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標(biāo)簽 > 光刻膠

光刻膠

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光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對(duì)光敏感的混合液體。

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光刻膠資訊

西隴科學(xué)9天8板,回應(yīng)稱“未生產(chǎn)、銷售光刻膠”

 20日,西隴科學(xué)(株)發(fā)布公告稱,該公司沒有生產(chǎn)銷售礦產(chǎn)品。公司生產(chǎn)及銷售用于清洗劑、顯影液、剝離液等的光刻膠,占公司營(yíng)業(yè)收入的比例,是目前用于上述用...

2023-11-21 標(biāo)簽:清洗劑光刻膠 1.4k 0

光刻膠國(guó)內(nèi)頭部企業(yè)阜陽(yáng)欣奕華完成超5億元D輪融資

來源:欣奕華材料 據(jù)欣奕華材料官微消息,近日,國(guó)內(nèi)光刻膠龍頭企業(yè)阜陽(yáng)欣奕華材料科技有限公司(以下簡(jiǎn)稱“阜陽(yáng)欣奕華”)完成超5億元人民幣 D 輪融資。 據(jù)...

2023-06-13 標(biāo)簽:光刻膠 1.4k 0

光刻膠供應(yīng)商陶氏化學(xué)美國(guó)Plaquemine工廠爆炸

就此次事件,陶氏化學(xué)發(fā)表聲明稱,該工廠于7月14日發(fā)生火災(zāi),就此次事件,正在與當(dāng)?shù)丶爸輽C(jī)構(gòu)密切合作。所有人員都被判定為安全,空氣檢查中沒有檢測(cè)出空氣中的...

2023-07-17 標(biāo)簽:半導(dǎo)體光刻膠 1.4k 0

晶能首款SiC半橋模塊試制成功

該模塊電氣設(shè)計(jì)優(yōu)異,寄生電感5nH;采用雙面銀燒結(jié)與銅線鍵合工藝,配合環(huán)氧樹脂轉(zhuǎn)模塑封工藝,持續(xù)工作結(jié)溫達(dá)175℃,在800V電池系統(tǒng)中輸出電流有效值高...

2023-09-18 標(biāo)簽:pcbSiC光刻膠 1.4k 0

JSR尋求升級(jí)芯片材料制造技術(shù),收購(gòu)JIC后推動(dòng)

對(duì)于未來發(fā)展,JSR強(qiáng)調(diào)通過并購(gòu)獲取新技術(shù)及擴(kuò)大規(guī)模是實(shí)現(xiàn)成功的關(guān)鍵。作為全球最大的光刻膠生產(chǎn)商之一,JSR在半導(dǎo)體晶圓電路形成領(lǐng)域占據(jù)了27%的市場(chǎng)份...

2024-04-18 標(biāo)簽:半導(dǎo)體光刻膠SK海力士 1.4k 0

國(guó)產(chǎn)光刻膠通過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證

國(guó)產(chǎn)光刻膠通過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證

來源:太紫微公司 近日,光谷企業(yè)在半導(dǎo)體專用光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)重大突破:武漢太紫微光電科技有限公司(以下簡(jiǎn)稱“太紫微公司”)推出的T150 A光刻膠產(chǎn)品,已...

2024-10-17 標(biāo)簽:半導(dǎo)體光刻膠 1.4k 0

瑞紅集成電路高端光刻膠總部落戶吳中

據(jù)吳中發(fā)布的最新消息,簽約項(xiàng)目涵蓋了瑞紅集成電路高端光刻膠總部項(xiàng)目,該項(xiàng)投資高達(dá)15億元,旨在新建半導(dǎo)體光刻膠及其配套試劑的生產(chǎn)基地。

2024-01-26 標(biāo)簽:集成電路半導(dǎo)體光刻膠 1.3k 0

微泡對(duì)臭氧水去除光刻膠的影響實(shí)驗(yàn)

臭氧水中微氣泡的存在顯著提高了光刻膠的去除率,這是由于溶解臭氧濃度的升高和微氣泡對(duì)自由基產(chǎn)生的直接影響。此外,臭氧微氣泡溶液能夠有效地去除高劑量離子植入...

2022-01-27 標(biāo)簽:半導(dǎo)體測(cè)量光刻膠 1.3k 0

光刻膠又遇“卡脖子”,國(guó)產(chǎn)替代刻不容緩

由于KrF光刻膠產(chǎn)能受限以及全球晶圓廠積極擴(kuò)產(chǎn)等,占據(jù)全球光刻膠市場(chǎng)份額超兩成的日本供應(yīng)商信越化學(xué)已經(jīng)向中國(guó)大陸多家一線晶圓廠限制供貨KrF光刻膠,且已...

2021-06-25 標(biāo)簽:半導(dǎo)體光刻膠 1.3k 0

500億!光刻膠巨頭將被收購(gòu)

來源:集微網(wǎng)、芯榜,謝謝 編輯:感知芯視界 6月25日消息,據(jù)日媒報(bào)道,日本半導(dǎo)體設(shè)備制造商 JSR 昨日表示,該公司正在考慮一項(xiàng)由國(guó)家支持的日本產(chǎn)業(yè)革...

2023-06-26 標(biāo)簽:光刻膠 1.3k 0

微泡對(duì)臭氧水去除光刻膠的影響報(bào)告

微泡對(duì)臭氧水去除光刻膠的影響報(bào)告

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2022-02-11 標(biāo)簽:臭氧測(cè)量光刻膠 1.3k 0

八億時(shí)空已取得光刻膠企業(yè)窄分布樹脂訂單

為提高八億時(shí)空公司整體發(fā)展水平,為公司未來各項(xiàng)業(yè)務(wù)的發(fā)展打下基礎(chǔ)。目前,公司正在集中進(jìn)行4項(xiàng)建設(shè),分別為:北京年度100噸顯示液晶材料第二期工程、上海波...

2023-08-08 標(biāo)簽:新能源材料光刻膠 1.3k 0

改善去除負(fù)光刻膠效果的方法報(bào)告

改善去除負(fù)光刻膠效果的方法報(bào)告

摘要 我們?nèi)A林科納提出了一種新型的雙層光阻劑方法來減少負(fù)光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑,選擇負(fù)光刻膠作為頂層抗蝕膠。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度...

2022-01-26 標(biāo)簽:清洗光刻膠 1.2k 0

今日看點(diǎn)丨消息稱臺(tái)積電 3nm 工藝 A17 Bionic、M3 良率僅 55%;光刻膠供應(yīng)商陶氏化學(xué)美國(guó)Plaquemine工廠爆炸

今日看點(diǎn)丨消息稱臺(tái)積電 3nm 工藝 A17 Bionic、M3 良率僅 55%;光刻膠供應(yīng)商陶氏化學(xué)美國(guó)Plaquemine工廠爆炸

1. 消息稱臺(tái)積電 3nm 工藝 A17 Bionic 、M3 良率僅 55% ,蘋果只付合格品費(fèi)用 ? 據(jù)報(bào)道,蘋果公司為了生產(chǎn) A17 Bionic...

2023-07-17 標(biāo)簽:臺(tái)積電光刻膠 1.2k 0

光刻膠技術(shù)創(chuàng)新引領(lǐng)共性難題解決新方向

隨著半導(dǎo)體制造工藝節(jié)點(diǎn)不斷發(fā)展至100納米甚至更小的10納米級(jí)別,如何制作出尺寸精度高、表面特征優(yōu)秀、線邊緣粗糙度低的光刻圖形已逐漸成為整個(gè)行業(yè)面臨的挑戰(zhàn)。

2024-04-02 標(biāo)簽:半導(dǎo)體制造EUV光刻膠 1.2k 0

萬(wàn)潤(rùn)股份2023年實(shí)現(xiàn)凈利潤(rùn)7.21億元-7.93億元,同比預(yù)增0-10%

針對(duì)業(yè)績(jī)?cè)鲩L(zhǎng)原因,該公司表示,今年以來,雖然受到MP抗原檢測(cè)產(chǎn)品下游需求疲軟的不利因素制約,但其加強(qiáng)了國(guó)內(nèi)國(guó)際兩個(gè)市場(chǎng)的拓展力度,不斷升級(jí)和改良工藝流程...

2024-01-18 標(biāo)簽:MP半導(dǎo)體材料光刻膠 1.2k 0

9.5.10 極紫外光刻膠∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

9.5.10 極紫外光刻膠∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

點(diǎn)擊上方藍(lán)字關(guān)注我們EUVPhotoresist撰稿人:北京科華微電子材料有限公司陳昕http://www.kempur.com審稿人:復(fù)旦大學(xué)鄧海ht...

2022-02-15 標(biāo)簽:集成電路光刻膠 1.2k 0

欣奕華成為安徽省首家新材料自主供應(yīng)企業(yè)

 本次榮獲“首批新材料”稱號(hào)的藍(lán)色顯示光刻膠,歷經(jīng)公司多年密集研發(fā),同行業(yè)相較其關(guān)鍵參數(shù)處于領(lǐng)先地位,多項(xiàng)性能優(yōu)于國(guó)際同類產(chǎn)品,目前暢銷于多個(gè)行業(yè)知名品牌。

2024-05-20 標(biāo)簽:產(chǎn)業(yè)鏈新材料光刻膠 1.2k 0

鼎龍股份投資300噸KrF/ArF光刻膠產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目,增資擴(kuò)股?

據(jù)了解,潛江新材料主營(yíng)業(yè)務(wù)含電子專用材料研發(fā)、銷售、制造,及工程和技術(shù)研究發(fā)展、新材料技術(shù)研發(fā)等多個(gè)領(lǐng)域。本次增資后,鼎龍股份對(duì)潛江新材料的持股比例減至...

2023-12-26 標(biāo)簽:新材料光刻膠半導(dǎo)體芯片 1.2k 0

三星減少NAND生產(chǎn)光刻膠使用量

近日,據(jù)相關(guān)報(bào)道,三星電子在3D NAND閃存生產(chǎn)領(lǐng)域取得了重要技術(shù)突破,成功大幅減少了光刻工藝中光刻膠的使用量。 據(jù)悉,三星已經(jīng)制定了未來NAND閃存...

2024-11-27 標(biāo)簽:半導(dǎo)體NAND光刻膠 1.1k 0

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    ESP8266
    +關(guān)注
    wifi模塊ESP8266的默認(rèn)波特率是115200,但是單片機(jī)不能達(dá)到那么快的傳輸速率,只能使用4800bps,那么設(shè)置的時(shí)候,必不可少的要先用轉(zhuǎn)串口調(diào)試下載器。
  • TMS320F28335
    TMS320F28335
    +關(guān)注
    TMS320F28335是一款TI高性能TMS320C28x系列32位浮點(diǎn)DSP處理器
  • 靜電防護(hù)
    靜電防護(hù)
    +關(guān)注
    為防止靜電積累所引起的人身電擊、火災(zāi)和爆炸、電子器件失效和損壞,以及對(duì)生產(chǎn)的不良影響而采取的防范措施。其防范原則主要是抑制靜電的產(chǎn)生,加速靜電泄漏,進(jìn)行靜電中和等。
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視頻放大器 功率放大器 頻率轉(zhuǎn)換器 揚(yáng)聲器放大器 音頻轉(zhuǎn)換器 音頻開關(guān) 音頻接口 音頻編解碼器
模數(shù)轉(zhuǎn)換器 數(shù)模轉(zhuǎn)換器 數(shù)字電位器 觸摸屏控制器 AFE ADC DAC 電源管理
線性穩(wěn)壓器 LDO 開關(guān)穩(wěn)壓器 DC/DC 降壓轉(zhuǎn)換器 電源模塊 MOSFET IGBT
振蕩器 諧振器 濾波器 電容器 電感器 電阻器 二極管 晶體管
變送器 傳感器 解析器 編碼器 陀螺儀 加速計(jì) 溫度傳感器 壓力傳感器
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開關(guān)電源 步進(jìn)電機(jī) 無(wú)線充電 LabVIEW EMC PLC OLED 單片機(jī)
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