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SK海力士在HBM領(lǐng)域中MR-MUF技術(shù)的發(fā)展

SK海力士 ? 來(lái)源:SK海力士 ? 2024-07-30 14:19 ? 次閱讀
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挑戰(zhàn)傳統(tǒng),打破限制,勇攀高峰,打破常規(guī)者們?cè)趯で箝_(kāi)創(chuàng)性解決方案的過(guò)程中重塑規(guī)則。繼SK海力士品牌短片《誰(shuí)是打破常規(guī)者》播出后,將推出一系列文章,展示公司在重塑技術(shù)、重新定義行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)方面采取的各種“打破常規(guī)”的創(chuàng)新舉措。作為本系列首篇文章,將詳述HBM領(lǐng)域中MR-MUF技術(shù)的發(fā)展。

體積更小、速度更快、帶寬更高、性能更佳。如今,領(lǐng)先的存儲(chǔ)器產(chǎn)品正迅速發(fā)展,以滿(mǎn)足人工智能時(shí)代下的高需求。然而,這些進(jìn)步也帶來(lái)了一項(xiàng)可能阻礙下一代產(chǎn)品發(fā)展的挑戰(zhàn)——熱量過(guò)高。

為解決這一問(wèn)題,SK海力士取得了前所未有的突破,開(kāi)發(fā)出了一種名為批量回流模制底部填充(MR-MUF, Mass Reflow-Molded Underfill)1 的新型創(chuàng)新封裝技術(shù),可以有效改善芯片的散熱性能。自2019年以來(lái),MR-MUF技術(shù)被應(yīng)用于SK海力士開(kāi)創(chuàng)性產(chǎn)品HBM2中,使公司在市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)中脫穎而出。作為唯一一家采用MR-MUF技術(shù)的公司,應(yīng)用該技術(shù)的HBM產(chǎn)品的散熱性能獲得客戶(hù)一致好評(píng),SK海力士毫無(wú)疑問(wèn)地成為HBM市場(chǎng)的領(lǐng)導(dǎo)者。

1批量回流模制底部填充(MR-MUF, Mass Reflow-Molded Underfill): 批量回流焊是一種通過(guò)熔化堆疊芯片間的凸點(diǎn)以連接芯片的技術(shù)。通過(guò)模制底部填充技術(shù),將保護(hù)材料填充至堆疊芯片間隙中,以提高耐用性和散熱性。結(jié)合回流和模制工藝,MR-MUF技術(shù)將半導(dǎo)體芯片連接到電路上,并用環(huán)氧樹(shù)脂模塑料(EMC)填充芯片間及凸點(diǎn)間的空隙。

2高帶寬存儲(chǔ)器(HBM, High Bandwidth Memory): 一種高附加值、高性能存儲(chǔ)器產(chǎn)品,通過(guò)硅通孔技術(shù)(TSV)將多個(gè)DRAM芯片垂直互聯(lián)。與現(xiàn)有的DRAM產(chǎn)品相比,數(shù)據(jù)處理速度顯著提高。

本文將探討MR-MUF技術(shù)的開(kāi)創(chuàng)性發(fā)展,并重點(diǎn)關(guān)注高導(dǎo)熱性新材料如何解決下一代HBM產(chǎn)品熱量過(guò)高的問(wèn)題。

全力攻克散熱難題

隨著存儲(chǔ)器產(chǎn)品的發(fā)展,散熱問(wèn)題愈發(fā)嚴(yán)峻,導(dǎo)致這一問(wèn)題的原因有多個(gè):例如,由于表面積減少和功率密度增加,半導(dǎo)體微型化會(huì)直接影響產(chǎn)品的散熱性能;對(duì)于HBM這樣的DRAM堆疊產(chǎn)品,熱傳導(dǎo)路徑較長(zhǎng)會(huì)導(dǎo)致熱阻增加,熱導(dǎo)性也會(huì)因芯片之間的填充材料而受限;此外,速度和容量的不斷提升,也會(huì)導(dǎo)致熱量增加。

若無(wú)法充分控制半導(dǎo)體芯片產(chǎn)生的熱量,可能會(huì)對(duì)產(chǎn)品性能、生命周期和功能產(chǎn)生負(fù)面影響。這是客戶(hù)重點(diǎn)關(guān)注的問(wèn)題,因?yàn)榇祟?lèi)問(wèn)題會(huì)嚴(yán)重影響其生產(chǎn)力、能源成本和競(jìng)爭(zhēng)力。所以,除容量和帶寬外,包括散熱在內(nèi)均已成為先進(jìn)存儲(chǔ)器產(chǎn)品開(kāi)發(fā)過(guò)程中的關(guān)鍵考慮因素。

因此,人們開(kāi)始將注意力轉(zhuǎn)向半導(dǎo)體封裝技術(shù),因其主要功能之一是熱控制。在第二代HBM產(chǎn)品HBM2之前,SK海力士的HBM產(chǎn)品一直采用行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)性熱壓非導(dǎo)電膜(TC-NCF,Thermal Compression Non-Conductive Film)3技術(shù)。然而,隨著HBM產(chǎn)品的進(jìn)步,需要更薄的芯片來(lái)容納更多的芯片層,因此相應(yīng)的封裝技術(shù)需要控制更多的熱量和壓力。SK海力士在開(kāi)發(fā)下一代產(chǎn)品時(shí),還需要解決密集堆疊產(chǎn)品中因壓力和厚度而造成芯片翹曲等問(wèn)題。基于此,公司需要跳出固有思維,為未來(lái)產(chǎn)品開(kāi)發(fā)一項(xiàng)全新封裝技術(shù)。

3熱壓非導(dǎo)電薄膜(TC-NCF,Thermal Compression Non-Conductive Film):一種通過(guò)在芯片間涂抹薄膜狀物質(zhì)來(lái)堆疊芯片的技術(shù)。通過(guò)加熱和加壓融化這種物質(zhì),從而將芯片粘在一起。

MR-MUF技術(shù)及其新材料,

填補(bǔ)散熱控制拼圖中缺失的一環(huán)

SK海力士在開(kāi)發(fā)第三代HBM產(chǎn)品——HBM2E時(shí),將傳熱控制作為改進(jìn)的主要焦點(diǎn)。即便TC-NCF技術(shù)被公認(rèn)為是適用于密集堆疊產(chǎn)品的封裝解決方案,SK海力士仍舊堅(jiān)持不斷挑戰(zhàn)現(xiàn)狀,努力開(kāi)發(fā)一種可優(yōu)化散熱性能的新型封裝技術(shù)。經(jīng)過(guò)無(wú)數(shù)次的測(cè)試和試驗(yàn),公司于2019年推出了新型封裝技術(shù)MR-MUF,繼而徹底改變了HBM市場(chǎng)的未來(lái)。

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TC-NCF技術(shù)與MR-MUF技術(shù)散熱性能的結(jié)構(gòu)差異

MR-MUF技術(shù)由SK海力士多個(gè)團(tuán)隊(duì)共同開(kāi)發(fā),該技術(shù)能夠同時(shí)對(duì)HBM產(chǎn)品中所有的垂直堆疊芯片進(jìn)行加熱和互聯(lián),比堆疊芯片后填充薄膜材料的TC-NCF技術(shù)更高效。此外,與TC-NCF技術(shù)相比,MR-MUF技術(shù)可將有效散熱的熱虛設(shè)凸塊數(shù)量增加四倍。

MR-MUF技術(shù)另一個(gè)重要特性是采用了一種名為環(huán)氧樹(shù)脂模塑料(EMC, Epoxy Molding Compound)4的保護(hù)材料,用于填充芯片間的空隙。EMC是一種熱固性聚合物,具有卓越的機(jī)械性、電氣絕緣性及耐熱性,能夠滿(mǎn)足對(duì)高環(huán)境可靠性和芯片翹曲控制的需求。由于應(yīng)用了MR-MUF技術(shù),HBM2E的散熱性能比上一代HBM2提高了36%。

4環(huán)氧樹(shù)脂模塑料(EMC, Epoxy Molding Compound): 一種基于熱固性聚合物環(huán)氧樹(shù)脂的散熱材料。這種材料可用于密封半導(dǎo)體芯片,以避免芯片受到外部環(huán)境因素影響,如高溫、潮濕、震動(dòng)等。

雖然MR-MUF技術(shù)也被用于HBM2E的下一代產(chǎn)品——8層HBM3,但在2023年開(kāi)發(fā)12層HBM3時(shí),SK海力士還是將MR-MUF技術(shù)提升到了一個(gè)新高度。為了保持產(chǎn)品的整體厚度,DRAM芯片必須比8層HBM3所用的芯片薄40%,因此解決芯片翹曲成為了一個(gè)關(guān)鍵問(wèn)題。SK海力士積極應(yīng)對(duì)挑戰(zhàn),開(kāi)發(fā)了先進(jìn)的MR-MUF技術(shù),并引入了業(yè)界首創(chuàng)的芯片控制技術(shù)(Chip Control Technology)5和改善散熱效果的新型保護(hù)材料。在此過(guò)程中,因其在先進(jìn)MR-MUF技術(shù)中應(yīng)用的新型EMC與原始MR-MUF技術(shù)中的EMC相比,使散熱性能提高了1.6倍,SK海力士再次實(shí)現(xiàn)材料創(chuàng)新。

5芯片控制技術(shù)(Chip Control Technology):在堆疊芯片時(shí),對(duì)每個(gè)芯片施加瞬間高熱,使頂層芯片下的凸點(diǎn)與底層芯片上的薄墊熔合。薄墊將芯片固定在一起,以防止翹曲。

憑借熱量控制技術(shù),

SK海力士成功實(shí)現(xiàn)了最高級(jí)別HBM的量產(chǎn)

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HBM產(chǎn)品發(fā)展及散熱性能優(yōu)化時(shí)間線

從開(kāi)發(fā)HBM2E開(kāi)始,MR-MUF技術(shù)及隨后推出的先進(jìn)MR-MUF技術(shù)的應(yīng)用,使SK海力士能夠生產(chǎn)出業(yè)界最高標(biāo)準(zhǔn)的HBM產(chǎn)品。時(shí)至2024年,SK海力士已成為首家量產(chǎn)HBM3E的公司,這是最新一代、擁有全球最高標(biāo)準(zhǔn)性能的HBM產(chǎn)品。在應(yīng)用先進(jìn)的MR-MUF技術(shù)后,與上一代8層HBM3相比,HBM3E在散熱性能方面提高了10%,成為人工智能時(shí)代炙手可熱的存儲(chǔ)器產(chǎn)品。展望未來(lái),公司將繼續(xù)保持其在HBM領(lǐng)域的市場(chǎng)主導(dǎo)地位,并宣布計(jì)劃將下一代HBM4產(chǎn)品的量產(chǎn)提前至2025年。

打破常規(guī)者專(zhuān)訪:

HBM產(chǎn)品封裝部門(mén),河京武TL

為了更深入地了解MR-MUF技術(shù)開(kāi)發(fā)和HBM發(fā)展的淵源,本文采訪了HBM產(chǎn)品封裝部門(mén)的 河京武TL。通過(guò)對(duì)新材料的探索、測(cè)試和驗(yàn)證,河京武積極推動(dòng)著MR-MUF技術(shù)的發(fā)展,并就這一創(chuàng)新工藝所帶來(lái)的影響進(jìn)行了深入探討。

Q

SK海力士采用MR-MUF技術(shù)成功開(kāi)發(fā)出的HBM產(chǎn)品具有怎樣的意義?MR-MUF技術(shù)和先進(jìn)MR-MUF技術(shù)在材料創(chuàng)新方面有哪些重大突破?

A

“MR-MUF技術(shù)的引入讓我們站在了HBM市場(chǎng)的頂峰,確保了我們?cè)贖BM市場(chǎng)的領(lǐng)先地位。自從我們決定在HBM2E產(chǎn)品上采用MR-MUF技術(shù),而非像其他半導(dǎo)體公司一樣使用TC-NCF技術(shù)以來(lái),SK海力士一直在超越競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手。MR-MUF技術(shù)的應(yīng)用使公司成功量產(chǎn)層數(shù)越來(lái)越多的、前所未有的HBM產(chǎn)品,充分證明了公司對(duì)創(chuàng)新不懈追求的精神?!?/p>

“在材料創(chuàng)新方面,MR-MUF技術(shù)采用了比NCF技術(shù)散熱性能更好的EMC材料。與TC-NCF技術(shù)相比,這一舉措對(duì)提高M(jìn)R-MUF技術(shù)的熱控性和產(chǎn)品的環(huán)境可靠性起到了關(guān)鍵作用。此外,關(guān)于先進(jìn)MUF材料, 是SK海力士在EMC材料基礎(chǔ)上更進(jìn)一步,推出的散熱性能更強(qiáng)的新版本?!?/p>

Q

在MR-MUF技術(shù)的開(kāi)發(fā)過(guò)程中,有哪些幕后工作值得分享?

A

“在這些先進(jìn)技術(shù)的背后,是持續(xù)不斷的測(cè)試和評(píng)估,以驗(yàn)證和提高用于封裝工藝的新材料的質(zhì)量?!?/p>

“在開(kāi)發(fā)先進(jìn)MR-MUF技術(shù)時(shí),將新EMC材料持續(xù)用于通用測(cè)試載具(UTV, Universal Test Vehicle)6進(jìn)行可靠性測(cè)試至關(guān)重要。具有與HBM產(chǎn)品相同規(guī)格UTV在經(jīng)過(guò)晶圓級(jí)封裝(WLP, Wafter-Level Package)7后成為樣品,然后進(jìn)行預(yù)見(jiàn)可靠性(LAR, Look Ahead Reliability)8測(cè)試,以識(shí)別產(chǎn)品缺陷。只有通過(guò)測(cè)試并進(jìn)行了必要升級(jí)的材料,才可用于HBM最終產(chǎn)品?!?/p>

6通用測(cè)試載具(UTV, Universal Test Vehicle):在產(chǎn)品開(kāi)發(fā)初期階段,用于測(cè)試和確定產(chǎn)品規(guī)格及標(biāo)準(zhǔn)的樣品。

7晶圓級(jí)封裝(WLP, Wafer-Level Package):在切割晶圓前,一次性進(jìn)行封裝和測(cè)試晶圓并產(chǎn)出最終產(chǎn)品的技術(shù),在晶圓加工和芯片切割方面,與傳統(tǒng)封裝工藝不同。

8預(yù)見(jiàn)可靠性(LAR, Look Ahead Reliability):在質(zhì)量評(píng)估前進(jìn)行的初步測(cè)試,旨在針對(duì)測(cè)試過(guò)程中發(fā)現(xiàn)的產(chǎn)品缺陷制定對(duì)策,并于質(zhì)量評(píng)估期間采取相應(yīng)對(duì)策,以修復(fù)產(chǎn)品缺陷。

Q

在MR-MUF技術(shù)開(kāi)發(fā)過(guò)程中,SK海力士的“打破常規(guī)者精神”是如何激勵(lì)員工突破傳統(tǒng)的?

A

“我們公司倡導(dǎo)一種‘打破常規(guī)’的企業(yè)文化,鼓勵(lì)每個(gè)人設(shè)定具有挑戰(zhàn)性的目標(biāo),而非安于現(xiàn)狀。此外,無(wú)論來(lái)自哪個(gè)部門(mén),成員們都致力于“一個(gè)團(tuán)隊(duì)”協(xié)作精神,并努力成為團(tuán)隊(duì)中最好的一員。”

“這一點(diǎn)在MR-MUF技術(shù)開(kāi)發(fā)過(guò)程中尤為明顯,當(dāng)時(shí)來(lái)自各部門(mén)的成員通力合作,確保了項(xiàng)目成功。這是全公司成員們共同努力的成果,正是因?yàn)榇蠹引R心協(xié)力,才使這項(xiàng)創(chuàng)新成為可能。在這個(gè)過(guò)程中每個(gè)成員都各司其職,例如我的職責(zé)就是為工程師開(kāi)發(fā)流程提供支持,此外,我的主要職責(zé)還包括對(duì)材料進(jìn)行初步風(fēng)險(xiǎn)評(píng)估、制定技術(shù)驗(yàn)證計(jì)劃、競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手監(jiān)測(cè)以及提前確定客戶(hù)需求?!?/p>

“在SK海力士,我們都是打破常規(guī)者。因?yàn)槲覀兩钚牛灰ㄟ^(guò)共同的努力,就能不斷勇攀高峰,創(chuàng)造出令人驚嘆的成就?!?/p>

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原文標(biāo)題:[Rulebreakers’ Revolutions ] MR-MUF熱控技術(shù)取得突破,HBM邁向新高度

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    英偉達(dá)供應(yīng)商SK海力士盈利大增158%

    得益于AI需求的有力推動(dòng);高帶寬內(nèi)存(HBM)需求持續(xù)暴漲,這帶動(dòng)了英偉達(dá)供應(yīng)商SK海力士盈利大增158%。 據(jù)SK海力士公布的財(cái)務(wù)業(yè)績(jī)數(shù)據(jù)
    的頭像 發(fā)表于 04-24 10:44 ?1507次閱讀

    SK海力士強(qiáng)化HBM業(yè)務(wù)實(shí)力的戰(zhàn)略規(guī)劃

    隨著人工智能技術(shù)的迅猛發(fā)展,作為其核心支撐技術(shù)的高帶寬存儲(chǔ)器(以下簡(jiǎn)稱(chēng)HBM)實(shí)現(xiàn)了顯著的增長(zhǎng),為SK
    的頭像 發(fā)表于 04-18 09:25 ?1255次閱讀

    混合鍵合技術(shù)將最早用于HBM4E

    客戶(hù)對(duì)HBM的要求為增加帶寬、提高功率效率、提高集成度?;旌湘I合就是可以滿(mǎn)足此類(lèi)需求的技術(shù)。 ? 混合鍵合技術(shù)預(yù)計(jì)不僅可應(yīng)用于HBM,還可應(yīng)用于3D DRAM和NAND Flash。
    發(fā)表于 04-17 00:05 ?1130次閱讀

    SK海力士引領(lǐng)下一代HBM技術(shù)發(fā)展

    人工智能市場(chǎng)中,HBM仍是“游戲規(guī)則改變者(Game Changer)”。隨著技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)愈發(fā)激烈,客戶(hù)需求也更加多樣化。
    的頭像 發(fā)表于 03-12 16:07 ?1156次閱讀

    SK海力士將關(guān)閉CIS圖像傳感器部門(mén) 轉(zhuǎn)向AI存儲(chǔ)器領(lǐng)域

    3 月 6 日消息,綜合韓聯(lián)社、ZDNet Korea、MK 等多家韓媒報(bào)道,SK 海力士今日在內(nèi)部宣布將關(guān)閉其 CIS(CMOS 圖像傳感器)部門(mén), 該團(tuán)隊(duì)的員工將轉(zhuǎn)崗至 AI 存儲(chǔ)器領(lǐng)域
    的頭像 發(fā)表于 03-06 18:26 ?1400次閱讀