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標簽 > 光刻膠
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。
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晶瑞電材子公司引入戰(zhàn)投中石化資本,定增募資8.5億元加碼光刻膠項目
控股子公司瑞紅(蘇州)電子化學品股份有限公司(以下簡稱“瑞紅蘇州”)因經營發(fā)展需要,擬引入戰(zhàn)略投資者中國石化集團資本有限公司(以下簡稱“中石化資本”),...
南大光電(300346)7月17日在互動平臺透露,公司設立光刻膠事業(yè)部,并成立了全資子公司寧波南大光電材料有限公司,全力推進ArF光刻膠開發(fā)和產業(yè)化項目...
會上,經開區(qū)分別同4家企業(yè)就功率器件IC封測項目、超級功率電池及鋰電池PACK產線項目、氫能產業(yè)集群項目、高性能電池項目進項現(xiàn)場簽約。會議還舉行了《20...
艾森股份科創(chuàng)板IPO獲受理!電子化學品供應長電科技、日月新等封測大廠,募資7.11億擴產
電子發(fā)燒友網報道(文/劉靜)近日,上交所披露,江蘇艾森半導體材料股份有限公司(簡稱:艾森股份)的招股說明書,正式受理艾森股份的科創(chuàng)板IPO上市申請,為國...
JSR收購交易是日本加速增強其芯片產業(yè)競爭力的標志性事件之一。從1980年代末至今,日本所占據的全球半導體市場份額從50%下降至10%左右。事實上,在過...
南大光電:有兩款ArF光刻膠進入批量驗證階段,部分原材料外購解決
南大光電的激烈的市場競爭,公司充分發(fā)揮協(xié)同效應,以高品質、優(yōu)質的服務,利用低成本優(yōu)勢鞏固量占有率的同時,提高產品質量,通過加快建設全球ic客戶的滲透和海...
關于光刻膠及其他芯片制造材料的未來銷售預期,渡邊義人表示,“2023財年,公司半導體材料銷售額已突破1000億日元(約合6.4億美元),我們期待在203...
在微流控PDMS芯片或SU-8模具制作的過程中,需要把PDMS膠或SU-8光刻膠根據所需要的厚度來選擇合適的旋涂轉速并且使PDMS膠或SU-8膠涂布均勻...
Hidehito Takahashi指出,行業(yè)應進行整合以保持國際競爭力。 “半導體材料領域正是日本能在全球賽場上屢次取得勝利的關鍵領域之一。而現(xiàn)在這種...
在微流控PDMS芯片加工的過程中,需要使用烘膠臺或者烤膠設備對SU-8光刻膠或PDMS聚合物進行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進行2-3次。本文簡要...
隨著半導體器件的應用范圍越來越廣,晶圓制造技術也得到了快速發(fā)展。其中,光刻技術在晶圓制造過程中的地位尤為重要。光刻膠是光刻工藝中必不可少的材料,其質量直...
2025-01-03 標簽:光刻膠 1.4k 0
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