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FinFET全稱叫鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管,是一種新的互補(bǔ)式金氧半導(dǎo)體晶體管。FinFET命名根據(jù)晶體管的形狀與魚鰭的相似性。這種設(shè)計(jì)可以改善電路控制并減少漏電流,縮短晶體管的閘長(zhǎng)。

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finfet資訊

臺(tái)積電正式披露3nm工藝最新細(xì)節(jié) 晶體管密度達(dá)到2.5億/mm2

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半導(dǎo)體廠商產(chǎn)能布局 FinFET與FD-SOI工藝大PK

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2018-08-31 標(biāo)簽:臺(tái)積電FinFET格芯 4.3k 0

中芯國(guó)際透露14納米制程取得重大進(jìn)展

近日,中芯國(guó)際發(fā)布了2018年中期業(yè)績(jī)報(bào)告,報(bào)告顯示,2018年上半年?duì)I收達(dá)17.22億美元,同比增長(zhǎng)11.5%。毛利為4.38億美元,同比增長(zhǎng)5.6%...

2018-08-31 標(biāo)簽:中芯國(guó)際FinFET 4.3k 0

晶體管:后FinFET時(shí)代的技術(shù)演進(jìn)

? ? FinFET晶體管架構(gòu)是當(dāng)今半導(dǎo)體行業(yè)的主力軍。但是,隨著器件的持續(xù)微縮,短溝道效應(yīng)迫使業(yè)界引入新的晶體管架構(gòu)。在本文中,IMEC的3D混合微縮...

2020-12-30 標(biāo)簽:半導(dǎo)體晶體管FinFET 4.2k 0

SSD主控芯片除了做SSD還能有什么用途呢?

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在固態(tài)硬盤量產(chǎn)測(cè)試和可靠性測(cè)試過程中,都是運(yùn)用測(cè)試機(jī)柜(SSD Tester)實(shí)現(xiàn)批量測(cè)試 比如DapuStor 產(chǎn)品之一 MAT

2021-03-21 標(biāo)簽:SSDDPUFinFET 4.2k 0

ANSYS宣布14納米FinFET制程技術(shù)獲聯(lián)電認(rèn)證

ANSYS宣布其ANSYS RedHawk和ANSYSR Totem獲聯(lián)華電子(UMC)的先進(jìn)14納米FinFET制程技術(shù)認(rèn)證。ANSYS和聯(lián)電透過認(rèn)證...

2018-07-17 標(biāo)簽:聯(lián)電ansysfinfet 4.2k 0

要價(jià)25萬“天價(jià)芯片”進(jìn)入黑市,英偉達(dá)再為中國(guó)推“改良”芯片,皆非良策!

電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/吳子鵬)今年10月17日,美政府更新了針對(duì)人工智能(AI)芯片的出口管制規(guī)定,包括限制向中國(guó)出口更先進(jìn)的人工智能芯片和半導(dǎo)體設(shè)備。...

2023-11-11 標(biāo)簽:FinFET英偉達(dá)chiplet 4.1k 0

三星將在明年推5/4nmEUV工藝 2020年推3nmEUV工藝

隨著Globalfoundries以及聯(lián)電退出先進(jìn)半導(dǎo)體工藝研發(fā)、投資,全球有能力研發(fā)7nm及以下工藝的半導(dǎo)體公司就只剩下英特爾、臺(tái)積電及三星了,不過英...

2018-09-06 標(biāo)簽:三星電子FinFETEUV 4.1k 0

FinFET技術(shù)未來有怎樣的發(fā)展的前景

FinFET技術(shù)是電子行業(yè)的下一代前沿技術(shù),是一種全新的新型的多門3D晶體管。

2019-09-23 標(biāo)簽:嵌入式FinFET 4.1k 0

14納米工藝節(jié)點(diǎn)會(huì)給設(shè)計(jì)帶來哪些挑戰(zhàn)?

據(jù)國(guó)際物理系統(tǒng)研討會(huì)(ISPD)上專家表示:實(shí)現(xiàn)14納米芯片生產(chǎn)可能會(huì)比原先想象的更困難;14納米節(jié)點(diǎn)給設(shè)計(jì)師帶來了許多挑戰(zhàn)。這些困難和挑戰(zhàn)何在?詳見本文...

2013-04-08 標(biāo)簽:3DFinFETEUV 4.1k 0

臺(tái)積電宣布其7納米制程進(jìn)入量產(chǎn) 并透露了5納米節(jié)點(diǎn)的首個(gè)時(shí)間表

持續(xù)同時(shí)朝多面向快速進(jìn)展的晶圓代工大廠臺(tái)積電(TSMC),于美國(guó)硅谷舉行的年度技術(shù)研討會(huì)上宣布其7納米制程進(jìn)入量產(chǎn),并將有一個(gè)采用極紫外光微影(EUV)...

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3nm相較于7nm FinFET功耗減半性能增加30%

三星日前簡(jiǎn)要介紹了GAAFET中核心技術(shù)MCBFET(多橋溝道場(chǎng)效應(yīng)晶體管),基于它打造的3nm芯片,相較于7nm FinFET,可以減少50%的能耗,...

2020-04-15 標(biāo)簽:三星電子FinFET 4k 0

芯片制造:14納米技術(shù)路線如何演進(jìn)?

據(jù)相關(guān)媒體報(bào)道,ARM與臺(tái)積電宣布簽署一項(xiàng)長(zhǎng)期合作協(xié)議,兩家公司將以ARMv8微處理器為研發(fā)對(duì)象,探索用FinFET工藝制程技術(shù)來研發(fā)ARMv8的生產(chǎn)工...

2012-07-27 標(biāo)簽:finfetfdsoiUTB-SOI 4k 0

臺(tái)積電3nm FinFET工藝

最小 Lg 是溝道柵極控制的函數(shù),例如從具有不受約束的溝道厚度的單柵極平面器件轉(zhuǎn)移到具有 3 個(gè)柵極圍繞薄溝道的 FinFET,從而實(shí)現(xiàn)更短的 Lg。F...

2023-01-04 標(biāo)簽:臺(tái)積電單柵極FinFET 4k 0

三星宣布已完成5納米FinFET工藝技術(shù)開發(fā)

4月16日,三星官網(wǎng)發(fā)布新聞稿,宣布已經(jīng)完成5納米FinFET工藝技術(shù)開發(fā),現(xiàn)已準(zhǔn)備好向客戶提供樣品。

2019-04-16 標(biāo)簽:三星電子FinFETEUV 4k 0

鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管FinFET提高芯片的驅(qū)動(dòng)能力

鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管(FinFET)是立體多柵器件的一種,其主要特征是由魚鰭形(Fin)的薄層硅構(gòu)成折疊的導(dǎo)電通道,并由雙面或三面折疊包圍的柵極控制。

2022-09-09 標(biāo)簽:集成電路場(chǎng)效應(yīng)晶體管FinFET 3.9k 1

價(jià)值4億美金的專利方案竟是三星搶來的?

三星這兩年把半導(dǎo)體代工業(yè)務(wù)作為重點(diǎn)來抓,今年率先推出了7nm EUV工藝,搶在了臺(tái)積電、GlobalFoundries及英特爾前面。

2018-06-29 標(biāo)簽:三星電子FinFET 3.9k 0

中芯國(guó)際Q2財(cái)報(bào):第二季度營(yíng)收、凈利雙豐收

中芯國(guó)際Q2財(cái)報(bào):第二季度營(yíng)收、凈利雙豐收

8月9日,中芯國(guó)際發(fā)布其2018年第二季度報(bào)。公告顯示,中芯國(guó)際第二季度不僅營(yíng)收、凈利雙增長(zhǎng),14納米制程更是獲得重大進(jìn)展!

2018-08-12 標(biāo)簽:中芯國(guó)際FinFET 3.9k 0

臺(tái)積電將繼續(xù)采用FinFET晶體管技術(shù),有信心保持良好水平

臺(tái)積電3納米將繼續(xù)采取目前的FinFET晶體管技術(shù),這意味著臺(tái)積電確認(rèn)了3納米工藝并非FinFET技術(shù)的瓶頸,甚至還非常有自信能夠在相同的FinFET技...

2020-06-12 標(biāo)簽:臺(tái)積電FinFETLED微縮技術(shù) 3.8k 0

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