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電子發(fā)燒友網(wǎng)>測量儀表>設(shè)計(jì)測試>鍺化硅(SiGe)技術(shù)在測試技術(shù)中的應(yīng)用

鍺化硅(SiGe)技術(shù)在測試技術(shù)中的應(yīng)用

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2020-05-28 11:18:312844

如何使用SiGe技術(shù)提高射頻集成電路的性能

的影響。隨著π/4DQPSK和 8QAM這類非恒定能量調(diào)制方案的使用,上面三個(gè)參數(shù)的重要性越來越大。 SiGe (硅技術(shù)是最近的一項(xiàng)技術(shù)革新,能同時(shí)改善接收機(jī)的功耗、靈敏度和動態(tài)范圍。GST-3是新的基于硅技術(shù)的高速 IC處理工藝,其特點(diǎn)
2020-09-11 10:46:001

化硅工藝高速通信領(lǐng)域有什么樣的應(yīng)用

技術(shù)的迅猛發(fā)展使工程師們能夠設(shè)計(jì)和創(chuàng)建出新型電路,這些電路的速度和性能以前只有用基于GaAs和InP的HBT(異質(zhì)結(jié)雙極晶體管)和PHEMT技術(shù)才能達(dá)到,電路的核心就是化硅SiGe)工藝
2020-09-08 10:47:000

化硅技術(shù)有哪些優(yōu)點(diǎn)和高頻特性的介紹

化硅技術(shù)(Silicon germanium)從20世紀(jì)80年代問世以來,是一種高于普通硅器件的高頻半導(dǎo)體材料,應(yīng)用領(lǐng)域非常廣泛,尤其新一代移動設(shè)備,是良好的高功率放大器,例如:下變頻
2020-09-09 10:47:003

關(guān)于化硅材料導(dǎo)電特性的綜合描述

摘要:從Si材料到化合物半導(dǎo)體再到SiGe,微電子領(lǐng)域應(yīng)用對材料提出了很高的要求,而這些材料卻具有不斷優(yōu)化的性能,SiGe高速發(fā)射和集成方面有很大的進(jìn)步,SiGe-HBT等新技術(shù)的實(shí)驗(yàn)與開發(fā)
2020-12-31 09:37:101261

對氮化硅紅外集成光子學(xué)的波導(dǎo)

紅外波長下,演示了一種具有大纖芯-包層指數(shù)對比度的基平臺——氮化硅波導(dǎo)。仿真驗(yàn)證了該結(jié)構(gòu)的可行性。這種結(jié)構(gòu)是通過首先將氮化硅沉積的硅上施主晶片鍵合到硅襯底晶片上,然后通過層轉(zhuǎn)移方法獲得氮化硅結(jié)構(gòu)來實(shí)現(xiàn)的,該結(jié)構(gòu)可擴(kuò)展到所有晶片尺寸。
2021-12-16 17:37:572046

基于硅的新型整流器技術(shù)的解決方案

電力電子器件的分立整流器是決定性組件,影響著電動汽車的“車載充電器”等重要單元的效率、可靠性和尺寸。近年來,碳化硅 (SiC) 肖特基二極管已成為電力電子領(lǐng)域最先進(jìn)的整流器技術(shù)。然而,碳化硅
2022-08-05 08:04:471451

化硅技術(shù)壁壘分析:碳化硅技術(shù)壁壘是什么 碳化硅技術(shù)壁壘有哪些

化硅技術(shù)壁壘分析:碳化硅技術(shù)壁壘是什么 碳化硅技術(shù)壁壘有哪些 碳化硅芯片不僅是一個(gè)新風(fēng)口,也是一個(gè)很大的挑戰(zhàn),那么我們來碳化硅技術(shù)壁壘分析下碳化硅技術(shù)壁壘是什么?碳化硅技術(shù)壁壘有哪些? 1
2023-02-03 15:25:165686

120V,1A 硅(SiGe) 整流器-PMEG120G10ELR

120 V、1 A 硅 (SiGe) 整流器-PMEG120G10ELR
2023-02-08 19:03:031

200V,3A 硅(SiGe) 整流器-PMEG200G30ELP-Q

200 V、3 A 硅 (SiGe) 整流器-PMEG200G30ELP-Q
2023-02-16 20:22:530

200V,2A 硅(SiGe) 整流器-PMEG200G20ELR-Q

200 V、2 A 硅 (SiGe) 整流器-PMEG200G20ELR-Q
2023-02-16 20:23:060

200V,2A 硅(SiGe) 整流器-PMEG200G20ELP-Q

200 V、2 A 硅 (SiGe) 整流器-PMEG200G20ELP-Q
2023-02-16 20:23:190

200V,1A 硅(SiGe) 整流器-PMEG200G10ELR-Q

200 V、1 A 硅 (SiGe) 整流器-PMEG200G10ELR-Q
2023-02-16 20:23:370

150V,3A 硅(SiGe) 整流器-PMEG150G30ELP-Q

150 V、3 A 硅 (SiGe) 整流器-PMEG150G30ELP-Q
2023-02-16 20:24:110

150V,2A 硅(SiGe) 整流器-PMEG150G20ELR-Q

150 V、2 A 硅 (SiGe) 整流器-PMEG150G20ELR-Q
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150V,2A 硅(SiGe) 整流器-PMEG150G20ELP-Q

150 V、2 A 硅 (SiGe) 整流器-PMEG150G20ELP-Q
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150V,1A 硅(SiGe) 整流器-PMEG150G10ELR-Q

150 V、1 A 硅 (SiGe) 整流器-PMEG150G10ELR-Q
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120V,3A 硅(SiGe) 整流器-PMEG120G30ELP-Q

120 V、3 A 硅 (SiGe) 整流器-PMEG120G30ELP-Q
2023-02-16 20:25:080

120V,2A 硅(SiGe) 整流器-PMEG120G20ELR-Q

120 V、2 A 硅 (SiGe) 整流器-PMEG120G20ELR-Q
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120V,2A 硅(SiGe) 整流器-PMEG120G20ELP-Q

120 V、2 A 硅 (SiGe) 整流器-PMEG120G20ELP-Q
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120V,1A 硅(SiGe) 整流器-PMEG120G10ELR-Q

120 V、1 A 硅 (SiGe) 整流器-PMEG120G10ELR-Q
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150V,1A 硅(SiGe) 整流器-PMEG150G10ELR

150 V、1 A 硅 (SiGe) 整流器-PMEG150G10ELR
2023-02-17 19:47:520

200V,1A 硅(SiGe) 整流器-PMEG200G10ELR

200 V、1 A 硅 (SiGe) 整流器-PMEG200G10ELR
2023-02-17 19:48:090

200V,2A 硅(SiGe) 整流器-PMEG200G20ELR

200 V、2 A 硅 (SiGe) 整流器-PMEG200G20ELR
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200V,3A 硅(SiGe) 整流器-PMEG200G30ELP

200 V、3 A 硅 (SiGe) 整流器-PMEG200G30ELP
2023-02-17 20:02:550

200V,2A 硅(SiGe) 整流器-PMEG200G20ELP

200 V、2 A 硅 (SiGe) 整流器-PMEG200G20ELP
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150V,3A 硅(SiGe) 整流器-PMEG150G30ELP

150 V、3 A 硅 (SiGe) 整流器-PMEG150G30ELP
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150V,2A 硅(SiGe) 整流器-PMEG150G20ELR

150 V、2 A 硅 (SiGe) 整流器-PMEG150G20ELR
2023-02-17 20:03:410

150V,2A 硅(SiGe) 整流器-PMEG150G20ELP

150 V、2 A 硅 (SiGe) 整流器-PMEG150G20ELP
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120V,3A 硅(SiGe) 整流器-PMEG120G30ELP

120 V、3 A 硅 (SiGe) 整流器-PMEG120G30ELP
2023-02-20 18:44:010

120V,2A 硅(SiGe) 整流器-PMEG120G20ELP

120 V、2 A 硅 (SiGe) 整流器-PMEG120G20ELP
2023-02-20 18:44:200

120V,2A 硅(SiGe) 整流器-PMEG120G20ELR

120 V、2 A 硅 (SiGe) 整流器-PMEG120G20ELR
2023-02-20 19:16:480

技術(shù)增強(qiáng)無線電前端性能

本應(yīng)用筆記介紹了硅如何增強(qiáng)RF應(yīng)用的IC性能。賈科萊托模型用于分析噪聲效應(yīng)。SiGe技術(shù)的更寬增益帶寬表明可提供更低的噪聲性能。探討了SiGe對線性度的影響。
2023-02-24 14:23:262066

什么是碳化硅半導(dǎo)體

硅(Si)是電子產(chǎn)品中常用的純半導(dǎo)體的一個(gè)例子。(Ge)是另一種純半導(dǎo)體,用于一些最早的電子設(shè)備。半導(dǎo)體也由化合物制成,包括砷化鎵 (GaAs)、氮化鎵 (GaN)、硅SiGe) 和碳化硅 (SiC)。我們稍后將回到最后一項(xiàng)。
2023-05-24 11:26:144445

SiGe技術(shù)提高無線前端性能

SiGe (硅)技術(shù)是最近的一項(xiàng)技術(shù)革新,能同時(shí)改善接收機(jī)的功耗、靈敏度和動態(tài)范圍。GST-3是新的基于硅技術(shù)的高速IC處理工藝,其特點(diǎn)是具有35GHz的特征頻率(fT)。下面的典型前端框圖(圖1)給出了用硅技術(shù)實(shí)現(xiàn)的混頻器和低噪聲放大器(LNA)可能達(dá)到的性能(1.9GHz)。
2023-06-09 14:11:251573

Si/SiGe多層堆疊的干法蝕刻

引言 近年來,硅/硅異質(zhì)結(jié)構(gòu)已成為新型電子和光電器件的熱門課題。因此,人們對硅/硅體系的結(jié)構(gòu)制造和輸運(yùn)研究有相當(dāng)大的興趣。定義Si/SiGe的不同器件時(shí),反應(yīng)離子刻蝕法(RIE)圖案轉(zhuǎn)移過程
2023-12-28 10:39:511694

化硅SiGe)和硅(Si)之間的各向同性和選擇性蝕刻機(jī)制

引言 目前,硅的電氣和熱性能在微電子技術(shù)領(lǐng)域中應(yīng)用廣泛。化硅SiGe)合金的使用頻率越來越高,互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體技術(shù),英思特通過使用SON結(jié)構(gòu)以及進(jìn)行各向同性刻蝕,將該工藝擴(kuò)展到對Si進(jìn)行
2024-02-21 16:53:553979

源漏嵌入SiGe應(yīng)變技術(shù)簡介

。它是通過外延生長技術(shù)源漏嵌入SiGe 應(yīng)變材料,利用和硅晶格常數(shù)不同,從而對襯底硅產(chǎn)生應(yīng)力,改變硅價(jià)帶的能帶結(jié)構(gòu),降低空穴的電導(dǎo)有效質(zhì)量。
2024-07-26 10:37:073807

探究電驅(qū)動系統(tǒng)化硅功率器件封裝的三大核心技術(shù)

電動汽車、風(fēng)力發(fā)電等電驅(qū)動系統(tǒng),碳化硅功率器件以其優(yōu)異的性能逐漸取代了傳統(tǒng)的硅基功率器件。然而,要充分發(fā)揮碳化硅功率器件的優(yōu)勢,其封裝技術(shù)尤為關(guān)鍵。本文將重點(diǎn)探討碳化硅功率器件封裝的三個(gè)關(guān)鍵技術(shù):低雜散電感封裝技術(shù)、高溫封裝技術(shù)以及多功能集成封裝技術(shù)。
2024-08-19 09:43:341049

SiGe外延工藝及其在外延生長、應(yīng)變硅應(yīng)用及GAA結(jié)構(gòu)的作用

本文介紹SiGe外延工藝及其在外延生長、應(yīng)變硅應(yīng)用以及GAA結(jié)構(gòu)的作用。 ? 現(xiàn)代半導(dǎo)體技術(shù),隨著器件尺寸的不斷縮小,傳統(tǒng)的硅基材料逐漸難以滿足高性能和低功耗的需求。SiGe(硅)作為一種
2024-12-20 14:17:496643

材料、硅退火片和絕緣體上硅(SOI)的介紹

本文介紹硅材料、硅退火片和絕緣體上硅(SOI) 硅SiGe/Si)材料 硅SiGe/Si)材料,作為近十年來硅基材料的新發(fā)展,通過硅襯底上生長硅合金外延層而制得。這種材料多個(gè)領(lǐng)域
2024-12-24 09:44:122710

化硅器件工業(yè)應(yīng)用技術(shù)優(yōu)勢

,正逐漸取代硅(Si)器件,工業(yè)自動化、電力電子、能源轉(zhuǎn)換等多領(lǐng)域中發(fā)揮著越來越重要的作用。本文將深入分析碳化硅器件工業(yè)應(yīng)用技術(shù)優(yōu)勢、主要應(yīng)用場景及未來發(fā)展趨勢,幫助讀者全面了解SiC工業(yè)領(lǐng)域的巨大潛力。
2025-08-25 14:10:301466

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