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標(biāo)簽 > 光刻膠
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對(duì)光敏感的混合液體。
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2020年中國(guó)純晶圓代工市場(chǎng)規(guī)模同比實(shí)現(xiàn)26%增長(zhǎng)
而央視采訪的華天科技技術(shù)人員表示,像她以往在這個(gè)行業(yè)從事了十幾年,從來(lái)沒(méi)遇到過(guò)這么緊張的情況,尤其在光刻膠這一塊,以往都是供應(yīng)商找上門(mén),可現(xiàn)在的情況是廠...
日本已部分解除對(duì)韓國(guó)出口光刻膠的限制 日韓制裁爭(zhēng)端或緩解
2019年7月初,日韓突然陷入制裁爭(zhēng)端,日本宣布限制對(duì)韓出口三種關(guān)鍵的半導(dǎo)體材料,分別是電視和手機(jī)OLED面板上使用的氟聚酰亞胺(Fluorine Po...
2019-12-24 標(biāo)簽:光刻膠 3.7k 0
基板分為樹(shù)脂基板和玻璃基板。用以制作掩模版的掩膜基板必須內(nèi)部和兩表面都無(wú)缺陷。必須于光刻膠的曝光波長(zhǎng)下有高的光學(xué)透射率。用來(lái)制作掩模版的常見(jiàn)材質(zhì)有石英玻...
強(qiáng)力新材:募集資金將主要用于環(huán)保型光引發(fā)劑和UV-LED高性能樹(shù)脂
強(qiáng)力新材24日晚間披露,公司發(fā)行可轉(zhuǎn)債申請(qǐng)獲得深交所創(chuàng)業(yè)板上市委審核通過(guò)。根據(jù)公司此前披露的預(yù)案及修訂稿,強(qiáng)力新材本次擬公開(kāi)發(fā)行可轉(zhuǎn)債募集資金總額從不超...
我國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)中,下游設(shè)計(jì)已經(jīng)能夠進(jìn)入全球第一梯隊(duì),中游晶圓制造也在迎頭趕上,而上游設(shè)備及材 料領(lǐng)域與海外龍頭仍存在較大差距。以半導(dǎo)體材料中技術(shù)難度最大...
全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模從2016 年的15 億美元增長(zhǎng)至2019年的18億美元,年復(fù)合增長(zhǎng)率達(dá)6.3%;應(yīng)用方面,光刻膠主要應(yīng)用在PCB、半導(dǎo)體及LCD顯示...
日本關(guān)鍵半導(dǎo)體材料嚴(yán)格出口對(duì)全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)影響分析
日本與韓國(guó)對(duì)于第二次世界大戰(zhàn)強(qiáng)制征用民工的問(wèn)題無(wú)法達(dá)到共識(shí)以及妥善的處理,日本政府將祭出一連串的出口管制措施。
2019-07-04 標(biāo)簽:半導(dǎo)體材料光刻膠 3.6k 0
盡管三星方面沒(méi)有透露具體的公司名字,但出售EUV光刻膠的應(yīng)該是日本JSR公司與比利時(shí)微電子中心IMEC合作成立的公司,2016年成立,主要由JSR比利時(shí)...
為避免光刻膠瑕疵事件再次發(fā)生,臺(tái)積電將成立品質(zhì)管理檢測(cè)單位
日前,臺(tái)積電爆發(fā)光刻膠規(guī)格不符事件導(dǎo)致大量報(bào)廢晶圓,牽動(dòng)公司內(nèi)部?jī)刹块T(mén)的人事異動(dòng),包括這次事件爆發(fā)地的14 廠廠長(zhǎng)已換將。
半導(dǎo)體光刻膠重要性凸出,國(guó)產(chǎn)替代加速推進(jìn)
光刻膠是IC制造的核心耗材,技術(shù)壁壘極高。根據(jù)TECHCET數(shù)據(jù),預(yù)計(jì)2022年全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到23億美元,同比增長(zhǎng)7.5%,2025年超過(guò)...
世名科技光刻膠材料項(xiàng)目正式簽約,總投資 20 億元
據(jù)馬鞍山發(fā)布,安徽馬鞍山慈湖高新區(qū)舉辦通信通訊產(chǎn)業(yè)重點(diǎn)項(xiàng)目集中簽約儀式。其中,簽約的部分項(xiàng)目包括:蘇州世名光刻膠納米材料產(chǎn)業(yè)園項(xiàng)目,由世名科技投資,從事...
國(guó)產(chǎn)高端光刻膠量產(chǎn),分辨率達(dá)到了0.25~0.13μm
作為芯片產(chǎn)業(yè)鏈上的重要一環(huán)——光刻膠,是由樹(shù)脂,感光劑,溶劑,光引發(fā)劑等組成的混合液態(tài)感光材料。
2023-03-15 標(biāo)簽:光刻膠 3.4k 0
基于碲化鉍納米線的長(zhǎng)波紅外光熱電探測(cè)器開(kāi)發(fā)
碲化鉍(Bi?Te?)是一種具有層狀范德華結(jié)構(gòu)的二維材料,歸因于拓?fù)浣^緣體的特性,其載流子遷移率較高。
提到半導(dǎo)體芯片,大家往往能想到的公司是設(shè)計(jì)類的高通、海思、英偉達(dá)、AMD、聯(lián)發(fā)科、蘋(píng)果,代工類的臺(tái)積電、中芯國(guó)際,以及全能型的英特爾、三星。 但是,以上...
先投2800萬(wàn)美元,美國(guó)杜邦擬在韓國(guó)生產(chǎn)光刻膠
杜邦將擴(kuò)建位于韓國(guó)中部天安市的現(xiàn)有工廠,生產(chǎn)涂覆在半導(dǎo)體基板上的感光劑“光刻膠”。
半導(dǎo)體技術(shù)新進(jìn)展,南大光電高端ArF光刻膠獲得突破
在半導(dǎo)體制造方面,國(guó)內(nèi)廠商需要突破的不只是光刻機(jī)等核心設(shè)備,光刻膠也是重要的一環(huán)。而南大光電研發(fā)的高端ArF光刻機(jī),已經(jīng)獲得了國(guó)內(nèi)某企業(yè)的認(rèn)證,可用于5...
一、光刻工藝概述 光刻工藝是半導(dǎo)體制造的核心技術(shù),通過(guò)光刻膠在特殊波長(zhǎng)光線或者電子束下發(fā)生化學(xué)變化,再經(jīng)過(guò)曝光、顯影、刻蝕等工藝過(guò)程,將設(shè)計(jì)在掩膜上的圖...
負(fù)性光刻膠。樹(shù)脂是聚異戊二烯,一種天然的橡膠;溶劑是二甲苯;感光劑是一種經(jīng)過(guò)曝光后釋放出氮?dú)獾墓饷魟a(chǎn)生的自由基在橡膠分子間形成交聯(lián)。從而變得不溶于顯...
來(lái)源:?果殼硬科技 1、光刻膠究竟是怎樣一個(gè)行業(yè)? 光刻膠,又稱“光致抗蝕劑”,是光刻成像的承載介質(zhì),可利用光化學(xué)反應(yīng)將光刻系統(tǒng)中經(jīng)過(guò)衍射、濾波后的光信...
為了確保光刻工藝的可重復(fù)性、可靠性和可接受性,必須在基板表面上均勻涂覆光刻膠。光刻膠通常分散在溶劑或水溶液中,是一種高粘度材料。根據(jù)工藝要求,有許多工藝...
2024-07-11 標(biāo)簽:光刻膠 3.1k 0
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