引言 ? 光刻膠又稱(chēng)“光致抗蝕劑”或“光阻劑”，被廣泛應(yīng)用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細(xì)圖形線路的加工制作，是微納制造技術(shù)的關(guān)鍵性材料。 光刻膠是光刻工藝最重要的耗材，其性能決定了加工成品的精密程度和良品率
2022-04-25 17:35:22
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關(guān)鍵詞：氧氣、微氣泡、光刻膠、高劑量離子注入、氣水界面 介紹? ??? 微氣泡是一種很有前途的環(huán)保光刻膠去除方法的候選方法。已經(jīng)證明，臭氧微氣泡可以去除硅片上的光刻劑，即使被高劑量的離子注入破壞
2022-01-10 11:37:131980 
光刻膠為何要謀求國(guó)產(chǎn)替代？中國(guó)國(guó)產(chǎn)光刻膠企業(yè)的市場(chǎng)發(fā)展機(jī)會(huì)和挑戰(zhàn)如何？光刻膠企業(yè)發(fā)展要具備哪些核心競(jìng)爭(zhēng)力？在南京半導(dǎo)體大會(huì)期間，徐州博康公司董事長(zhǎng)傅志偉和研發(fā)總監(jiān)潘新剛給我們帶來(lái)前沿觀點(diǎn)和獨(dú)家分析。
2022-08-29 15:02:238662 
光刻膠類(lèi)型及特性光刻膠（Photoresist），又稱(chēng)光致抗蝕劑，是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類(lèi)型和光刻膠特性。
2025-04-29 13:59:337845 
近日，上海新陽(yáng)發(fā)布公告稱(chēng)，公司自主研發(fā)的KrF（248nm）厚膜光刻膠產(chǎn)品已經(jīng)通過(guò)客戶認(rèn)證，并成功取得第一筆訂單，取得不錯(cuò)進(jìn)展。 ? 光刻膠用于半導(dǎo)體光刻工藝環(huán)節(jié)，是決定制造質(zhì)量的重要因素，根據(jù)曝光
2021-07-03 07:47:0026808 ，增幅11.11%。 ? 截圖自企查查 ? 光刻膠是芯片制造中光刻環(huán)節(jié)的重要材料，目前主要被日美把控，國(guó)內(nèi)在光刻膠方面投入研制的廠商主要晶瑞股份、南大光電、上海新陽(yáng)、徐州博康、北京科華等，那么華為投資的徐州博康在光刻膠方面有何優(yōu)勢(shì)，國(guó)內(nèi)廠商在光
2021-08-12 07:49:006896 領(lǐng)域進(jìn)行激烈競(jìng)爭(zhēng)的時(shí)候，中國(guó)國(guó)產(chǎn)光刻膠企業(yè)在國(guó)內(nèi)晶圓廠布局的成熟制程領(lǐng)域，展開(kāi)了新產(chǎn)品上市和量產(chǎn)的爭(zhēng)奪戰(zhàn)。 ? 南大光電最新消息顯示，國(guó)產(chǎn)193nm（ArF）光刻膠研發(fā)成功，這家公司成為通過(guò)國(guó)家“02專(zhuān)項(xiàng)”驗(yàn)收的ArF光刻膠項(xiàng)目實(shí)施主體；徐州博康宣布，該
2022-08-31 07:45:004234 厚膠量產(chǎn)到ArF浸沒(méi)式膠驗(yàn)證，從樹(shù)脂國(guó)產(chǎn)化到EUV原料突破，一場(chǎng)靜默卻浩蕩的技術(shù)突圍戰(zhàn)已進(jìn)入深水區(qū)。 ? 例如在248nm波長(zhǎng)的KrF光刻膠武漢太紫微的T150A膠以120nm分辨率和93.7%的良率通過(guò)中芯國(guó)際28nm產(chǎn)線驗(yàn)證，開(kāi)創(chuàng)了國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體光刻制造的新
2025-07-13 07:22:006083 ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 近日，八億時(shí)空宣布其KrF光刻膠萬(wàn)噸級(jí)半導(dǎo)體制程高自動(dòng)化研發(fā)/量產(chǎn)雙產(chǎn)線順利建成，標(biāo)志著我國(guó)在中高端光刻膠領(lǐng)域的自主化進(jìn)程邁出關(guān)鍵一步。 ? 此次建成的KrF光刻膠產(chǎn)線采用
2025-08-10 03:26:009092 2015年底，中國(guó)大陸已經(jīng)建成投產(chǎn)的面板生產(chǎn)線有25條，其中8.5代線有8條，6代線以下中小尺寸世代線有17條；目前正在建設(shè)中的有10條，計(jì)劃總投資金額為2103億元；另外還有5條世代線正在規(guī)劃中，預(yù)計(jì)到
2016-01-30 11:30:52
SU-8光刻膠 SU-8光刻膠克服了普通光刻膠采用UV光刻深寬比不足的問(wèn)題，在近紫外光（365nm-400nm）范圍內(nèi)光吸收度很低，且整個(gè)光刻膠層所獲得的曝光量均勻一致，可得到具有垂直側(cè)壁和高深寬比
2018-07-12 11:57:08
分辨率可達(dá)0.15mm；193nm光刻采用OPC技術(shù)和多層光刻膠技術(shù)分辨率可達(dá)0.1 mm。進(jìn)一步提高分辨率, 直至達(dá)到硅材料的極限0.1μｍ左右。另一條路線是采用更短波長(zhǎng)的激光如氟157ｎｍ和氬
2018-08-23 11:56:31
光刻膠也稱(chēng)為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會(huì)發(fā)生改變。光刻膠主要用來(lái)將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負(fù)膠之分。正膠經(jīng)過(guò)曝光后，受到光照的部分變得容易溶解，經(jīng)過(guò)顯影后被
2019-11-07 09:00:18
這是我的版圖一部分，然后生成了圖案是這樣的： 感覺(jué)間距小的地方全都有殘留，間距大的地方?jīng)]有殘留；工藝參數(shù)：s9920光刻膠， evg 620‘未進(jìn)行蒸汽底漆層涂覆，前烘：100攝氏度，90s
2016-11-29 14:59:18
Futurrex,成立于1985年，位總部設(shè)在美國(guó)新澤西州，富蘭克林市。 公司業(yè)務(wù)范圍覆蓋北美、亞太以及歐洲。Futurrex在開(kāi)發(fā)最高端產(chǎn)品方面已經(jīng)有很長(zhǎng)的歷史，尤其是其光刻膠
2010-04-21 10:57:46
SU 8光刻膠系列產(chǎn)品簡(jiǎn)介：新型的化學(xué)增幅型負(fù)像 SU- 8 膠是一種負(fù)性、環(huán)氧樹(shù)脂型、近紫外線光刻膠，克服了普通光刻膠采用 UV光刻導(dǎo)致的深寬比不足的問(wèn)題，十分適合于制備高深寬比微結(jié)構(gòu)。SU- 8
2018-07-04 14:42:34
書(shū)籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章：光刻前 GaAs 表面處理以改善濕化學(xué)蝕刻過(guò)程中的光刻膠附著力和改善濕蝕刻輪廓[/td][td]編號(hào)：JFSJ-21-0作者：炬豐科技網(wǎng)址：http
2021-07-06 09:39:22
TSMC，中芯國(guó)際SMIC 組成:核心:生產(chǎn)線，服務(wù):技術(shù)部門(mén)，生產(chǎn)管理部門(mén)，動(dòng)力站（雙路保障），廢水處理站(環(huán)保，循環(huán)利用)等。生產(chǎn)線主要設(shè)備: 外延爐，薄膜設(shè)備，光刻機(jī)，蝕刻機(jī)，離子注入機(jī)，擴(kuò)散爐
2025-03-27 16:38:20
噴膠機(jī)是現(xiàn)代光電子產(chǎn)業(yè)中光刻膠涂布的重要設(shè)備。可對(duì)不同尺寸和形狀的基片進(jìn)行涂膠，最大涂膠尺寸達(dá)8寸，得到厚度均勻的光刻膠層，同時(shí)可對(duì)大深寬比結(jié)構(gòu)的側(cè)壁進(jìn)行均勻涂膠；通過(guò)計(jì)算機(jī)系統(tǒng)控制器進(jìn)行工藝參數(shù)的編輯和操作。
2020-03-23 09:00:57
151n光刻膠曝光顯影后開(kāi)口底部都會(huì)有一撮殘留，找不到原因。各位幫分析下
2023-04-20 13:13:52
遼寧唯一廢舊電池回收生產(chǎn)線今年底將投入生產(chǎn)
2009年11月11日8:41:38 隨身聽(tīng)、時(shí)鐘、電動(dòng)玩具、遙控器……日子越過(guò)越好，
2009-11-11 08:41:47962 12英寸集成電路生產(chǎn)線今年底試投產(chǎn)
1月19日，“909工程升級(jí)改造———12英寸集成電路生產(chǎn)線項(xiàng)目”啟動(dòng)儀式在上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司舉行。中共中央
2010-01-25 10:37:371423 光刻膠與光刻工藝技術(shù) 微電路的制造需要把在數(shù)量上精確控制的雜質(zhì)引入到硅襯底上的微小 區(qū)域內(nèi),然后把這些區(qū)域連起來(lái)以形成器件和VLSI電路.確定這些區(qū)域圖形 的工藝是由光刻來(lái)完成的,也就是說(shuō),首先在硅片上旋轉(zhuǎn)涂覆光刻膠,再將 其曝露于某種光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:21
0 在成都高新西區(qū)，京東方第6代LTPS/AMOLED生產(chǎn)線項(xiàng)目算得上一座“低調(diào)而奢華”的工廠。對(duì)光電顯示產(chǎn)業(yè)的業(yè)內(nèi)人士來(lái)說(shuō)，這個(gè)正在緊張修建的項(xiàng)目意義非凡——這是京東方科技集團(tuán)股份有限公司史上最大的一次單筆投資，也是國(guó)內(nèi)第一條6代AM-OLED可折疊的柔性面板生產(chǎn)線。
2016-06-06 14:18:3215438 這是一種老式的旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)，將芯片上涂上光刻膠然后將芯片放到上邊，可以通過(guò)機(jī)器的旋轉(zhuǎn)的力度將光刻膠均勻分布到芯片表面，光刻膠只有均勻涂抹在芯片表面，才能保證光刻的成功。
2018-05-17 14:39:3719874 該項(xiàng)目建設(shè)地設(shè)在亦莊經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)東區(qū)B15地塊，占地面積約為10萬(wàn)平方米，總投資48億元。芯片生產(chǎn)廠房包含一條月產(chǎn)5萬(wàn)片（25次光刻）0.25um-0.09um（典型工藝為0.11um)、BCD兼容工藝的8英寸芯片生產(chǎn)線，預(yù)計(jì)今年底投產(chǎn)，建成達(dá)產(chǎn)后，可實(shí)現(xiàn)年銷(xiāo)售收入25.17億元
2018-07-11 16:06:002171 有報(bào)道稱(chēng)，總部位于臺(tái)灣的友達(dá)光電（AUO）決定建立一條噴墨OLED生產(chǎn)線，用于生產(chǎn)OLED顯示器以及車(chē)用OLED。
2018-10-18 09:24:575135 一條傳統(tǒng)制動(dòng)器生產(chǎn)線大約要13個(gè)裝配檢測(cè)工人，如果替換成沃鐳研發(fā)的半自動(dòng)化生產(chǎn)線，只需要3到5個(gè)工人。根據(jù)目前的人力成本來(lái)測(cè)算，一條半自動(dòng)化的生產(chǎn)線2-3年就可以收回成本。
2019-01-14 17:11:294438 2018年，南大光電和上海新陽(yáng)先后宣布，投入ArF光刻膠產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)與產(chǎn)業(yè)化，立志打破集成電路制造最為關(guān)鍵的基礎(chǔ)材料之一——高檔光刻膠材料幾乎完全依賴(lài)于進(jìn)口的局面，填補(bǔ)國(guó)內(nèi)高端光刻膠材料產(chǎn)品的空白。
2019-05-21 09:24:247863 
近日，南大光電在互動(dòng)平臺(tái)上表示，參股公司北京科華開(kāi)發(fā)的248nm光刻膠目前已通過(guò)包括中芯國(guó)際在內(nèi)的部分客戶的認(rèn)證。
2019-05-28 11:13:4010962 
早在2015年，南大光電入股北京科華并對(duì)外宣稱(chēng)，雙方將共同開(kāi)展193nm光刻膠的研究與產(chǎn)品開(kāi)發(fā)；如今，或許進(jìn)展不順等原因影響，南大光電將全部轉(zhuǎn)讓其持有的北京科華股權(quán)。
2019-06-24 08:46:0010576 7月17日，南大光電在互動(dòng)平臺(tái)透露，公司設(shè)立光刻膠事業(yè)部，并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”，全力推進(jìn)“ArF光刻膠開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”落地實(shí)施。目前該項(xiàng)目完成的研發(fā)技術(shù)正在等待驗(yàn)收中，預(yù)計(jì)2019年底建成一條光刻膠生產(chǎn)線，項(xiàng)目產(chǎn)業(yè)化基地建設(shè)順利。
2019-07-18 16:14:595656 預(yù)計(jì)2019年底建成一條光刻膠生產(chǎn)線，項(xiàng)目產(chǎn)業(yè)化基地建設(shè)順利。
2019-07-19 14:08:305922 光刻膠概念股南大光電10月23日公告，擬投資新建光刻膠材料以及配套原材料項(xiàng)目。
2019-10-24 16:47:213744 經(jīng)開(kāi)區(qū)企業(yè)北京欣奕華科技有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“欣奕華”）了解到，經(jīng)過(guò)多年的行業(yè)累積和技術(shù)迭代，欣奕華在平板顯示用負(fù)性光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了量產(chǎn)，預(yù)計(jì)今年將有1000噸的光刻膠交付用戶，約占國(guó)內(nèi)市場(chǎng)的8%。
2019-10-28 16:38:494539 數(shù)據(jù)顯示，截至9月底，廣東全省建成5G基站21473座，其中廣州建成10626座，廣州天河區(qū)已建成5G基站3020個(gè)，天河區(qū)基本實(shí)現(xiàn)5G全覆蓋。深圳建成9504座，佛山619座、東莞398座。預(yù)計(jì)今年底，全省5G基站將達(dá)到3.48萬(wàn)座。
2019-11-27 15:27:08692 近日，上海新陽(yáng)在投資者互動(dòng)平臺(tái)上表示，公司用于KRF248nm光刻膠配套的光刻機(jī)已完成廠內(nèi)安裝開(kāi)始調(diào)試，ARF193nm光刻膠配套的光刻機(jī)預(yù)計(jì)12月底到貨。
2019-12-04 15:24:458657 今年7月17日，南大光電在互動(dòng)平臺(tái)透露，公司設(shè)立光刻膠事業(yè)部，并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”，全力推進(jìn)“ArF光刻膠開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”落地實(shí)施。目前該項(xiàng)目完成的研發(fā)技術(shù)正在等待驗(yàn)收中，預(yù)計(jì)2019年底建成一條光刻膠生產(chǎn)線，項(xiàng)目產(chǎn)業(yè)化基地建設(shè)順利。
2019-12-16 13:58:528273 杜邦將擴(kuò)建位于韓國(guó)中部天安市的現(xiàn)有工廠，生產(chǎn)涂覆在半導(dǎo)體基板上的感光劑“光刻膠”。
2020-01-10 15:46:473191 隨著電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展的突飛猛進(jìn)，光刻膠市場(chǎng)總需求不斷提升。2019年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模預(yù)計(jì)接近90億美元，自2010年至今CAGR約5.4%，預(yù)計(jì)未來(lái)3年仍以年均5%的速度增長(zhǎng)，預(yù)計(jì)至2022年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將超過(guò)100億美元。
2020-03-01 19:02:484848 在國(guó)際半導(dǎo)體領(lǐng)域，我國(guó)雖已成為半導(dǎo)體生產(chǎn)大國(guó)，但整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈仍比較落后。特別是由于國(guó)內(nèi)光刻膠廠布局較晚，半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)相較于海外先進(jìn)技術(shù)差距較大，國(guó)產(chǎn)化不足5%。在這種條件下，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體廠商積極開(kāi)展研究，如晶瑞股份的KrF光刻膠，南大光電的ArF光刻膠均取得較好的研究效果。
2020-03-06 15:40:565517 近日，南大光電在互動(dòng)平臺(tái)透露，寧波南大光電目前已安裝完成第一條ArF（193nm）光刻膠生產(chǎn)線，該產(chǎn)線仍處于調(diào)試階段。目前，研發(fā)的產(chǎn)品正在測(cè)試、認(rèn)證過(guò)程中，尚未形成量產(chǎn)和銷(xiāo)售。
2020-03-09 10:51:344868 從豐田處獲悉，廣汽豐田已斥資9.19億元拍下廣州市南沙一處面積超過(guò)70萬(wàn)平方米的工業(yè)用地，用以投建第五條生產(chǎn)線，計(jì)劃年產(chǎn)能20萬(wàn)輛，預(yù)計(jì)2022年建成投產(chǎn)。據(jù)悉，未來(lái)廣汽豐田將主要在此生產(chǎn)新能源汽車(chē)產(chǎn)品。
2020-03-20 10:24:25906 光刻膠按應(yīng)用領(lǐng)域分類(lèi)，大致分為L(zhǎng)CD光刻膠、PCB光刻膠（感光油墨）與半導(dǎo)體光刻膠等。按照下游應(yīng)用來(lái)看，目前LCD光刻膠占比26．6%，刻膠占比24．5%，半導(dǎo)體光刻膠占比24．1%，PCB光其他類(lèi)光刻膠占比24．8%。
2020-06-12 17:13:396218 來(lái)源：浙商證券研究院 光刻膠又稱(chēng)光致抗蝕劑，是一種對(duì)光敏感的混合液體。其組成部分包括：光引發(fā)劑（包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑）、光刻膠樹(shù)脂、單體、溶劑和其他助劑。光刻膠可以通過(guò)光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)曝光、顯影等
2020-09-15 14:00:1420205 技術(shù)水平與國(guó)際先進(jìn)水平仍存在較大差距，自給率僅10%，主要集中于技術(shù)含量相對(duì)較低的PCB領(lǐng)域，6英寸硅片的g/i線光刻膠的自給率約為20%，8英寸硅片的KrF光刻膠的自給率不足5%，12寸硅片的ArF光刻膠目前尚沒(méi)有國(guó)內(nèi)企業(yè)可以大規(guī)模生產(chǎn)。 基于此，新材料在線特推出【2020年光
2020-10-10 17:40:253534 光刻膠是由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑三種主要成份組成的、對(duì)光敏感的混合液體。利用光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)曝光、顯影、刻蝕等工藝將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上的圖形轉(zhuǎn)移介質(zhì)，其中曝光是通過(guò)紫外光
2022-12-06 14:53:542357 國(guó)內(nèi)又要建成一條大型OLED面板生產(chǎn)線了。
2020-12-08 10:26:221492 國(guó)內(nèi)又要建成一條大型OLED面板生產(chǎn)線了。 12月7日上午，維信諾子公司合肥維信諾投資建設(shè)的第六代全柔AMOLED生產(chǎn)線點(diǎn)亮儀式在合肥新站高新區(qū)隆重舉行，維信諾及地方政府高管、中科院院士等人一
2020-12-08 11:17:093620 在安集微電子不遠(yuǎn)處，錦越新材料憑借自主研發(fā)的“晶析法”工藝，成功突破5N8（99.9998%）電子級(jí)超高純鋁的技術(shù)瓶頸，一舉打破國(guó)外壟斷，其生產(chǎn)的電子級(jí)超高純鋁純度排名全球前三，并已向6N（99.9999%）純度發(fā)起技術(shù)攻關(guān)。
2020-12-11 14:22:277655 大光電的ArF光刻膠產(chǎn)品測(cè)試各項(xiàng)性能滿足工藝規(guī)格要求，良率結(jié)果達(dá)標(biāo)?！?“ArF 光刻膠產(chǎn)品開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”是寧波南大光電承接國(guó)家 “02 專(zhuān)項(xiàng)”的一個(gè)重點(diǎn)攻關(guān)項(xiàng)目。本次產(chǎn)品的認(rèn)證通過(guò)，標(biāo)志著 “ArF 光刻膠產(chǎn)品開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目取得了關(guān)鍵性的突破
2020-12-18 09:29:427279 昨夜晚間，寧波南大光電發(fā)表公告稱(chēng)，公司自主研發(fā)的 ArF 光刻膠產(chǎn)品 近日成功通過(guò)客戶的使用認(rèn)證。
2020-12-18 09:52:103957 ? 導(dǎo) 讀 日前，南大光電公告稱(chēng)，由旗下控股子公司寧波南大光電材料自主研發(fā)的 ArF 光刻膠產(chǎn)品成功通過(guò)客戶使用認(rèn)證，線制程工藝可以滿足 45nm-90nm光刻需求。 圖：南大光電公告 ? 公告稱(chēng)
2020-12-25 18:24:097828 ? ? 摘要 該項(xiàng)目將在今年底建成12條全球先進(jìn)鋰離子大電芯生產(chǎn)線及相應(yīng)模組、電池包生產(chǎn)線，建成后預(yù)計(jì)新增產(chǎn)能40GWh。 1月28日，江蘇時(shí)代動(dòng)力及儲(chǔ)能鋰電池研發(fā)與生產(chǎn)項(xiàng)目（四期）舉行開(kāi)工儀式
2021-02-02 10:03:0011418 按照應(yīng)用領(lǐng)域分類(lèi)，光刻膠主要包括印制電路板（PCB）光刻膠專(zhuān)用化學(xué)品（光引發(fā)劑和樹(shù)脂）、液晶顯示器（LCD）光刻膠光引發(fā)劑、半導(dǎo)體光刻膠光引發(fā)劑和其他用途光刻膠四大類(lèi)。本文主要討論半導(dǎo)體光刻膠。
2021-05-17 14:15:525022 
由于KrF光刻膠產(chǎn)能受限以及全球晶圓廠積極擴(kuò)產(chǎn)等，占據(jù)全球光刻膠市場(chǎng)份額超兩成的日本供應(yīng)商信越化學(xué)已經(jīng)向中國(guó)大陸多家一線晶圓廠限制供貨KrF光刻膠，且已通知更小規(guī)模晶圓廠停止供貨KrF光刻膠。 信越
2021-06-25 16:12:281241 5月27日，半導(dǎo)體光刻膠概念股開(kāi)盤(pán)即走強(qiáng)，截至收盤(pán)，A股光刻膠板塊漲幅達(dá)6.48%。其中晶瑞股份、廣信材料直線拉升大漲20%封漲停，容大感光大漲13.28%，揚(yáng)帆新材大漲11.37%，南大光電
2021-05-28 10:34:154020 在半導(dǎo)體制造方面，國(guó)內(nèi)廠商需要突破的不只是光刻機(jī)等核心設(shè)備，光刻膠也是重要的一環(huán)。而南大光電研發(fā)的高端ArF光刻機(jī)，已經(jīng)獲得了國(guó)內(nèi)某企業(yè)的認(rèn)證，可用于55nm工藝制造。 南大光電發(fā)布公告稱(chēng)，控股
2021-06-26 16:32:373071 光刻膠是光刻機(jī)研發(fā)的重要材料，換句話說(shuō)光刻機(jī)就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面，如果想要硅片的表面不留下痕跡，就需要網(wǎng)硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:0015756 摘要 我們?nèi)A林科納提出了一種新型的雙層光阻劑方法來(lái)減少負(fù)光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑，選擇負(fù)光刻膠作為頂層抗蝕膠。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對(duì)浮渣平均數(shù)量的影響。實(shí)驗(yàn)表明，低粘度正光刻膠
2022-01-26 11:43:221169 
本發(fā)明涉及一種去除光刻膠的方法，更詳細(xì)地說(shuō)，是一種半導(dǎo)體制造用光刻膠去除方法，該方法適合于在半導(dǎo)體裝置的制造過(guò)程中進(jìn)行吹掃以去除光刻膠。在半導(dǎo)體裝置的制造工藝中，將殘留在晶片上的光刻膠，在H2O
2022-04-13 13:56:421659 
灰化，簡(jiǎn)單的理解就是用氧氣把光刻膠燃燒掉，光刻膠的基本成分是碳?xì)溆袡C(jī)物，在射頻或微波作用下，氧氣電離成氧原子并與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成一氧化碳，二氧化碳和水等，再通過(guò)泵被真空抽走，完成光刻膠的去除。
2022-07-21 11:20:178339 光刻膠產(chǎn)品說(shuō)明英文版資料分享。
2022-08-12 16:17:2511 南大光電最新消息顯示，國(guó)產(chǎn)193nm（ArF）光刻膠研發(fā)成功，這家公司成為通過(guò)國(guó)家“02專(zhuān)項(xiàng)”驗(yàn)收的ArF光刻膠項(xiàng)目實(shí)施主體；徐州博康宣布，該公司已開(kāi)發(fā)出數(shù)十種高端光刻膠產(chǎn)品系列，包括
2022-08-31 09:47:142371 光刻膠的組成：樹(shù)脂（resin/polymer），光刻膠中不同材料的粘合劑，給與光刻膠的機(jī)械與化學(xué)性質(zhì)（如粘附性、膠膜厚度、熱穩(wěn)定性等）；感光劑，感光劑對(duì)光能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)；溶劑（Solvent
2022-10-21 16:40:0423795 10%-15%，對(duì)應(yīng)的 PAG 用量為一般按樹(shù)脂重量的 6%-8%添加，最 終 PAG 的成本占光刻膠總成本的 10%-20%。從單價(jià)看，KrF 光刻膠用 PAG 的價(jià)格在 0.5-1.5萬(wàn)元/kg
2022-11-18 10:07:434880 此前該公司指出，公司已建成年產(chǎn)5噸ArF干式光刻膠生產(chǎn)線、年產(chǎn)20噸ArF浸沒(méi)式光刻膠生產(chǎn)線及年產(chǎn)45噸的光刻膠配套高純?cè)噭?b class="flag-6" style="color: red">生產(chǎn)線，具備ArF光刻膠及配套關(guān)鍵組分材料的生產(chǎn)能力，目前公司送樣驗(yàn)證的產(chǎn)品均由該自建產(chǎn)線產(chǎn)出。
2023-04-11 09:25:321910 光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體，不同種類(lèi)的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項(xiàng)重要指標(biāo)。那么光刻膠的黏度為什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻膠算高黏度，哪些算低黏度呢？
2023-11-13 18:14:112940 
20日，西隴科學(xué)（株）發(fā)布公告稱(chēng)，該公司沒(méi)有生產(chǎn)銷(xiāo)售礦產(chǎn)品。公司生產(chǎn)及銷(xiāo)售用于清洗劑、顯影液、剝離液等的光刻膠，占公司營(yíng)業(yè)收入的比例，是目前用于上述用途的光刻膠配套。
2023-11-21 14:54:571303 為了生產(chǎn)高純度、高質(zhì)量的光刻膠，需要高純度的配方原料，例如光刻樹(shù)脂，溶劑PGMEA…此外，生產(chǎn)過(guò)程中的反應(yīng)釜鍍膜和金屬析出污染監(jiān)測(cè)也是至關(guān)重要的控制環(huán)節(jié)。例如，2019年，某家半導(dǎo)體制造公司由于光刻膠受到光阻原料的污染，導(dǎo)致上萬(wàn)片12吋晶圓報(bào)廢
2023-11-27 17:15:481717 KrF光刻膠是指利用248nm KrF光源進(jìn)行光刻的光刻膠。248nmKrF光刻技術(shù)已廣 泛應(yīng)用于0.13μm工藝的生產(chǎn)中,主要應(yīng)用于150 , 200和300mm的硅晶圓生產(chǎn)中。
2023-11-29 10:28:501413 
勻膠是光刻中比較重要的一步，而旋涂速度是勻膠中至關(guān)重要的參數(shù)，那么我們?cè)趧?b class="flag-6" style="color: red">膠時(shí)，是如何確定勻膠速度呢？它影響光刻膠的哪些性質(zhì)？
2023-12-15 09:35:563928 
所謂的“光刻膠”，即是在紫外線、電子束等輻射下，其溶解度會(huì)產(chǎn)生變化的耐腐蝕薄膜材料。作為光刻工藝中的關(guān)鍵要素，廣泛應(yīng)用于晶圓和分立器件的精細(xì)圖案制作中。其品種繁多，此次漲價(jià)涉及的KrF 光刻膠則屬高級(jí)別光刻膠，將成為各廠商關(guān)注的焦點(diǎn)。
2023-12-28 11:14:341635 光刻膠主要下游應(yīng)用包括：顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造等，其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用，占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%，是第三達(dá)應(yīng)用場(chǎng)景。
2024-01-03 18:12:212813 
據(jù)吳中發(fā)布的最新消息，簽約項(xiàng)目涵蓋了瑞紅集成電路高端光刻膠總部項(xiàng)目，該項(xiàng)投資高達(dá)15億元，旨在新建半導(dǎo)體光刻膠及其配套試劑的生產(chǎn)基地。
2024-01-26 09:18:431197 光刻膠不能太厚或太薄，需要按制程需求來(lái)定。比如對(duì)于需要長(zhǎng)時(shí)間蝕刻以形成深孔的應(yīng)用場(chǎng)景，較厚的光刻膠層能提供更長(zhǎng)的耐蝕刻時(shí)間。
2024-03-04 10:49:162061 
光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料，可以通過(guò)光刻機(jī)上的模板或掩模來(lái)進(jìn)行曝光。
2024-03-04 17:19:189618 與正光刻膠相比，電子束負(fù)光刻膠會(huì)形成相反的圖案?；诰酆衔锏呢?fù)型光刻膠會(huì)在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過(guò)程中溶解，而曝光的光刻膠則保留下來(lái)，從而形成負(fù)像。
2024-03-20 11:36:505058 
光刻膠按照種類(lèi)可以分為正性的、負(fù)性的。正膠受到紫外光照射的部分在顯影時(shí)被去除，負(fù)膠受到紫外光曝光的地方在顯影后被留下。
2024-04-24 11:37:056635 
通常要考慮光刻膠是否過(guò)期失效了。接下來(lái)我們將介紹一下光刻膠保存和老化失效的基礎(chǔ)知識(shí)。 光刻膠的保存 光刻膠對(duì)光敏感，在光照或高溫條件下其性能會(huì)發(fā)生變化。光刻膠在儲(chǔ)存過(guò)程中會(huì)老化，因此通常保存在防光的棕色玻璃試
2024-07-08 14:57:083146 圖形反轉(zhuǎn)膠是比較常見(jiàn)的一種紫外光刻膠，它既可以當(dāng)正膠使用又可以作為負(fù)膠使用。相比而言，負(fù)膠工藝更被人們所熟知。本文重點(diǎn)介紹其負(fù)膠工藝。 應(yīng)用領(lǐng)域 在反轉(zhuǎn)工藝下，通過(guò)適當(dāng)?shù)墓に噮?shù)，可以獲得底切的側(cè)壁
2024-07-09 16:06:001988 
一般光刻過(guò)程文章中簡(jiǎn)單介紹過(guò)后烘工藝但是比較簡(jiǎn)單，本文就以下一些應(yīng)用場(chǎng)景下介紹后烘的過(guò)程和作用。 化學(xué)放大正膠 機(jī)理 當(dāng)使用“正常”正膠時(shí)，曝光完成后光反應(yīng)也就完成了，但是化學(xué)放大的光刻膠需要隨后的烘烤步驟。光反應(yīng)在曝光期間開(kāi)始并在后烘環(huán)節(jié)中完
2024-07-09 16:08:433446 
評(píng)價(jià)一款光刻膠是否適合某種應(yīng)用需要綜合看這款光刻膠的特定性能，這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度（sensitivity）是衡量曝光速度的指標(biāo)。光刻膠的靈敏度越高，所需的曝光劑量
2024-07-10 13:43:492388 根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝，我們可以采用適當(dāng)?shù)姆椒▽?duì)已顯影的光刻膠結(jié)構(gòu)進(jìn)行處理以提高其化學(xué)或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來(lái)實(shí)現(xiàn)整個(gè)光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián)，稱(chēng)為硬烘烤或者堅(jiān)膜?；蛲ㄟ^(guò)低劑量紫外線輻照
2024-07-10 13:46:592702 
為了確保光刻工藝的可重復(fù)性、可靠性和可接受性，必須在基板表面上均勻涂覆光刻膠。光刻膠通常分散在溶劑或水溶液中，是一種高粘度材料。根據(jù)工藝要求，有許多工藝可用于涂覆光刻膠。 旋涂是用光刻膠涂覆基材
2024-07-11 15:46:362757 存儲(chǔ)時(shí)間 正膠和圖形反轉(zhuǎn)膠在存儲(chǔ)數(shù)月后會(huì)變暗，而且隨著儲(chǔ)存溫度升高而加速。因?yàn)樵擃?lèi)型光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料，在 可見(jiàn)光譜的部分具有很強(qiáng)的吸收能力，對(duì)紫外靈敏度沒(méi)有任何影響。這種變色過(guò)程
2024-07-11 16:07:491791 ？ 基底上SU-8光刻膠的圖層可以通過(guò)若干種技術(shù)來(lái)完成。最常用的技術(shù)是旋涂技術(shù)，該技術(shù)是在旋轉(zhuǎn)的基底上放置一小灘SU-8光刻膠。旋轉(zhuǎn)速度、加速度和SU-8光刻膠的黏度將會(huì)決定SU-8光刻膠層（如下簡(jiǎn)稱(chēng)膠層）的厚度。 使用旋涂機(jī)來(lái)旋涂SU-8光刻膠，相比于其它技術(shù)來(lái)講，旋涂機(jī)會(huì)使
2024-08-26 14:16:011298 控SU-8光刻膠烘烤：軟烘、后曝光烘烤和硬烘 在整個(gè)SU-8模具制備的過(guò)程中，微流控SU-8光刻膠需要烘烤2或3次，每一次烘烤都有不同的作用。 第一次光刻膠烘烤叫做軟烘，是SU-8光刻膠旋涂之后需要完成的操作。目標(biāo)是蒸發(fā)溶劑，使SU-8光刻膠更加堅(jiān)固。溶劑蒸發(fā)會(huì)稍微的改變光
2024-08-27 15:54:011241
原文標(biāo)題：一文看懂光刻膠的堅(jiān)膜工藝及物理特性和常見(jiàn)光刻膠
2024-11-01 11:08:073091 友達(dá)光電正全力打造全球頂尖的4.5代Micro LED生產(chǎn)線，預(yù)計(jì)今年10月竣工，旨在引領(lǐng)Micro LED市場(chǎng)潮流。該生產(chǎn)線計(jì)劃于2025年啟動(dòng)量產(chǎn)，此前，友達(dá)已成功在2023年底量產(chǎn)了Micro LED智能手表顯示屏，現(xiàn)正致力于拓展其在大型顯示屏和前沿應(yīng)用領(lǐng)域的產(chǎn)能。
2024-10-28 14:50:513118 本文介紹了光刻膠的使用過(guò)程與原理。
2024-10-31 15:59:452789 光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵一環(huán)，而光刻膠，又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展，對(duì)微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強(qiáng)，光刻膠的需求也水漲船高，在微電子制造和納米技術(shù)等高精尖領(lǐng)域占據(jù)著至關(guān)重要的位置。
2024-11-11 10:08:214404 
光刻膠作為掩模進(jìn)行干法刻蝕或是濕法腐蝕后，一般都是需要及時(shí)的去除清洗，而一些高溫或者其他操作往往會(huì)導(dǎo)致光刻膠碳化難以去除。
2024-11-11 17:06:222391 
近日，據(jù)相關(guān)報(bào)道，三星電子在3D NAND閃存生產(chǎn)領(lǐng)域取得了重要技術(shù)突破，成功大幅減少了光刻工藝中光刻膠的使用量。 據(jù)悉，三星已經(jīng)制定了未來(lái)NAND閃存的生產(chǎn)路線圖，并計(jì)劃在這一生產(chǎn)過(guò)程中，將光刻膠
2024-11-27 11:00:24957 光刻膠是半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的一種重要材料，在整個(gè)電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中，感光樹(shù)脂決定了光刻膠的感光度和分辨率等關(guān)鍵性能，增感劑有助于提高
2024-12-19 13:57:362091 引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域，光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料，其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時(shí)，精準(zhǔn)測(cè)量光刻圖形對(duì)把控工藝質(zhì)量意義重大，白光干涉儀為此提供了有力的技術(shù)保障
2025-05-29 09:38:531108 
如果說(shuō)最終制造出來(lái)的芯片是一道美食，那么光刻膠就是最初的重要原材料之一，而且是那種看起來(lái)可能不起眼，但卻能決定一道菜味道的關(guān)鍵輔料。 光刻膠（photoresist），在業(yè)內(nèi)又被稱(chēng)為光阻或光阻劑
2025-06-04 13:22:51993 ? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié)，但其可能對(duì)器件性能產(chǎn)生負(fù)面影響。同時(shí)，光刻圖形的精確測(cè)量對(duì)于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法，并介紹白光
2025-06-14 09:42:56736 
（N-甲基吡咯烷酮）、乳酸乙酯等強(qiáng)極性溶劑溶脹并溶解光刻膠分子鏈，適用于傳統(tǒng)g線/i線正膠體系。例如，NMP因低蒸氣壓可加熱至80℃以增強(qiáng)對(duì)交聯(lián)型光刻膠的去除能力
2025-09-17 11:01:271282 
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