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標(biāo)簽 > 碳化硅

碳化硅

碳化硅

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金剛砂又名碳化硅(SiC)是用石英砂、石油焦(或煤焦)、木屑(生產(chǎn)綠色碳化硅時(shí)需要加食鹽)等原料通過(guò)電阻爐高溫冶煉而成。碳化硅在大自然也存在罕見(jiàn)的礦物,莫桑石。

文章:2939個(gè) 瀏覽:52508 帖子:39個(gè)

碳化硅技術(shù)

基于多物理場(chǎng)耦合的晶圓切割振動(dòng)控制與厚度均勻性提升

基于多物理場(chǎng)耦合的晶圓切割振動(dòng)控制與厚度均勻性提升

一、引言 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,晶圓切割是關(guān)鍵環(huán)節(jié),其質(zhì)量直接影響芯片性能與成品率。晶圓切割過(guò)程中,熱場(chǎng)、力場(chǎng)、流場(chǎng)等多物理場(chǎng)相互耦合,引發(fā)切割振動(dòng),嚴(yán)重...

2025-07-07 標(biāo)簽:晶圓碳化硅新啟 824 0

碳化硅 TTV 厚度在 CMP 工藝中的反饋控制機(jī)制研究

碳化硅 TTV 厚度在 CMP 工藝中的反饋控制機(jī)制研究

一、引言 化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)工藝是實(shí)現(xiàn)碳化硅(SiC)襯底全局平坦化的關(guān)鍵技術(shù),對(duì)提升襯底質(zhì)量、保障后續(xù)器件性能至關(guān)重要??偤穸绕睿═TV)作為衡...

2025-09-11 標(biāo)簽:CMP碳化硅拋光 820 0

【新啟航】玻璃晶圓 TTV 厚度在光刻工藝中的反饋控制優(yōu)化研究

【新啟航】玻璃晶圓 TTV 厚度在光刻工藝中的反饋控制優(yōu)化研究

一、引言 玻璃晶圓在半導(dǎo)體制造、微流控芯片等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛,光刻工藝作為決定器件圖案精度與性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié),對(duì)玻璃晶圓的質(zhì)量要求極為嚴(yán)苛 ??偤穸绕睿═...

2025-10-09 標(biāo)簽:晶圓光刻碳化硅 817 0

DC/DC諧振變換技術(shù)的深度解析:核心原理、演進(jìn)趨勢(shì)

DC/DC諧振變換技術(shù)的深度解析:核心原理、演進(jìn)趨勢(shì)

傾佳電子旨在從深度技術(shù)視角出發(fā),系統(tǒng)性地剖析DCDC諧振變換的核心運(yùn)行機(jī)理與拓?fù)溲葸M(jìn)邏輯,并結(jié)合最新的碳化硅功率器件技術(shù)參數(shù),深入探討SiC MOSFE...

2025-12-11 標(biāo)簽:MOSFET諧振變換碳化硅 817 0

碳化硅襯底厚度測(cè)量探頭溫漂與材料各向異性的耦合影響研究

碳化硅襯底厚度測(cè)量探頭溫漂與材料各向異性的耦合影響研究

在碳化硅襯底厚度測(cè)量中,探頭溫漂與材料各向異性均會(huì)影響測(cè)量精度,且二者相互作用形成耦合效應(yīng)。深入研究這種耦合影響,有助于揭示測(cè)量誤差根源,為優(yōu)化測(cè)量探頭...

2025-06-11 標(biāo)簽:測(cè)量碳化硅晶圓厚度 814 0

自動(dòng)對(duì)刀技術(shù)對(duì)碳化硅襯底切割起始位置精度的提升及厚度均勻性優(yōu)化

自動(dòng)對(duì)刀技術(shù)對(duì)碳化硅襯底切割起始位置精度的提升及厚度均勻性優(yōu)化

摘要:碳化硅襯底切割對(duì)起始位置精度與厚度均勻性要求極高,自動(dòng)對(duì)刀技術(shù)作為關(guān)鍵技術(shù)手段,能夠有效提升切割起始位置精度,進(jìn)而優(yōu)化厚度均勻性。本文深入探討自動(dòng)...

2025-06-26 標(biāo)簽:碳化硅晶圓厚度TTV厚度 814 0

一文讀懂全球碳化硅先驅(qū)GeneSiC

憑借領(lǐng)先的GaNFast?氮化鎵功率芯片+強(qiáng)力的GeneSiC 碳化硅MOSFTEs的產(chǎn)品組合,納微半導(dǎo)體以雙擎驅(qū)動(dòng)的姿態(tài)在電力電子能源轉(zhuǎn)換領(lǐng)域高歌前進(jìn)。

2023-02-27 標(biāo)簽:MOSFETSiC氮化鎵 810 0

解析Wolfspeed頂部散熱碳化硅功率器件

解析Wolfspeed頂部散熱碳化硅功率器件

面對(duì)電力電子應(yīng)用與日俱增的需求,高電壓系統(tǒng)研發(fā)工程師正更多地轉(zhuǎn)向采用碳化硅 (SiC) 方案,借助其固有的溫度特性和開關(guān)性能優(yōu)勢(shì)。工程師們常常面臨多方面...

2025-09-17 標(biāo)簽:功率器件SiC碳化硅 807 0

Wolfspeed碳化硅MOSFET滿足高功率應(yīng)用的需要

碳化硅(SiC)技術(shù)帶來(lái)了無(wú)限的新機(jī)會(huì)。只要存在對(duì)高可靠性功率系統(tǒng)的需求,碳化硅 MOSFET 就能在許多行業(yè)中的許多不同應(yīng)用(包括必須在惡劣環(huán)境中工作...

2023-07-17 標(biāo)簽:MOSFET逆變器IGBT 789 0

碳化硅功率器件的應(yīng)用優(yōu)勢(shì)

碳化硅功率器件的應(yīng)用優(yōu)勢(shì)

碳化硅具有比硅更高的熱導(dǎo)率、更寬的能帶寬度和更高的電子飽和漂移速度。這些特性使得SiC功率器件在高溫、高頻以及高電壓應(yīng)用中表現(xiàn)優(yōu)異。

2024-04-09 標(biāo)簽:功率器件SiC碳化硅 785 0

碳化硅襯底切割進(jìn)給量與磨粒磨損狀態(tài)的協(xié)同調(diào)控模型

碳化硅襯底切割進(jìn)給量與磨粒磨損狀態(tài)的協(xié)同調(diào)控模型

摘要:碳化硅襯底切割過(guò)程中,進(jìn)給量與磨粒磨損狀態(tài)緊密關(guān)聯(lián),二者協(xié)同調(diào)控對(duì)提升切割質(zhì)量與效率至關(guān)重要。本文深入剖析兩者相互作用機(jī)制,探討協(xié)同調(diào)控模型構(gòu)建方...

2025-06-25 標(biāo)簽:碳化硅晶圓厚度TTV 785 0

中科院8英寸SiC導(dǎo)電單晶研制成功

中科院8英寸SiC導(dǎo)電單晶研制成功

8英寸SiC晶體生長(zhǎng)的難點(diǎn)在于:首先要研制出8英寸籽晶;其次要解決大尺寸帶來(lái)的溫場(chǎng)不均勻和氣相原料分布和輸運(yùn)效率問(wèn)題。

2023-07-05 標(biāo)簽:SiC碳化硅寬禁帶半導(dǎo)體 783 0

安森美1200V碳化硅MOSFET:NTH4L013N120M3S的特性與應(yīng)用分析

安森美1200V碳化硅MOSFET:NTH4L013N120M3S的特性與應(yīng)用分析

在電力電子領(lǐng)域,碳化硅(SiC)MOSFET憑借其卓越的性能,正逐漸成為眾多應(yīng)用的首選功率器件。今天,我們就來(lái)深入探討安森美(onsemi)推出的一款1...

2025-12-04 標(biāo)簽:MOSFET碳化硅 775 0

聚焦器件可靠性、柵極驅(qū)動(dòng)器創(chuàng)新和總體系統(tǒng)解決方案

聚焦器件可靠性、柵極驅(qū)動(dòng)器創(chuàng)新和總體系統(tǒng)解決方案

碳化硅 (SiC) 技術(shù)能在大幅提高當(dāng)前電力系統(tǒng)效率的同時(shí)降低其尺寸、重量和成本,因此市場(chǎng)需求不斷攀升。但是SiC 解決方案并不是硅基解決方案的直接替代...

2023-05-17 標(biāo)簽:驅(qū)動(dòng)器SiC碳化硅 772 0

【新啟航】探針式碳化硅襯底 TTV 厚度測(cè)量?jī)x的操作規(guī)范與技巧

【新啟航】探針式碳化硅襯底 TTV 厚度測(cè)量?jī)x的操作規(guī)范與技巧

摘要 本文圍繞探針式碳化硅襯底 TTV 厚度測(cè)量?jī)x,系統(tǒng)闡述其操作規(guī)范與實(shí)用技巧,通過(guò)規(guī)范測(cè)量流程、分享操作要點(diǎn),旨在提高測(cè)量準(zhǔn)確性與效率,為半導(dǎo)體制造...

2025-08-20 標(biāo)簽:晶圓測(cè)量?jī)x碳化硅 771 0

【新啟航】碳化硅襯底 TTV 厚度測(cè)量中表面粗糙度對(duì)結(jié)果的影響研究

【新啟航】碳化硅襯底 TTV 厚度測(cè)量中表面粗糙度對(duì)結(jié)果的影響研究

摘要 本文聚焦碳化硅襯底 TTV 厚度測(cè)量過(guò)程,深入探究表面粗糙度對(duì)測(cè)量結(jié)果的影響機(jī)制,通過(guò)理論分析與實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證,揭示表面粗糙度與測(cè)量誤差的關(guān)聯(lián),為優(yōu)化碳...

2025-08-18 標(biāo)簽:測(cè)量碳化硅碳化 770 0

碳化硅功率半導(dǎo)體器件的優(yōu)勢(shì)和現(xiàn)狀

碳化硅功率半導(dǎo)體器件的優(yōu)勢(shì)和現(xiàn)狀

中低壓產(chǎn)品性能可靠性滿足應(yīng)用要求,產(chǎn)品耐壓提升到2000V及以上. 產(chǎn)品發(fā)展到第三代,采用新型柵氧、溝槽結(jié)構(gòu)、集成肖特基二極管等技術(shù).

2023-06-12 標(biāo)簽:二極管SiC碳化硅 765 0

納微半導(dǎo)體GeneSiC碳化硅MOSFETs為高頻充電樁實(shí)現(xiàn)最佳充電效果

碳化硅(SiC)是一種新的“寬禁帶”功率半導(dǎo)體材料,正在快速取代傳統(tǒng)硅功率芯片,應(yīng)用于可再生能源、儲(chǔ)能、 微網(wǎng)、電動(dòng)汽車和工業(yè)應(yīng)用等高功率、高壓應(yīng)用領(lǐng)域。

2023-06-07 標(biāo)簽:功率器件充電樁碳化硅 753 0

安森美SiC MOSFET NTBG025N065SC1:高效能與可靠性的完美結(jié)合

安森美SiC MOSFET NTBG025N065SC1:高效能與可靠性的完美結(jié)合

作為電子工程師,我們?cè)谠O(shè)計(jì)中常常追求高性能、高可靠性的電子元件。今天,我將為大家詳細(xì)介紹安森美(onsemi)的一款碳化硅(SiC)MOSFET——NT...

2025-12-05 標(biāo)簽:MOSFETSiC碳化硅 752 0

【新啟航】玻璃晶圓 TTV 厚度測(cè)量數(shù)據(jù)異常的快速定位與解決方案

【新啟航】玻璃晶圓 TTV 厚度測(cè)量數(shù)據(jù)異常的快速定位與解決方案

一、引言 玻璃晶圓總厚度偏差(TTV)測(cè)量數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性,對(duì)半導(dǎo)體器件、微流控芯片等產(chǎn)品的質(zhì)量把控至關(guān)重要 。在實(shí)際測(cè)量過(guò)程中,數(shù)據(jù)異常情況時(shí)有發(fā)生,不...

2025-09-29 標(biāo)簽:晶圓厚度測(cè)量碳化硅 752 0

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