半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)跟蹤報告：ALD技術(shù)進行薄膜沉積工藝優(yōu)勢

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半導(dǎo)體器件(33951) 半導(dǎo)體器件(33951)
晶圓制造(25194) 晶圓制造(25194)

淺談薄膜沉積

薄膜沉積工藝技術(shù)介紹薄膜沉積是在半導(dǎo)體的主要襯底材料上鍍一層膜。這層膜可以有各種各樣的材料，比如絕緣化合物二氧化硅，半導(dǎo)體多晶硅、金屬銅等。從半導(dǎo)體芯片制作工藝流程來說，位于前道工藝中。隨著

2024-11-01 11:08:07

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質(zhì)量流量控制器在薄膜沉積工藝中的應(yīng)用

聽上去很高大上的“薄膜沉積”到底是什么？簡單來說：薄膜沉積就是幫芯片“貼膜”的。薄膜沉積（Thin Film Deposition）是在半導(dǎo)體的主要襯底材料上鍍一層膜，再配合蝕刻和拋光等工藝

2025-04-16 14:25:09

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半導(dǎo)體工藝幾種工藝制程介紹

　　半導(dǎo)體發(fā)展至今，無論是從結(jié)構(gòu)和加工技術(shù)多方面都發(fā)生了很多的改進，如同Gordon E. Moore老大哥預(yù)測的一樣，半導(dǎo)體器件的規(guī)格在不斷的縮小，芯片的集成度也在不斷提升，工藝制程從90nm

2020-12-10 06:55:40

半導(dǎo)體工藝講座

半導(dǎo)體工藝講座ObjectiveAfter taking this course, you will able to? Use common semiconductor terminology

2009-11-18 11:31:10

半導(dǎo)體工藝技術(shù)的發(fā)展趨勢

　　業(yè)界對哪種半導(dǎo)體工藝最適合某一給定應(yīng)用存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術(shù)能更好地服務(wù)一些應(yīng)用，但其它工藝技術(shù)也有很大的應(yīng)用空間。像CMOS、BiCMOS、砷化鎵（GaAs）、磷化銦（InP

2019-07-05 08:13:58

半導(dǎo)體工藝技術(shù)的發(fā)展趨勢是什么？

2019-08-20 08:01:20

半導(dǎo)體技術(shù)天地

請教下以前的[半導(dǎo)體技術(shù)天地]哪里去了

2020-08-04 17:03:41

半導(dǎo)體技術(shù)如何變革汽車設(shè)計產(chǎn)業(yè)的

半導(dǎo)體技術(shù)是如何變革汽車設(shè)計產(chǎn)業(yè)的？

2021-02-22 09:07:43

半導(dǎo)體技術(shù)如何改進電控天線SWaP-C

多個數(shù)據(jù)流，并以超低的成本，延長工作壽命。有些應(yīng)用需要抵消輸入阻塞信號的作用，降低攔截概率。正在席卷整個行業(yè)的相控天線設(shè)計為這些挑戰(zhàn)提供了解決辦法。人們開始采用先進的半導(dǎo)體技術(shù)解決相控陣天線過去存在的缺點，以最終

2021-01-20 07:11:05

半導(dǎo)體薄膜厚度檢測設(shè)備設(shè)備出售

蘇州華林科納半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司成立于2008年3月，投資4500萬元。主要從事半導(dǎo)體、太陽能、FPD領(lǐng)域濕制程設(shè)備的設(shè)計、研發(fā)、生產(chǎn)及銷售；同時代理半導(dǎo)體、太陽能、FPD領(lǐng)域其它國外設(shè)備，負責(zé)

2015-04-02 17:21:04

半導(dǎo)體行業(yè)的趨勢

半導(dǎo)體行業(yè)的趨勢是什么？在當(dāng)前科技日新月異、需求層出不窮的背景下，芯片廠商如何找準自己的定位以不被時代淘汰？近日，EEWORLD記者有幸借助在硅谷舉辦的euroasia PRESS 拜訪Altera

2019-06-25 06:31:51

半導(dǎo)體制程

的積體電路所組成，我們的晶圓要通過氧化層成長、微影技術(shù)、蝕刻、清洗、雜質(zhì)擴散、離子植入及薄膜沉積等技術(shù)，所須制程多達二百至三百個步驟。半導(dǎo)體制程的繁雜性是為了確保每一個元器件的電性參數(shù)和性能，那么他的原理又是

2018-11-08 11:10:34

半導(dǎo)體制造的難點匯總

以及降低成本。由于半導(dǎo)體制造的工藝性涉及多個行業(yè)，專門從事供應(yīng)的行業(yè)發(fā)展起來以提供硅片制造需要的化學(xué)材料和設(shè)備。眾多高技術(shù)公司于20世紀60年代成立：1968年，成立英特爾公司。1969年，成立AMD。20

2020-09-02 18:02:47

半導(dǎo)體廠商在家電變頻技術(shù)競爭

作為通訊乃至軍事行業(yè)的技術(shù)支撐者，半導(dǎo)體廠商曾經(jīng)離家用電器行業(yè)很“遠”，而現(xiàn)在，隨著家電應(yīng)用市場和功能的擴展，消費者對家電產(chǎn)品的質(zhì)量和技術(shù)的要求越來越高，半導(dǎo)體廠商轉(zhuǎn)身成為了家電變頻技術(shù)的競技者

2019-06-21 07:45:46

半導(dǎo)體發(fā)展的四個時代

等公司是這一歷史階段的先驅(qū)?，F(xiàn)在，ASIC 供應(yīng)商向所有人提供了設(shè)計基礎(chǔ)設(shè)施、芯片實施和工藝技術(shù)。在這個階段，半導(dǎo)體行業(yè)開始出現(xiàn)分化。有了設(shè)計限制，出現(xiàn)了一個更廣泛的工程師社區(qū)，它們可以設(shè)計和構(gòu)建定制

2024-03-13 16:52:37

半導(dǎo)體發(fā)展的四個時代

公司是這一歷史階段的先驅(qū)?，F(xiàn)在，ASIC 供應(yīng)商向所有人提供了設(shè)計基礎(chǔ)設(shè)施、芯片實施和工藝技術(shù)。在這個階段，半導(dǎo)體行業(yè)開始出現(xiàn)分化。有了設(shè)計限制，出現(xiàn)了一個更廣泛的工程師社區(qū)，它們可以設(shè)計和構(gòu)建定制

2024-03-27 16:17:34

半導(dǎo)體塑封設(shè)備

本人小白，最近公司想上半導(dǎo)體器件的塑封生產(chǎn)線，主要是小型貼片器件封裝，例如sot系列。設(shè)備也不需要面面俱到，能進行小規(guī)模正常生產(chǎn)就行。哪位大神能告知所需設(shè)備的信息，以及這些設(shè)備的國內(nèi)外生產(chǎn)廠家，在此先行感謝！

2022-01-22 12:26:47

作者： Robert GeeMaxim Integrated核心產(chǎn)品事業(yè)部執(zhí)行業(yè)務(wù)經(jīng)理在半導(dǎo)體測試領(lǐng)域，管理成本依然是最嚴峻的挑戰(zhàn)之一，因為自動化測試設(shè)備(ATE)是一項重大的資本支出。那么，有沒有能夠降低每片晶圓的成本，從而提升競爭優(yōu)勢的方法呢？有，答案就是提高吞吐率。

2019-07-29 08:11:12

半導(dǎo)體清洗設(shè)備

蘇州晶淼專業(yè)生產(chǎn)半導(dǎo)體、光伏、LED等行業(yè)清洗腐蝕設(shè)備，可根據(jù)要求定制濕法腐蝕設(shè)備。晶淼半導(dǎo)體為國內(nèi)專業(yè)微電子、半導(dǎo)體行業(yè)腐蝕清洗設(shè)備供應(yīng)商，歡迎來電咨詢。電話：***，13771786452王經(jīng)理

2016-09-05 10:40:27

半導(dǎo)體濕法腐蝕設(shè)備

行業(yè)及高等院校、研究所等高科技領(lǐng)域的生產(chǎn)和研發(fā)。我們的每臺設(shè)備除標準化制作外，還可根據(jù)客戶的工藝需求和工作環(huán)境的具體要求，對設(shè)備進行人性化、個性化設(shè)計。歡迎來電咨詢。電話：***，13771786452王經(jīng)理

2016-09-06 13:53:08

半導(dǎo)體生產(chǎn)行業(yè)檢測儀器遠程在線式塵埃粒子計數(shù)器

的跨越，裝備產(chǎn)業(yè)將是重要環(huán)節(jié)，其中需要更多的創(chuàng)新，才能引領(lǐng)中國半導(dǎo)體設(shè)備的發(fā)展，并推動我國芯片工藝制程和技術(shù)跨越式提升。3DFlash存儲器、人工智能芯片、MEMS/sensor芯片、GaN/SiC功率

2020-12-08 10:18:29

半導(dǎo)體電阻率測試方案解析

　　電阻率是決定半導(dǎo)體材料電學(xué)特性的重要參數(shù)，為了表征工藝質(zhì)量以及材料的摻雜情況，需要測試材料的電阻率。半導(dǎo)體材料電阻率測試方法有很多種，其中四探針法具有設(shè)備簡單、操作方便、測量精度高以及對樣品形狀

2021-01-13 07:20:44

半導(dǎo)體芯片行業(yè)的運作模式有哪些

半導(dǎo)體芯片行業(yè)的運作模式

2020-12-29 07:46:38

SPC在半導(dǎo)體在半導(dǎo)體晶圓廠的實際應(yīng)用

）輸人計算機的數(shù)據(jù)必須及時真實可靠，不得進行人為篩選；（3）在數(shù)據(jù)波動比較大時，注意分析原材料、設(shè)備和環(huán)境等因素，避免盲目改變工藝條件，以免出現(xiàn)浪費。本文摘自《半導(dǎo)體技術(shù)》

2018-08-29 10:28:14

[轉(zhuǎn)帖]半導(dǎo)體技術(shù)

  ***********EMD代理美國SCI高精準薄膜度量系統(tǒng) 與軟件分析產(chǎn)品，美國SCI為世界薄膜度量系統(tǒng)和分析軟件行業(yè)的領(lǐng)軍者，其產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體，OLED/LCD

2008-12-30 18:47:30

《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》半導(dǎo)體行業(yè)的濕化學(xué)分析——總覽

書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章：半導(dǎo)體行業(yè)的濕化學(xué)分析——總覽編號：JFSJ-21-075作者：炬豐科技網(wǎng)址：http://www.wetsemi.com/index.html對液體和溶液進行

2021-07-09 11:30:18

《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》IC制造工藝

`書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章：IC制造工藝編號：JFSJ-21-046作者：炬豐科技網(wǎng)址：http://www.wetsemi.com/index.html摘要：集成電路的制造主要包括以下工藝

2021-07-08 13:13:06

《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》III-V/SOI 波導(dǎo)電路的化學(xué)機械拋光工藝開發(fā)

書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章：III-V/SOI 波導(dǎo)電路的化學(xué)機械拋光工藝開發(fā)編號：JFSJ-21-064作者：炬豐科技網(wǎng)址：http://www.wetsemi.com

2021-07-08 13:14:11

《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》硅納米柱與金屬輔助化學(xué)蝕刻的比較

下方的蝕刻速率遠高于沒有金屬時的蝕刻速率，因此當(dāng)半導(dǎo)體正被蝕刻在下方時，金屬層會下降到半導(dǎo)體中。4 本報告描述了使用 MacEtch 工藝制造 100 到 1000 nm 的納米柱。電子束光刻：硅晶片用

2021-07-06 09:33:58

《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》超大規(guī)模集成電路制造技術(shù)簡介

`書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章：超大規(guī)模集成電路制造技術(shù)簡介編號：JFSJ-21-076作者：炬豐科技概括VLSI制造中使用的材料材料根據(jù)其導(dǎo)電特性可分為三大類：絕緣體導(dǎo)體半導(dǎo)體

2021-07-09 10:26:01

【維信諾集團】號外！號外！AMOLED熱門職位全面開放~~~

及以上學(xué)歷，物理、材料、化學(xué)、或半導(dǎo)體專業(yè)，至少1年工作經(jīng)驗，CET-4以上；1.熟悉薄膜制備的方法和表征手段，具有PECVD、ALD、噴墨打印或閃蒸發(fā)等相關(guān)薄膜沉積工作經(jīng)驗；2.熟悉真空設(shè)備相關(guān)

2017-02-08 17:23:27

為什么說移動終端發(fā)展引領(lǐng)了半導(dǎo)體工藝新方向？

哪種半導(dǎo)體工藝最適合某一指定應(yīng)用？對此，業(yè)界存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術(shù)能更好地服務(wù)一些應(yīng)用，但其它工藝技術(shù)也有很大的應(yīng)用空間。像CMOS、BiCMOS、砷化鎵（GaAs）、磷化銦（InP

2019-08-02 08:23:59

低阻抗功率半導(dǎo)體開關(guān)有哪些關(guān)鍵特性和應(yīng)用優(yōu)勢？

什么是堆疊式共源共柵？低阻抗功率半導(dǎo)體開關(guān)有哪些關(guān)鍵特性？低阻抗功率半導(dǎo)體開關(guān)有哪些應(yīng)用優(yōu)勢？

2021-06-26 06:14:32

單片機晶圓制造工藝及設(shè)備詳解

今日分享晶圓制造過程中的工藝及運用到的半導(dǎo)體設(shè)備。晶圓制造過程中有幾大重要的步驟：氧化、沉積、光刻、刻蝕、離子注入/擴散等。這幾個主要步驟都需要若干種半導(dǎo)體設(shè)備，滿足不同的需要。設(shè)備中應(yīng)用較為廣泛

2018-10-15 15:11:22

國產(chǎn)設(shè)備如何立足半導(dǎo)體市場

。從產(chǎn)業(yè)政策方面講，國家對設(shè)備制造業(yè)的支持力度也不夠大，研發(fā)投入少得可憐。而且，國內(nèi)設(shè)備制造業(yè)與工藝生產(chǎn)相脫節(jié)，缺乏工藝方面的支撐，其研發(fā)周期相對較長。更為重要的是，長期以來，我國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)落后

2008-08-16 23:05:04

提供半導(dǎo)體二手及翻新設(shè)備（前道和后道）

的設(shè)備。可供應(yīng)翻新半導(dǎo)體工藝設(shè)備包括：光刻機步進光刻機涂膠顯影化學(xué)濕臺沉積設(shè)備 劃片及磨片設(shè)備 電子束蒸發(fā) CVD沉積設(shè)備 刻蝕設(shè)備 離子注入機顯微鏡探針臺薄膜測厚儀表面檢測設(shè)備 鍵合機

2009-10-14 11:05:53

摩爾定律推動了整個半導(dǎo)體行業(yè)的變革

行業(yè)的“傳奇定律”——摩爾定律就此誕生，它不僅揭示了信息技術(shù)進步的速度，更在接下來的半個實際中，猶如一只無形大手般推動了整個半導(dǎo)體行業(yè)的變革。

2019-07-01 07:57:50

最全最詳盡的半導(dǎo)體制造技術(shù)資料，涵蓋晶圓工藝到后端封測

——薄膜制作(Layer)、圖形光刻(Pattern)、刻蝕和摻雜，再到測試封裝，一目了然。全書共分20章，根據(jù)應(yīng)用于半導(dǎo)體制造的主要技術(shù)分類來安排章節(jié)，包括與半導(dǎo)體制造相關(guān)的基礎(chǔ)技術(shù)信息；總體流程圖

2025-04-15 13:52:11

有關(guān)半導(dǎo)體工藝的問題

circuit technique ）（百度百科）電子集成技術(shù)按工藝方法分為以硅平面工藝為基礎(chǔ)的單片集成電路、以薄膜技術(shù)為基礎(chǔ)的薄膜集成電路和以絲網(wǎng)印刷技術(shù)為基礎(chǔ)的厚膜集成電路。 半導(dǎo)體工藝是集成電路工藝

2009-09-16 11:51:34

標題:群“芯”閃耀的半導(dǎo)體行業(yè)

的產(chǎn)品附加值保證了產(chǎn)業(yè)利潤仍大幅提升，盈利能力也大大增強。另外，我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)集中度很低，上市公司大多是各個細分行業(yè)的龍頭，但行業(yè)代表性并不高。由于在技術(shù)和規(guī)模上的優(yōu)勢，其利潤率水平也要高于行業(yè)平均水平

2008-09-23 15:43:09

淺析化合物半導(dǎo)體技術(shù)

美元增長到2022年25億美元1。此外，隨著通信行業(yè)對器件性能的要求逐漸提高，GaN、GaAs等化合物半導(dǎo)體器件的優(yōu)勢逐漸顯現(xiàn)，傳統(tǒng)硅工藝器件逐漸被取代，預(yù)計到2025年，化合物半導(dǎo)體將占據(jù)射頻器件市場份額的80%以上。

2019-06-13 04:20:24

蘇州華林科納半導(dǎo)體設(shè)備

2015-04-02 17:26:21

蘇州華林科納半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司招賢納士

刻蝕工藝以滿足工藝集成要求; 3、與其他工程師緊密配合，進行半導(dǎo)體工藝流程分析任職要求： 1、大學(xué)本科學(xué)歷（含）以上 2、掌握半導(dǎo)體基礎(chǔ)理論，制品及器件技術(shù)，熟悉設(shè)備 、工藝、制造等相關(guān)內(nèi)容

2016-10-26 17:05:04

請問一下8寸原子層沉積設(shè)備ALD，單晶片。國內(nèi)設(shè)備大約在什么價位?。?/a>

請問一下8寸原子層沉積設(shè)備ALD，單晶片。國內(nèi)設(shè)備大約在什么價位??？

2023-06-16 11:12:27

半導(dǎo)體設(shè)備治具清洗爐-新工藝

半導(dǎo)體設(shè)備用治具的清洗爐（Vacuum Bake Cleaner）●該設(shè)備用于去除附著在 MOCVD 托盤和零部件上的沉積物（GaN、AlN 等）。采用潔凈氣體的干式清洗法，因此不需要濕法后道處

2022-01-14 14:21:00

沉積薄膜高度臺階儀

中圖儀器NS系列沉積薄膜高度臺階儀能夠測量納米到330μm或1050μm的臺階高度，可以準確測量蝕刻、濺射、SIMS、沉積、旋涂、CMP等工藝期間沉積或去除的材料。NS系列沉積薄膜高度臺階儀主要

2024-10-09 15:59:48

半導(dǎo)體制程之薄膜沉積

半導(dǎo)體制程之薄膜沉積在半導(dǎo)體組件工業(yè)中，為了對所使用的材料賦與某種特性，在材料表面上常以各種方法形成被膜而加以使用，假如

2009-03-06 17:14:58

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半導(dǎo)體藥液單元

半導(dǎo)體藥液單元（Chemical Delivery Unit, CDU）是半導(dǎo)體前道工藝（FEOL）中的關(guān)鍵設(shè)備，用于精準分配、混合和回收高純化學(xué)試劑（如蝕刻液、清洗液、顯影液等），覆蓋光刻、蝕刻

2025-06-17 11:38:08

ALD技術(shù)半導(dǎo)體工藝領(lǐng)域發(fā)展及應(yīng)用

由于低溫沉積、薄膜純度以及絕佳覆蓋率等固有優(yōu)點，ALD（原子層淀積）技術(shù)早從21世紀初即開始應(yīng)用于半導(dǎo)體加工制造。DRAM電容的高k介電質(zhì)沉積率先采用此技術(shù)，但近來ALD在其它半導(dǎo)體工藝領(lǐng)域也已發(fā)展

2018-02-13 03:16:00

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泛林集團宣布推出一種用于沉積低氟填充鎢薄膜的新型原子層沉積（ALD）工藝

泛林集團宣布推出一種用于沉積低氟填充鎢薄膜的新型原子層沉積（ALD）工藝，標志著其業(yè)界領(lǐng)先的 ALTUS? 產(chǎn)品系列又添新成員。通過業(yè)內(nèi)首創(chuàng)的低氟鎢（LFW） ALD 工藝，ALTUS Max

2018-05-24 17:19:00

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全球薄膜沉積設(shè)備市場規(guī)模至2025年有望達到340億美元

沉積是半導(dǎo)體制造工藝中的一個非常重要的技術(shù)，其是一連串涉及原子的吸附、吸附原子在表面擴散及在適當(dāng)?shù)奈恢孟戮劢Y(jié)，以漸漸形成薄膜并成長的過程。在一個新晶圓投資建設(shè)中，晶圓廠80%的投資用于購買設(shè)備。其中，薄膜沉積設(shè)備是晶圓制造的核心步驟之一，占據(jù)著約25%的比重。

2020-09-07 15:50:10

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半導(dǎo)體單晶和薄膜制造技術(shù)

半導(dǎo)體單晶和薄膜制造技術(shù)說明。

2021-04-08 13:56:51

淺談ALD在半導(dǎo)體先進制程的應(yīng)用

說明：若有考慮不周，歡迎留言指正。原子層沉積在半導(dǎo)體先進制程的應(yīng)用隨著集成電路工藝技術(shù)的不斷提高，晶體管的特征尺寸及刻蝕溝槽不斷減小，溝槽及其側(cè)壁的鍍膜技術(shù)面臨嚴峻的挑戰(zhàn)，物理氣相沉積（PVD

2021-04-17 09:43:21

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第三代半導(dǎo)體熱潮“帶貨”沉積設(shè)備需求，供應(yīng)鏈與服務(wù)本地化成關(guān)鍵考量

業(yè)界主流的薄膜沉積工藝主要有原子層沉積（ALD）、物理式真空鍍膜（PVD）和化學(xué)式真空鍍膜（CVD）等，其中ALD屬于CVD的一種，屬于當(dāng)下最先進的薄膜沉積技術(shù)。

2021-09-03 11:12:42

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原子層沉積（ALD）工藝助力實現(xiàn)PowderMEMS技術(shù)平臺

Fraunhofer ISIT的PowderMEMS是一項新研發(fā)的創(chuàng)新技術(shù)，用于在晶圓級上從多種材料中創(chuàng)建三維微結(jié)構(gòu)。該技術(shù)基于通過原子層沉積（ALD）工藝在空腔中將微米級粉末顆粒粘合在一起。

2022-03-17 09:46:23

3303

薄膜沉積設(shè)備介紹

薄膜沉積設(shè)備介紹

2022-06-22 15:22:17

如何解決主要的 ALD 和 ALE 半導(dǎo)體工藝挑戰(zhàn)

在高精密的半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，一些重要的流體系統(tǒng)組件質(zhì)量是成本門檻。例如，在原子層沉積 (ALD) 和原子層蝕刻 (ALE) 工藝中，—隨著工藝節(jié)點變得越來越小而日益難以維持—，系統(tǒng)中使用的任何組件均應(yīng)

2022-09-02 13:19:01

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「芯品動態(tài)」盛美新型熱ALD立式爐設(shè)備滿足高端半導(dǎo)體生產(chǎn)需求

盛美半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司對其300mm Ultra Fn立式爐干法工藝平臺進行了功能擴展，研發(fā)出新型Ultra Fn A立式爐設(shè)備。該設(shè)備的熱原子層沉積（ALD）功能豐富了盛美上海立式爐系列設(shè)備的應(yīng)用。首臺Ultra Fn A立式爐設(shè)備已于9月底運往中國一家先進的邏輯制造商。

2022-11-01 09:18:15

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原子層沉積（Atomic Layer Deposition，ALD）

由于 ALD 技術(shù)逐層生長薄膜的特點，所以 ALD 薄膜具有極佳的合階覆蓋能力，以及極高的沉積均勻性和一致性，同時可以較好她控制其制備薄膜的厚度、成分和結(jié)構(gòu)，因此被廣泛地應(yīng)用在微電子領(lǐng)域。

2022-11-07 10:43:16

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Beneq和LZH合作開發(fā)空間ALD系統(tǒng)，可快速在復(fù)雜光學(xué)元件上鍍膜

Hannover（簡稱：LZH）合作開發(fā)了一種新的空間ALD系統(tǒng)，該系統(tǒng)實現(xiàn)“以前所未有的速度在復(fù)雜形狀的光學(xué)元件上涂覆薄膜層”。 Beneq的ALD系統(tǒng)（稱為C2R）可實現(xiàn)高達200 rpm的速度，沉積速率高達1 μm/h。LZH指出，ALD是一種自限性和各向同性工藝，每個周期產(chǎn)生大約1埃的層厚度。這

2022-12-22 16:30:24

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晶圓制造的三大核心之薄膜沉積的原子層沉積（ALD）技術(shù)

ALD技術(shù)是一種將物質(zhì)以單原子膜的形式逐層鍍在基底表面的方法，能夠?qū)崿F(xiàn)納米量級超薄膜的沉積。

2023-04-25 16:01:05

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中微公司推出12英寸薄膜沉積設(shè)備Preforma Uniflex? CW

近日，中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司（以下簡稱“中微公司”，上交所股票代碼：688012）推出自主研發(fā)的12英寸低壓化學(xué)氣相沉積（LPCVD）設(shè)備Preforma Uniflex CW。這是中微公司深耕高端微觀加工設(shè)備多年、在半導(dǎo)體薄膜沉積領(lǐng)域取得的新突破，也是實現(xiàn)公司業(yè)務(wù)多元化增長的新動能。

2023-05-17 17:08:41

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基于PVD 薄膜沉積工藝

。 PVD 沉積工藝在半導(dǎo)體制造中用于為各種邏輯器件和存儲器件制作超薄、超純金屬和過渡金屬氮化物薄膜。最常見的 PVD 應(yīng)用是鋁板和焊盤金屬化、鈦和氮化鈦襯墊層、阻擋層沉積和用于互連金屬化的銅阻擋層種子沉積。 PVD 薄膜沉積工藝需要一個高真空的平臺，在

2023-05-26 16:36:51

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薄膜電容的原理工藝薄膜電容和電解電容的區(qū)別

薄膜電容是指將金屬膜或半導(dǎo)體薄膜沉積在絕緣基板上，然后制成電容器。這種電容器具有結(jié)構(gòu)簡單、體積小、重量輕、可靠性高等特點，被廣泛應(yīng)用于電子設(shè)備領(lǐng)域。本文將從薄膜電容的基本原理、制備工藝、應(yīng)用領(lǐng)域等方面進行介紹。

2023-05-31 14:24:55

6920

原子層ALD沉積介紹

原子層沉積（Atomic layer deposition，ALD）是一種可以沉積單分子層薄膜的特殊的化學(xué)氣相沉積技術(shù)。

2023-06-15 16:19:21

5604

韞茂科技獲數(shù)億元融資，加快薄膜沉積設(shè)備量產(chǎn)

韞茂科技成立于2018年，致力于成為平臺形態(tài)的納米級薄膜沉積設(shè)備制造企業(yè)。目前擁有ald原子層沉積系統(tǒng)、pvd物理氣體沉積系統(tǒng)、cvd化學(xué)氣體沉積系統(tǒng)、uhv超高真空涂層設(shè)備等12種產(chǎn)品。

2023-06-28 10:41:03

1598

半導(dǎo)體行業(yè)關(guān)鍵技術(shù)ALD：這家公司是龍頭！

在半導(dǎo)體制造過程中，每個半導(dǎo)體元件的產(chǎn)品都需要經(jīng)過數(shù)百道工序。這些工序包括前道工藝和后道工藝，前道工藝是整個制造過程中最為重要的部分，它關(guān)系到半導(dǎo)體芯片的基本結(jié)構(gòu)和特性的形成，涉及晶圓制造、沉積、光刻、刻蝕等步驟，技術(shù)難點多，操作復(fù)雜。

2023-06-28 16:54:06

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半導(dǎo)體前端工藝：沉積——“更小、更多”，微細化的關(guān)鍵（上）

在半導(dǎo)體制程中，移除殘余材料的“減法工藝”不止“刻蝕”一種，引入其他材料的“加法工藝”也非“沉積”一種。比如，光刻工藝中的光刻膠涂敷，其實也是在基底上形成各種薄膜；又如氧化工藝中晶圓（硅）氧化，也需要在基底表面添加各種新材料。那為什么唯獨要強調(diào)“沉積”工藝呢？

2023-06-29 16:58:37

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半導(dǎo)體前端工藝之沉積工藝

在前幾篇文章（點擊查看），我們一直在借用餅干烘焙過程來形象地說明半導(dǎo)體制程。在上一篇我們說到，為制作巧克力夾心，需通過“刻蝕工藝”挖出餅干的中間部分，然后倒入巧克力糖漿，再蓋上一層餅干層。“倒入巧克力糖漿”和“蓋上餅干層”的過程在半導(dǎo)體制程中就相當(dāng)于“沉積工藝”。

2023-06-29 16:56:17

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詳解半導(dǎo)體前端工藝之沉積工藝

和在刻蝕工藝中一樣，半導(dǎo)體制造商在沉積過程中也會通過控制溫度、壓力等不同條件來把控膜層沉積的質(zhì)量。例如，降低壓強，沉積速率就會放慢，但可以提高垂直方向的沉積質(zhì)量。因為，壓強低表明設(shè)備內(nèi)反應(yīng)氣體粒子

2023-07-02 11:36:40

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ALD是什么？半導(dǎo)體制造的基本流程

2023-07-11 11:25:55

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技術(shù)前沿：原子層沉積ALD介紹

薄膜沉積是指在基底上沉積特定材料形成薄膜，使之具有光學(xué)、電學(xué)等方面的特殊性能。

2023-07-13 09:10:48

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半導(dǎo)體前端工藝：沉積——“更小、更多”，微細化的關(guān)鍵

2023-08-17 15:33:27

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傳日本更可能實施對光刻/薄膜沉積設(shè)備的出口管制；商湯科技多部門啟動裁員最高幅度達15%，賠償N+2

熱點新聞 1、傳日本更可能實施對光刻/薄膜沉積設(shè)備的出口管制據(jù)報道，隨著日本對華半導(dǎo)體設(shè)備出口禁令于7月23日正式生效，業(yè)內(nèi)普遍想知道這將對中國半導(dǎo)體行業(yè)產(chǎn)生的影響。此次出口管制共計23品類半導(dǎo)體

2023-08-28 16:45:01

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ALD技術(shù)工藝原理、優(yōu)勢及應(yīng)用

面對真空鍍膜多元的應(yīng)用市場，鍍膜技術(shù)的發(fā)展也從傳統(tǒng)的蒸發(fā)、電子束熱蒸發(fā)技術(shù)，相繼發(fā)展出PECVD、ALD原子層沉積技術(shù)、磁控濺射技術(shù)等等，技術(shù)地位日益凸顯。本報告嘉賓來自國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備龍頭企業(yè)無錫邑

2023-10-18 11:33:44

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半導(dǎo)體檢測設(shè)備行業(yè)專題報告.zip

半導(dǎo)體檢測設(shè)備行業(yè)專題報告

2023-01-13 09:06:48

半導(dǎo)體硅片行業(yè)深度報告.zip

半導(dǎo)體硅片行業(yè)深度報告

2023-01-13 09:06:49

半導(dǎo)體行業(yè)深度報告.zip

半導(dǎo)體行業(yè)深度報告

2023-01-13 09:06:51

半導(dǎo)體設(shè)備系列研究-薄膜沉積設(shè)備.zip

半導(dǎo)體設(shè)備系列研究-薄膜沉積設(shè)備

2023-01-13 09:06:52

行業(yè)專題報告_半導(dǎo)體檢測設(shè)備行業(yè)專題報告.zip

行業(yè)專題報告_半導(dǎo)體檢測設(shè)備行業(yè)專題報告

2023-01-13 09:07:46

半導(dǎo)體前端工藝（第五篇）：沉積——“更小、更多”，微細化的關(guān)鍵

半導(dǎo)體前端工藝（第五篇）：沉積——“更小、更多”，微細化的關(guān)鍵

2023-11-27 16:48:42

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半導(dǎo)體制造之薄膜工藝講解

薄膜沉積技術(shù)主要分為CVD和PVD兩個方向。 PVD主要用來沉積金屬及金屬化合物薄膜,分為蒸鍍和濺射兩大類，目前的主流工藝為濺射。CVD主要用于介質(zhì)/半導(dǎo)體薄膜，廣泛用于層間介質(zhì)層、柵氧化層、鈍化層等工藝。

2023-12-05 10:25:18

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薄膜電容的工藝與結(jié)構(gòu)介紹

薄膜電容是一種常見的電子元件，其具有體積小、重量輕、容量大、可靠性高等優(yōu)點，廣泛應(yīng)用于各種電子設(shè)備中。薄膜電容的工藝與結(jié)構(gòu)對其性能和可靠性有著重要的影響。本文將對薄膜電容的工藝與結(jié)構(gòu)進行詳細的介紹

2024-01-10 15:41:54

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流量控制器在半導(dǎo)體加工工藝化學(xué)氣相沉積（CVD）的應(yīng)用

薄膜沉積是在半導(dǎo)體的主要襯底材料上鍍一層膜。這層膜可以有各種各樣的材料，比如絕緣化合物二氧化硅，半導(dǎo)體多晶硅、金屬銅等。用來鍍膜的這個設(shè)備就叫薄膜沉積設(shè)備。薄膜制備工藝按照其成膜方法可分為兩大類

2024-03-28 14:22:41

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周星工程研發(fā)ALD新技術(shù)，引領(lǐng)半導(dǎo)體工藝革新

在半導(dǎo)體技術(shù)日新月異的今天，韓國半導(dǎo)體廠商周星工程（Jusung Engineering）憑借其最新研發(fā)的原子層沉積（ALD）技術(shù)，再次在全球半導(dǎo)體行業(yè)中引起了廣泛關(guān)注。據(jù)韓媒報道，這項技術(shù)能夠在生產(chǎn)先進工藝芯片時顯著降低極紫外光刻（EUV）工藝步驟的需求，為半導(dǎo)體制造領(lǐng)域帶來了革命性的突破。

2024-07-17 10:25:08

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半導(dǎo)體靶材：推動半導(dǎo)體技術(shù)飛躍的核心力量

半導(dǎo)體靶材是半導(dǎo)體材料制備過程中的重要原料，它們在薄膜沉積、物理氣相沉積（PVD）、化學(xué)氣相沉積（CVD）等多種技術(shù)中發(fā)揮著關(guān)鍵作用。本文將詳細介紹半導(dǎo)體靶材的種類以及它們在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中的作用和意義。

2024-09-02 11:43:25

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SOLMATES：準分子激光器推進脈沖激光沉積

挑戰(zhàn) 薄膜沉積技術(shù)應(yīng)用于多種市場，例如 MEMS、半導(dǎo)體、光伏、OLED 顯示屏和用于 5G 通信的射頻濾波器。新型復(fù)雜材料系統(tǒng)具有越來越重要的材料特性，這就要求對薄膜沉積技術(shù)進行不斷擴展和質(zhì)量

2024-09-19 06:22:28

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一文詳解半導(dǎo)體薄膜沉積工藝

半導(dǎo)體薄膜沉積工藝是現(xiàn)代微電子技術(shù)的重要組成部分。這些薄膜可以是金屬、絕緣體或半導(dǎo)體材料，它們在芯片的各個層次中發(fā)揮著不同的作用，如導(dǎo)電、絕緣、保護等。薄膜的質(zhì)量直接影響到芯片的性能、可靠性和成本。

2024-10-31 15:57:45

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半導(dǎo)體FAB中常見的五種CVD工藝

Hello,大家好，今天來分享下半導(dǎo)體FAB中常見的五種CVD工藝。化學(xué)氣相沉積（CVD）主要是通過利用氣體混合的化學(xué)反應(yīng)在硅片表面沉積一層固體膜的工藝。在 CVD 工藝過程中，化合物會進行充分

2025-01-03 09:47:34

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原子層沉積（ALD, Atomic Layer Deposition）詳解

? 本文介紹了什么是原子層沉積（ALD, Atomic Layer Deposition）。 1.原理：基于分子層級的逐層沉積 ALD 是一種精確的薄膜沉積技術(shù)，其核心原理是利用化學(xué)反應(yīng)的“自限性

2025-01-17 10:53:44

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半導(dǎo)體制造里的ALD工藝：比“精”更“精”！

在半導(dǎo)體制造這一高度精密且不斷進步的領(lǐng)域，每一項技術(shù)都承載著推動行業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵使命。原子層沉積（Atomic Layer Deposition，簡稱ALD）工藝，作為一種先進的薄膜沉積技術(shù)，正逐漸成為半導(dǎo)體制造中不可或缺的一環(huán)。本文將深入探討半導(dǎo)體中為何會用到ALD工藝，并分析其獨特優(yōu)勢和應(yīng)用場景。

2025-01-20 11:44:44

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ALD和ALE核心工藝技術(shù)對比

ALD 和 ALE 是微納制造領(lǐng)域的核心工藝技術(shù)，它們分別從沉積和刻蝕兩個維度解決了傳統(tǒng)工藝在精度、均勻性、選擇性等方面的挑戰(zhàn)。兩者既互補又相輔相成，未來在半導(dǎo)體、光子學(xué)、能源等領(lǐng)域的聯(lián)用將顯著加速

2025-01-23 09:59:54

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半導(dǎo)體薄膜沉積技術(shù)的優(yōu)勢和應(yīng)用

在半導(dǎo)體制造業(yè)這一精密且日新月異的舞臺上，每一項技術(shù)都是推動行業(yè)躍進的關(guān)鍵舞者。其中，原子層沉積（ALD）技術(shù)，作為薄膜沉積領(lǐng)域的一顆璀璨明星，正逐步成為半導(dǎo)體工藝中不可或缺的核心要素。本文旨在深度剖析為何半導(dǎo)體制造對ALD技術(shù)情有獨鐘，并揭示其獨特魅力及廣泛應(yīng)用。

2025-01-24 11:17:21

1922

碳化硅薄膜沉積技術(shù)介紹

多晶碳化硅和非晶碳化硅在薄膜沉積方面各具特色。多晶碳化硅以其廣泛的襯底適應(yīng)性、制造優(yōu)勢和多樣的沉積技術(shù)而著稱;而非晶碳化硅則以其極低的沉積溫度、良好的化學(xué)與機械性能以及廣泛的應(yīng)用前景而受到關(guān)注。

2025-02-05 13:49:12

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揭秘半導(dǎo)體電鍍工藝

定向沉積在晶圓表面，從而構(gòu)建高精度的金屬互連結(jié)構(gòu)。從鋁到銅，芯片互連的進化之路：隨著芯片制造工藝不斷精進，芯片內(nèi)部的互連線材料也從傳統(tǒng)的鋁逐漸轉(zhuǎn)向銅。半導(dǎo)體鍍銅設(shè)備因此成為芯片制造中的“明星設(shè)備”。銅的優(yōu)勢：銅導(dǎo)線擁有更低的電阻，可以有效降低芯片

2025-05-13 13:29:56

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半導(dǎo)體外延和薄膜沉積有什么不同

半導(dǎo)體外延和薄膜沉積是兩種密切相關(guān)但又有顯著區(qū)別的技術(shù)。以下是它們的主要差異：定義與目標半導(dǎo)體外延核心特征：在單晶襯底上生長一層具有相同或相似晶格結(jié)構(gòu)的單晶薄膜（外延層），強調(diào)晶體結(jié)構(gòu)的連續(xù)性和匹配

2025-08-11 14:40:06

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半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)跟蹤報告：ALD技術(shù)進行薄膜沉積工藝優(yōu)勢

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