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標(biāo)簽 > 晶圓
晶圓是指硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片,由于其形狀為圓形,故稱為晶圓;在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結(jié)構(gòu),而成為有特定電性功能之IC產(chǎn)品。
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晶圓級(jí)扇出封裝(FO-WLP)通過環(huán)氧樹脂模塑料(EMC)擴(kuò)展芯片有效面積,突破了扇入型封裝的I/O密度限制,但其技術(shù)復(fù)雜度呈指數(shù)級(jí)增長。
在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的制造流程上,主要可分成IC設(shè)計(jì)、晶圓制程、晶圓測試及晶圓封裝四大步驟。 其中所謂的晶圓測試,就是對(duì)晶圓上的每顆晶粒進(jìn)行電性特性檢測,以檢測...
SiC外延生長技術(shù)的生產(chǎn)過程及注意事項(xiàng)
SiC外延生長技術(shù)是SiC功率器件制備的核心技術(shù)之一,外延質(zhì)量直接影響SiC器件的性能。目前應(yīng)用較多的SiC外延生長方法是化學(xué)氣相沉積(CVD),本文簡...
化學(xué)機(jī)械平面化后的葉片清洗,特別是刷子擦洗,是半導(dǎo)體器件制造的一個(gè)關(guān)鍵步驟,尚未得到充分了解。臨界粒子雷諾數(shù)方法用于評(píng)估在刷擦洗過程中去除晶圓表面的粘附...
大多數(shù)成熟的晶圓廠都知道他們有性能問題,需要更多關(guān)于根源的信息。為了開發(fā)解決其特定問題的解決方案,他們必須超越一般化,并確定在工具級(jí)別出現(xiàn)瓶頸的方式和位置。
國產(chǎn)CVD設(shè)備在4H-SiC襯底上的同質(zhì)外延實(shí)驗(yàn)
SiC薄膜生長方法有多種,其中化學(xué)氣相沉積(chemical vapor deposition, CVD)法具有可以精確控制外延膜厚度和摻雜濃度、缺陷較...
晶圓制備是材料科學(xué)、熱力學(xué)與精密控制的綜合體現(xiàn),每一環(huán)節(jié)均凝聚著工程技術(shù)的極致追求。而晶圓清洗本質(zhì)是半導(dǎo)體工業(yè)與污染物持續(xù)博弈的縮影,每一次工藝革新都在...
想象一下,在一個(gè)由多棟低層樓房組成的住宅綜合體內(nèi),若要容納數(shù)千名居民,則需要占據(jù)非常大的面積才能滿足需求。
2024-01-25 標(biāo)簽:存儲(chǔ)器晶圓半導(dǎo)體封裝 2.6k 0
晶圓級(jí)封裝(WLP)與多芯片組件(MCM)作為先進(jìn)封裝的“雙引擎”,前者在晶圓未切割時(shí)即完成再布線與凸點(diǎn)制作,以“封裝即制造”實(shí)現(xiàn)芯片級(jí)尺寸、70 μm...
上海2024年9月5日?/美通社/ -- 全球半導(dǎo)體行業(yè)正處于爆炸性增長的軌道上,預(yù)計(jì)到2030年市場規(guī)模將達(dá)到驚人的1萬億美元(2023年超過5000...
在半導(dǎo)體制造流程中,晶圓在前端工藝階段需保持一定厚度,以確保其在流片過程中的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性,避免彎曲變形,并為芯片制造工藝提供操作便利。不同規(guī)格晶圓的原始厚...
摘要:論述了傳統(tǒng)的集成電路裝片工藝面臨的挑戰(zhàn)以及現(xiàn)有用DAF膜(DieAttachmentFilm,裝片膠膜)技術(shù)進(jìn)行裝片的局限性;介紹了一種先進(jìn)的、通...
在半導(dǎo)體行業(yè)中,芯片晶圓是核心組件,而在展示這些精密的科技產(chǎn)品時(shí),人們常常會(huì)發(fā)現(xiàn)它們呈現(xiàn)出五彩斑斕的外觀。這一現(xiàn)象并非偶然,而是由多種因素共同作用的結(jié)果...
2024-08-12 標(biāo)簽:芯片晶圓半導(dǎo)體封裝 2.6k 0
隨著工藝節(jié)點(diǎn)不斷變小,掩模版制造難度日益增加,耗費(fèi)的資金成本從數(shù)十萬到上億,呈指數(shù)級(jí)增長,同時(shí)生產(chǎn)掩模版的時(shí)間成本也大幅增加。如果不能在制造掩模版前就保...
硬烘培溫度的上限以光刻膠流動(dòng)點(diǎn)而定。光刻膠有像塑料的性質(zhì),當(dāng)加熱時(shí)會(huì)變軟并可流動(dòng)。當(dāng)光刻膠流動(dòng)時(shí),圖案尺寸便會(huì)改變。當(dāng)在顯微鏡下觀察光刻膠流動(dòng)時(shí),將會(huì)明...
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