極紫外（EUV）光刻技術將如何影響掩模收入？

體上，三分之二的調查參與者認為這將產生積極的影響。前往EUV時，口罩的數(shù)量減少了。這是因為EUV將整個行業(yè)帶回單一模式。具有多個圖案的193nm浸入需要...

2020-11-23 標簽：芯片光刻技術EUV 1.7k 0

Intel的7nm基于EUV光刻技術有望2020年底推出 10nm或將成為Intel最短命的一代制程

原定2016年底量產的10nm拖到了2019年底，Intel目前僅敢在公開市場拿出Cannon Lake家族的“獨苗”i3-8121U撐門面。可是它僅僅...

2018-12-07 標簽：intelEUV 1.7k 0

三星首曝基于EUV技術的7nm工藝細節(jié)

本周在火奴魯魯舉行的VLSI（超大規(guī)模集成電路）研討會上，三星首次分享了基于EUV技術的7nm工藝細節(jié)。

2018-06-22 標簽：三星電子cpueuv 1.7k 0

ASML真的壓貨太多了嗎？

最近聽到一則消息說是ASML說是壓貨太多，但是其實我們買都買不到。

2023-04-21 標簽：光刻機EUVASML 1.7k 0

DNP突破超2nm EUV光刻光掩模技術

Dai Nippon Printing Co., Ltd.(DNP)近期在半導體制造技術領域取得了重大突破，成功實現(xiàn)了適用于超2nm(納米，即10^-9...

2024-12-23 標簽：硅晶圓DNP半導體制造 1.6k 0

臺積電缺電將持續(xù)

? ? 今年冬天特別「缺電」。 最近，湖南、江西、浙江等地開始限電，多年不見的「拉閘限電」又回來了。 2004、2011年，中國曾出現(xiàn)大規(guī)模的「用電荒」...

2020-12-30 標簽：臺積電光刻機EUV 1.6k 0

中國EUV購買受限,半導體面臨難產

　盡管EUV現(xiàn)在還存在各種障礙，但是其未來應用前景依然各方被看好。從長遠角度來看，發(fā)展EUV技術是非常必要的。對此，林雨指出：“自上世紀九十年代起，中國...

2017-11-15 標簽：半導體產業(yè)三星電子臺積電 1.6k 0

ASML聲稱：EUV設備最快會在2016年推出

電子發(fā)燒友網訊： 光刻設備廠商ASML Holding NV的CEO Eric Meurice 宣稱該公司已經投入到下一代元紫外線光刻技術（EUV）設備...

2012-07-19 標簽：EUVASML 1.6k 0

今日看點丨首次采用EUV技術！英特爾宣布Intel 4已大規(guī)模量產；佳能開始銷售 5nm 芯片生產設備

1. 傳蘋果確認iPhone 16 系列將采用臺積電第二代3nm 工藝N3E ? 蘋果近日確認iPhone 16系列將采用臺積電第二代3nm工藝N3E。...

2023-10-16 標簽：EUV 1.6k 0

美光認為暫時用不上EUV光刻機，DRAM工藝還需發(fā)展

2018-08-20 標簽：DRAM三星電子美光 1.5k 0

ASML CEO傅恪禮:亞洲將繼續(xù)主導芯片行業(yè)

ASML總裁兼CEO傅恪禮近日在接受外媒采訪時指出，盡管西方國家正在積極增加芯片生產，但亞洲在芯片行業(yè)中的主導地位不太可能發(fā)生改變。

2024-10-10 標簽：芯片EUVASML 1.5k 0

替代EUV光刻，新方案公布！

來源：半導體行業(yè)觀察，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 隨著英特爾、三星、臺積電以及日本即將落成的先進晶圓代工廠 Rapidus盡管各家公司都各自準備將...

2024-06-17 標簽：光刻EUV 1.5k 0

三星曝光技術大進展！

據(jù)報導，三星已主要客戶的部分先進 EUV 代工生產在線導入 EUV 光罩護膜。雖然三星也在 DRAM 生產線中采用 EUV 制程，但考慮到生產率和成本，...

2023-12-05 標簽：薄膜EUV三星 1.5k 0

臺積電推出采用EUV的5nm工藝設計 密度提高1.8倍，性能提高15％

臺積電近日宣布，將基于該公司的開放式創(chuàng)新平臺（OIP）提供完整版的5nm工藝設計制成。 據(jù)該公司稱，5nm工藝已經處于風險生產階段，針對5G和人工智能市...

2019-04-10 標簽：臺積電晶圓EUV 1.5k 0

三星臺積電廝殺4nm之戰(zhàn),三星搶先一步入將EUV

晶圓代工之戰(zhàn)，7nm制程預料由臺積電勝出，4nm之戰(zhàn)仍在激烈廝殺。 Android Authority報道稱，三星電子搶先使用極紫外光（EUV）微影設備...

2017-12-01 標簽：三星電子臺積電EUV 1.5k 0