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標簽 > 光刻膠

光刻膠

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光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。

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光刻膠資訊

消色差超構(gòu)表面復合透鏡在近紅外波段的消色差效果

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首臺國產(chǎn)12英寸晶邊刻蝕機發(fā)布

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光刻膠成為半導體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料

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