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標簽 > 光刻膠
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。
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傳統(tǒng)光學器件因體積笨重等缺點無法滿足現(xiàn)代光學設(shè)備對光學系統(tǒng)集成化的要求,隨著超構(gòu)表面的迅速發(fā)展,新一代微型光學系統(tǒng)的出現(xiàn)成為可能。超構(gòu)表面是一種由人工設(shè)...
鼎龍(仙桃)半導體材料產(chǎn)業(yè)園投產(chǎn)
據(jù)鼎龍控股集團消息,鼎龍(仙桃)半導體材料產(chǎn)業(yè)園區(qū)占地218畝,建筑面積11.5萬平方米,項目總投資約10億元人民幣。經(jīng)過15個月的建設(shè),同時進入千噸級...
中國試圖曲線救芯購買二手光刻機 實現(xiàn)12英寸國產(chǎn)芯片生產(chǎn)!
光刻機被美國制裁阻撓之后,中國企業(yè)發(fā)揮了曲線救芯的創(chuàng)新思維,從韓國代理商購買了二手ASML浸沒式光刻機,有望打破美日歐壟斷,實現(xiàn)12英寸國產(chǎn)芯片生產(chǎn)! ...
光刻膠類別的多樣化,此次漲價案所涉KrF光刻膠屬于高階防護用品,也是未來各地廠家的競爭焦點。當前市場中,光刻膠主要由東京大賀工業(yè)、杜邦、JSR、信越化學...
三星擬應(yīng)用金屬氧化物抗蝕劑(MOR)于DRAM EUV光刻工藝
據(jù)悉,MOR作為被廣泛看好的下一代光刻膠(PR)解決方案,有望替代現(xiàn)今先進芯片光刻工藝中的化學放大膠(CAR)。然而,CAR在提升PR分辨率、增強抗蝕能...
通常,光刻膠只是用作構(gòu)建圖形步驟中的臨時掩膜。因此,光刻工藝的最后一步通常是需要去除光刻膠,我們稱之為去膠或者除膠。并且對去膠過程的要求是:迅速去膠且沒...
2024-07-08 標簽:光刻膠 3.1k 0
光刻膠主要下游應(yīng)用包括:顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導體制造等,其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用,占比30%。光刻膠在半導體制造應(yīng)用占比24%,是第三...
根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝,我們可以采用適當?shù)姆椒▽σ扬@影的光刻膠結(jié)構(gòu)進行處理以提高其化學或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實現(xiàn)整個光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián),...
2024-07-10 標簽:光刻膠 3k 0
Accura BE作為國產(chǎn)首臺12英寸晶邊刻蝕設(shè)備,其技術(shù)性能已達到業(yè)界主流水平。” Accura BE通過軟件系統(tǒng)調(diào)度優(yōu)化和特有傳輸平臺的結(jié)合,可以提...
2023-07-19 標簽:芯片制造軟件系統(tǒng)光刻膠 3k 0
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/李彎彎)近期,大基金減持大有加速之勢,9月以來多家半導體企業(yè)發(fā)布公告成,股東大基金擬減持公司股份,包括三安光電、雅克科技、萬業(yè)企業(yè)...
SK海力士將在1c DRAM生產(chǎn)中采用新型Inpria MOR光刻膠
據(jù) TheElec報道,SK Hynix 已決定在其第 6 帶(即 1c 工藝,約為 10nm)DRAM 生產(chǎn)過程中采用 Inpria 下一代金屬氧化物...
掩膜版與光刻膠在芯片制造過程中扮演著不可或缺的角色,它們的功能和作用各有側(cè)重,但共同促進了芯片的精確制造。? 掩膜版?,也稱為光罩、光掩膜或光刻掩膜版,...
泛林集團旗下GAMMA?系列干式光刻膠剝離系統(tǒng)推出最新一代產(chǎn)品
泛林集團旗下GAMMA系列干式光刻膠剝離系統(tǒng)推出最新一代產(chǎn)品,將該系列GxT系統(tǒng)晶圓加工能力從300mm拓展至200mm。作為專供特種技術(shù)市場的產(chǎn)品,G...
評價一款光刻膠是否適合某種應(yīng)用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)是衡量曝光速...
2024-07-10 標簽:光刻膠 2.8k 0
年產(chǎn)千噸電子級光刻膠原材料,微芯新材生產(chǎn)基地簽約湖州
湖州國資消息,寧波微芯新材料科技有限公司的半導體材料生產(chǎn)基地項目總投資3.5億元人民幣,用地35畝,年產(chǎn)1000噸的電子級光刻膠原材料(光刻膠樹脂、高等...
超構(gòu)器件的前沿研究與技術(shù)發(fā)展現(xiàn)狀
超構(gòu)光學為平面光學器件的發(fā)展提供了新的思路與方向。超構(gòu)器件由亞波長人工納米結(jié)構(gòu)組成,能在二維平面上實現(xiàn)對入射光的振幅、相位和偏振的操縱。研究人員已經(jīng)發(fā)展...
我國半導體硅片的發(fā)展現(xiàn)狀及發(fā)展態(tài)勢
集成電路是最重要的半導體產(chǎn)品,硅片是集成 電路最重要的基礎(chǔ)材料,處于集成電路產(chǎn)業(yè)鏈前 端,在集成電路芯片制造材料中占比達30%以上, 90% 以上的集成...
光刻膠成為半導體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料
光刻膠是半導體制造等領(lǐng)域的一種重要材料,在整個電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中,感光樹脂決定了光刻...
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