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標簽 > 光刻膠
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。
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引言 在半導(dǎo)體制造、微納加工等領(lǐng)域,光刻膠剝離是光刻工藝的關(guān)鍵環(huán)節(jié)之一,直接影響后續(xù)工藝的進行和最終產(chǎn)品的質(zhì)量。而對光刻圖形的精確測量,能夠有效監(jiān)控光刻...
引言 隨著半導(dǎo)體技術(shù)向高密度、高性能方向發(fā)展,疊層晶圓技術(shù)成為關(guān)鍵。在疊層晶圓制造過程中,光刻膠剝離液的性能對工藝質(zhì)量和器件可靠性影響重大。同時,精確測...
行業(yè)案例|膜厚儀應(yīng)用測量之光刻膠厚度測量
光刻膠,又稱光致抗蝕劑,是一種關(guān)鍵的耐蝕劑刻薄膜材料。它在紫外光、電子束、離子束、X 射線等的照射或輻射下,溶解度會發(fā)生變化,主要應(yīng)用于顯示面板、集成電...
2025-07-11 標簽:光刻膠 676 0
艾森半導(dǎo)體在2021世界半導(dǎo)體大會上再次榮獲“IC獨角獸”
2021-06-16 標簽:光刻膠艾森半導(dǎo)體 676 0
引言 在芯片制造過程中,光刻膠剝離是關(guān)鍵環(huán)節(jié),而傳統(tǒng)剝離液易對芯片金屬層造成腐蝕,影響器件性能。同時,光刻圖形的精確測量對芯片制造工藝的優(yōu)化至關(guān)重要。本...
9.5.14 光刻膠配套試劑∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
Ancillaries撰稿人:北京科華微電子材料有限公司陳昕http://www.kempur.com審稿人:復(fù)旦大學(xué)鄧海https://www.fud...
2022-02-20 標簽:光刻膠 648 0
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