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標(biāo)簽 > 晶圓
晶圓是指硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片,由于其形狀為圓形,故稱為晶圓;在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結(jié)構(gòu),而成為有特定電性功能之IC產(chǎn)品。
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維持及提高工藝和產(chǎn)品的良品率對半導(dǎo)體工藝至關(guān)重要。任何對半導(dǎo)體工業(yè)做過些許了解的人都會發(fā)現(xiàn),整個工藝對其生產(chǎn)良品率極其關(guān)注。的確如此,半導(dǎo)體制造工藝的復(fù)...
可測性設(shè)計(jì)是在滿足芯片正常功能的基礎(chǔ)上,通過有效地加入測試電路,來降低芯片的測試難度,降低測試成本。
2021-03-07 標(biāo)簽:晶圓芯片設(shè)計(jì)可測性設(shè)計(jì) 3.4k 0
縱觀整個制造業(yè),芯片的制造流程可以說是最復(fù)雜的之一,這項(xiàng)點(diǎn)石成金術(shù)可分為八個大步驟,如下圖所示,這些步驟又可細(xì)分為上百道工序。
芯片或集成電路在20世紀(jì)50年代末開始取代體積龐大的單個晶體管。許多這些微小的部件是在一塊硅上生產(chǎn)的,并連接在一起工作。產(chǎn)生的芯片存儲數(shù)據(jù)、放大無線電信...
半導(dǎo)體是電子電路中使用最廣泛的元件之一,它們保證了可靠性、高電阻和低成本。半導(dǎo)體器件的制造過程通常用于創(chuàng)建集成電路,包括一系列多個照相和化學(xué)處理步驟,在...
晶圓微凸點(diǎn)技術(shù)在先進(jìn)封裝中的應(yīng)用
先進(jìn)封裝技術(shù)持續(xù)朝著連接密集化、堆疊多樣化和功能系統(tǒng)化的方向發(fā)展,探索了扇出型封裝、2.5D/3D、系統(tǒng)級封 裝等多種封裝工藝。晶圓微凸點(diǎn)技術(shù)已被廣泛應(yīng)...
為了應(yīng)對半導(dǎo)體芯片高密度、高性能與小體積、小尺寸之間日益嚴(yán)峻的挑戰(zhàn),3D 芯片封裝技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生。從工藝和裝備兩個角度詮釋了 3D 封裝技術(shù);介紹了國內(nèi)外...
3M Liqui-Cel膜接觸器產(chǎn)品已經(jīng)廣泛的應(yīng)用于各Fab廠超純水溶解氣體控制應(yīng)用,有超過40年成功應(yīng)用歷史,其穩(wěn)定的性能和超長的壽命贏得了業(yè)主和合作...
臺積電CoWoS平臺微通道芯片封裝液冷技術(shù)的演進(jìn)路線
臺積電在先進(jìn)封裝技術(shù),特別是CoWoS(Chip on Wafer on Substrate)平臺上的微通道芯片液冷技術(shù)路線,是其應(yīng)對高性能計(jì)算和AI芯...
超高去除速率研磨劑ER9212在Cu MEMS工藝中的應(yīng)用
高密度IC器件涉及互連的多層堆疊。化學(xué)機(jī)械平坦化(CMP)工藝為光刻需求提供了晶圓上的平滑表面,已成為半導(dǎo)體制造中獲得高良率的關(guān)鍵工藝。
結(jié)束前工序的每一個晶圓上,都連接著500~1200個芯片(也可稱作Die)。為了將這些芯片用于所需之處,需要將晶圓切割(Dicing)成單獨(dú)的芯片后,再...
光刻各環(huán)節(jié)對應(yīng)的不同模型種類
光學(xué)模型是基于霍普金斯(Hopkins)光學(xué)成像理論,預(yù)先計(jì)算出透射相交系數(shù)(TCCs),從而描述光刻機(jī)的光學(xué)成像。光學(xué)模型中,經(jīng)過優(yōu)化的光源,通過光刻...
2023-12-11 標(biāo)簽:晶圓光刻機(jī)器學(xué)習(xí) 3.3k 0
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