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EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段,本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī),EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場(chǎng)問題,國(guó)產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。
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三大半導(dǎo)體廠資本支出直線攀升 ASML等設(shè)備廠則成為受益者
臺(tái)積電深耕晶圓代工先進(jìn)制程,10月表示強(qiáng)效版7納米制程導(dǎo)入EUV技術(shù),今年第2季開始量產(chǎn),良率已相當(dāng)接近7納米制程;6納米制程預(yù)計(jì)明年第1季試產(chǎn),并于明...
具有13.5nm波長(zhǎng)源的高數(shù)值孔徑系統(tǒng)將提高亞13nm半間距曝光所需的分辨率,以及更大的圖像對(duì)比度以實(shí)現(xiàn)更好的印刷線均勻性。High-NA EUV光刻的...
中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的機(jī)會(huì)
伴隨 5G、AIoT的發(fā)展和國(guó)際關(guān)系的日漸緊張之下,集成電路產(chǎn)業(yè)逐漸受到一致關(guān)注。 2020 年 10 月 14 日, 第三屆全球IC企業(yè)家大會(huì)暨第十八...
三星計(jì)劃投資超過100億美元建設(shè)芯片制造工廠
據(jù)彭博社報(bào)道,三星計(jì)劃投資超過100億美元,在奧斯汀建造其最先進(jìn)的芯片制造工廠。三星希望這項(xiàng)投資將有助于它贏得更多的美國(guó)客戶,并趕上競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手臺(tái)積電。
在采用了EUV的半導(dǎo)體微縮化方面,臺(tái)積電(TSMC)全球領(lǐng)先。作為存儲(chǔ)半導(dǎo)體的“冠軍”——三星電子計(jì)劃在2030年之前在邏輯半導(dǎo)體的生產(chǎn)方面趕上臺(tái)積電。...
韓國(guó)EUV光刻技術(shù)方面取得極大進(jìn)展 專利申請(qǐng)是國(guó)外的兩倍以上
IT之家 11 月 16 日消息 據(jù)韓國(guó)媒體 BusinessKorea 上周報(bào)道,韓國(guó)本土企業(yè)在 EUV 光刻技術(shù)方面取得了極大進(jìn)展。但并沒有提到是哪...
電子芯聞早報(bào):三星焦頭爛額仍砸錢買EUV 樂Pro3跑分被小米5s超越
今日芯聞早報(bào):三星焦頭爛額仍砸錢買EUV追趕臺(tái)積電;和輝光電宣布建六代AMOLED廠;iPhone 7風(fēng)潮可望拉抬半導(dǎo)體封測(cè)業(yè)績(jī)表現(xiàn);Apple Wat...
11月25日,市場(chǎng)研究公司總裁羅伯特·卡斯特拉諾(Robert Castellano)表示:“過去三年來,應(yīng)用材料一直在晶圓制造前段工序(WFE)的設(shè)備...
隨著先進(jìn)制程的研發(fā)難度加大,相關(guān)企業(yè)的研發(fā)經(jīng)費(fèi)也是節(jié)節(jié)攀升,半導(dǎo)體行業(yè)中的領(lǐng)頭羊臺(tái)積電去年就指出了超過170億美元的研發(fā)經(jīng)費(fèi),而在剛剛到來的2021年中...
日本大學(xué)研發(fā)出新極紫外(EUV)光刻技術(shù)
近日,日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)院大學(xué)(OIST)發(fā)布了一項(xiàng)重大研究報(bào)告,宣布該校成功研發(fā)出一種突破性的極紫外(EUV)光刻技術(shù)。這一創(chuàng)新技術(shù)超越了當(dāng)前半導(dǎo)體...
7納米制程競(jìng)爭(zhēng)激烈 臺(tái)積電3月領(lǐng)先量產(chǎn)
延續(xù)7納米制程領(lǐng)先優(yōu)勢(shì),臺(tái)積電支持極紫外光(EUV)微影技術(shù)的7納米加強(qiáng)版(7+)制程將按既定時(shí)程于3月底正式量產(chǎn),而全程采用EUV技術(shù)的5納米制程也將...
三星:奧斯汀工廠正在為fabless客戶生產(chǎn)14/28/32nm的芯片
據(jù)報(bào)道,三星在其位于美國(guó)得克薩斯州奧斯汀市(Austin)的代工廠附近購(gòu)買了一塊面積達(dá)140個(gè)足球場(chǎng)的場(chǎng)地。該公司此舉被視為是為擴(kuò)大其在美國(guó)的代工廠做準(zhǔn)備。
臺(tái)積電5nm工藝比官方宣傳更精細(xì) 晶體管密度達(dá)10nm工藝的3.3倍
一般來說,官方宣傳數(shù)據(jù)都是最理想的狀態(tài),有時(shí)候還會(huì)摻雜一些水分,但是你見過實(shí)測(cè)比官方數(shù)字更漂亮的嗎?
由于美國(guó)的干涉,asml的極紫外線光刻機(jī)無(wú)法出口到中國(guó),甚至深度紫外線光刻機(jī)也受到了限制。很明顯,美國(guó)不會(huì)放松對(duì) EUV光刻機(jī)的出口限制。
臺(tái)積電宣布5nm工藝已經(jīng)量產(chǎn),也在提升EUV工藝的效率及性能
在先進(jìn)半導(dǎo)體工藝上,臺(tái)積電已經(jīng)一騎絕塵了,其他人望不到尾燈了,今年量產(chǎn)了5nm,明年就輪到3nm了。
中科院釋放出“重要信號(hào)”中芯國(guó)際的芯片生產(chǎn)進(jìn)程備受關(guān)注
美國(guó)新規(guī)正式生效后,中芯國(guó)際的芯片生產(chǎn)進(jìn)程成了外界最關(guān)注的問題之一。
來源:內(nèi)容由半導(dǎo)體行業(yè)觀察(ID:icbank)編譯自「seekingalpha」,謝謝。 在科技行業(yè),在硬件方面最受關(guān)注的公司是英偉達(dá)、蘋果、高通和A...
EUV***市場(chǎng):增長(zhǎng)趨勢(shì)、競(jìng)爭(zhēng)格局與前景展望
EUV(Extreme Ultraviolet)光刻機(jī)是一種高級(jí)光刻設(shè)備,用于半導(dǎo)體制造業(yè)中的微電子芯片生產(chǎn)。EUV光刻機(jī)是目前最先進(jìn)的光刻技術(shù)之一,它...
據(jù)了解,V1生產(chǎn)線于2018年2月正式破土動(dòng)動(dòng)建設(shè),在2019年下半年開始測(cè)試晶圓生產(chǎn),到了今年第一季度則可以把第一批產(chǎn)品交付給客戶。
2020年內(nèi)5nm工藝將由臺(tái)積電獨(dú)占 包攬ASML 51%的營(yíng)收占比
臺(tái)積電上周發(fā)布了3月及Q1季度財(cái)報(bào),營(yíng)收同比大漲了42%,淡季不淡。不過接下來的日子半導(dǎo)體行業(yè)可能不太好過了,ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)斷貨,要延期交付...
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