光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文...
引言 隨著半導(dǎo)體技術(shù)向高密度、高性能方向發(fā)展,疊層晶圓技術(shù)成為關(guān)鍵。在疊層晶圓制造過程中,光刻膠剝離液的性能對工藝質(zhì)量和器件可靠性影響重大。同時,精確測...
一、光刻工藝概述 光刻工藝是半導(dǎo)體制造的核心技術(shù),通過光刻膠在特殊波長光線或者電子束下發(fā)生化學(xué)變化,再經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕等工藝過程,將設(shè)計(jì)在掩膜上的圖...
引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工行業(yè),光刻膠剝離液的使用量龐大。傳統(tǒng)剝離液存在環(huán)境污染、資源消耗等問題,可再生光刻膠剝離液憑借環(huán)保與可持續(xù)優(yōu)勢成為研究熱點(diǎn)。...
光刻膠產(chǎn)業(yè)國內(nèi)發(fā)展現(xiàn)狀
如果說最終制造出來的芯片是一道美食,那么光刻膠就是最初的重要原材料之一,而且是那種看起來可能不起眼,但卻能決定一道菜味道的關(guān)鍵輔料。 光刻膠(photo...
2025-06-04 標(biāo)簽:光刻膠 1.7k 0
引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時,精準(zhǔn)測量光刻圖形對把控工藝質(zhì)...
引言 在半導(dǎo)體制造、微納加工等領(lǐng)域,光刻膠剝離是光刻工藝的關(guān)鍵環(huán)節(jié)之一,直接影響后續(xù)工藝的進(jìn)行和最終產(chǎn)品的質(zhì)量。而對光刻圖形的精確測量,能夠有效監(jiān)控光刻...
微流控芯片制造過程中,勻膠是關(guān)鍵步驟之一,而勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速會在多個方面對微流控芯片的精度產(chǎn)生影響: 對光刻膠厚度的影響 勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速與光刻膠厚度成反比關(guān)系。旋...
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