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電子發(fā)燒友網(wǎng)>今日頭條>中國(guó)芯片發(fā)展除了最大難題的光刻機(jī),還有哪些技術(shù)瓶頸

中國(guó)芯片發(fā)展除了最大難題的光刻機(jī),還有哪些技術(shù)瓶頸

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敦泰電子榮獲2025“中國(guó)芯”優(yōu)秀市場(chǎng)表現(xiàn)產(chǎn)品獎(jiǎng)

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再獲“中國(guó)芯”!徴格半導(dǎo)體ZGA2001以“低噪聲”硬實(shí)力強(qiáng)勢(shì)問(wèn)鼎

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2025-11-14 15:52:461248

芯??萍糂MS芯片榮膺2025“中國(guó)芯”大獎(jiǎng)

頂尖的芯片企業(yè)與行業(yè)專家,見證了中國(guó)芯片技術(shù)創(chuàng)新與產(chǎn)業(yè)突破。本屆“中國(guó)芯”評(píng)選共征集到來(lái)自303家芯片企業(yè)累計(jì)提交的410款產(chǎn)品報(bào)名,企業(yè)數(shù)與產(chǎn)品數(shù)均創(chuàng)歷史新高
2025-11-14 15:35:35798

國(guó)產(chǎn)光刻膠重磅突破:攻克5nm芯片制造關(guān)鍵難題

電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 近日,我國(guó)半導(dǎo)體材料領(lǐng)域迎來(lái)重大突破。北京大學(xué)化學(xué)與分子工程學(xué)院彭海琳教授團(tuán)隊(duì)及合作者通過(guò)冷凍電子斷層掃描技術(shù),首次在原位狀態(tài)下解析了光刻膠分子在液相環(huán)境中的微觀三維結(jié)構(gòu)、界面
2025-10-27 09:13:046178

德州儀器 DLP? 技術(shù)為高級(jí)封裝帶來(lái)高精度數(shù)字光刻解決方案

能力及每秒 110 千兆像素的數(shù)據(jù)傳輸速率 ,在滿足日益復(fù)雜的封裝工藝對(duì)可擴(kuò)展性、成本效益和精度要求的同時(shí),消除對(duì)昂貴掩模技術(shù)的依賴。 ? TI DLP 技術(shù)造就高級(jí)封裝領(lǐng)域的無(wú)掩模數(shù)字光刻系統(tǒng) 關(guān)鍵所在 無(wú)掩模數(shù)字光刻機(jī)正廣泛應(yīng)用于高級(jí)封裝制造領(lǐng)域,這類光刻機(jī)無(wú)需光
2025-10-20 09:55:15887

中國(guó)芯片研制獲重大突破 全球首款亞埃米級(jí)快照光譜成像芯片

我國(guó)芯片正蓬勃發(fā)展,呈現(xiàn)一片欣欣向榮的態(tài)勢(shì),我們看到新聞,中國(guó)芯片研制獲重大突破;這是全球首款亞埃米級(jí)快照光譜成像芯片問(wèn)世。 清華大學(xué)電子工程系方璐教授團(tuán)隊(duì)成功研制出全球首款亞埃米級(jí)快照光譜成像芯片
2025-10-16 17:58:032222

國(guó)產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)順利出廠

近日,深圳穩(wěn)頂聚芯技術(shù)有限公司(簡(jiǎn)稱“穩(wěn)頂聚芯”)宣布,其自主研發(fā)的首臺(tái)國(guó)產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)已成功出廠,標(biāo)志著我國(guó)在半導(dǎo)體核心裝備領(lǐng)域取得新進(jìn)展。 此次穩(wěn)頂聚芯出廠的步進(jìn)式光刻機(jī)屬于WS180i
2025-10-10 17:36:33929

滾珠導(dǎo)軌在半導(dǎo)體制造中如何實(shí)現(xiàn)高精度效率

滾珠導(dǎo)軌憑借其低摩擦、高剛性、納米級(jí)定位精度等特性,成為光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、貼片機(jī)等核心設(shè)備的關(guān)鍵傳動(dòng)元件,直接決定著芯片良率與生產(chǎn)效率。
2025-09-22 18:02:20602

如何確定12英寸集成電路新建項(xiàng)目中光刻機(jī)、刻蝕機(jī)等不同設(shè)備所需的防震基座類型和數(shù)量?-江蘇泊蘇系統(tǒng)集

確定 12 英寸集成電路新建項(xiàng)目中光刻機(jī)、刻蝕機(jī)等核心設(shè)備的防震基座類型與數(shù)量,需遵循 “設(shè)備需求為核心、環(huán)境評(píng)估為基礎(chǔ)、合規(guī)性為前提” 的原則,分步驟結(jié)合設(shè)備特性、廠房條件、工藝要求綜合判斷,具體流程與關(guān)鍵考量如下:
2025-09-18 11:24:23914

【「AI芯片:科技探索與AGI愿景」閱讀體驗(yàn)】+半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的前沿技術(shù)

%。至少將GAA納米片提升幾個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)。 2、晶背供電技術(shù) 3、EUV光刻機(jī)與其他競(jìng)爭(zhēng)技術(shù) 光刻技術(shù)是制造3nm、5nm等工藝節(jié)點(diǎn)的高端半導(dǎo)體芯片的關(guān)鍵技術(shù)。是將設(shè)計(jì)好的芯片版圖圖形轉(zhuǎn)移到硅晶圓上的一種精細(xì)
2025-09-15 14:50:58

電子束光刻機(jī)

澤攸科技ZEL304G電子束光刻機(jī)(EBL)是一款高性能、高精度的光刻設(shè)備,專為半導(dǎo)體晶圓的高速、高分辨率光刻需求設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)采用先進(jìn)的場(chǎng)發(fā)射電子槍,結(jié)合一體化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng),確保光刻質(zhì)量?jī)?yōu)異且
2025-08-15 15:14:01

DMD無(wú)掩膜光刻機(jī)

澤攸科技ZML10A是一款創(chuàng)新的桌面級(jí)無(wú)掩膜光刻設(shè)備,專為高效、精準(zhǔn)的微納加工需求設(shè)計(jì)。該設(shè)備采用高功率、高均勻度的LED光源,并結(jié)合先進(jìn)的DLP技術(shù),實(shí)現(xiàn)了黃光或綠光引導(dǎo)曝光功能,真正做到
2025-08-15 15:11:55

今日看點(diǎn)丨全國(guó)首臺(tái)國(guó)產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)問(wèn)世;智元機(jī)器人發(fā)布行業(yè)首個(gè)機(jī)器人世界模型開源平臺(tái)

8nm,專攻量子芯片和新型半導(dǎo)體研發(fā)的核心環(huán)節(jié),可通過(guò)高能電子束在硅基上手寫電路,無(wú)需掩膜版即可靈活修改設(shè)計(jì),其精度已比肩國(guó)際主流設(shè)備。 ? 據(jù)介紹,與傳統(tǒng)光刻機(jī)相比,電子束光刻機(jī)在原型設(shè)計(jì)、快速迭代和小批量試制方面具有獨(dú)特優(yōu)勢(shì)。此前先進(jìn)電子束光
2025-08-15 10:15:172936

全球市占率35%,國(guó)內(nèi)90%!芯上微裝第500臺(tái)步進(jìn)光刻機(jī)交付

? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道,近日,上海芯上微裝科技股份有限公司(簡(jiǎn)稱:芯上微裝,英文簡(jiǎn)稱:AMIES)第500臺(tái)步進(jìn)光刻機(jī)成功交付,并舉辦了第500臺(tái) 步進(jìn)光刻機(jī) 交付儀式。 ? ? 光刻是半導(dǎo)體器件
2025-08-13 09:41:341988

中國(guó)芯片發(fā)展現(xiàn)狀和趨勢(shì)2025

中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)正處于關(guān)鍵發(fā)展階段,在政策支持與外部壓力雙重驅(qū)動(dòng)下,正在加速構(gòu)建自主可控的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈。以下是現(xiàn)狀分析與趨勢(shì)展望: 一、發(fā)展現(xiàn)狀 (一)全產(chǎn)業(yè)鏈布局初具規(guī)模 設(shè)計(jì)領(lǐng)域 華為海思(5G基帶
2025-08-12 11:50:0936895

今日看點(diǎn)丨佳能再開新光刻機(jī)工廠;中國(guó)移動(dòng)首款全自研光源芯片研發(fā)成功

? ? 時(shí)隔21年,佳能再開新光刻機(jī)工廠 ? 日前,據(jù)《日本經(jīng)濟(jì)新聞》報(bào)道,佳能在當(dāng)?shù)匾患椅挥跂心究h宇都宮市的半導(dǎo)體光刻設(shè)備工廠舉行開業(yè)儀式,這也是佳能時(shí)隔21年開設(shè)的首家新光刻機(jī)廠。佳能宇都宮工廠
2025-08-05 10:23:382173

UVlaser 266nm OLED修復(fù)#DUV光刻 #精密儀器 #光刻技術(shù)

光刻機(jī)
jf_90915507發(fā)布于 2025-08-05 09:44:55

佳能9月啟用新光刻機(jī)工廠,主要面向成熟制程及封裝應(yīng)用

7 月 31 日消息,據(jù)《日經(jīng)新聞》報(bào)道,日本相機(jī)、打印機(jī)、光刻機(jī)大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機(jī)制造工廠將于 9 月正式投入量產(chǎn),主攻成熟制程及后段封裝應(yīng)用設(shè)備,為全球芯片封裝
2025-08-04 17:39:28712

星宸芯片中國(guó)AI視覺芯片的隱形冠軍

檢測(cè),星宸芯片以高性能、低功耗和極具競(jìng)爭(zhēng)力的性價(jià)比,逐步打破國(guó)外巨頭的壟斷,成為中國(guó)芯崛起的重要力量。 ? 1. 專注AI視覺,細(xì)分市場(chǎng)突圍 ?? 星宸科技成立于2017年,雖然年輕,但其核心團(tuán)隊(duì)來(lái)自全球頂尖芯片企業(yè),具備深厚的技術(shù)積累。與許多
2025-07-25 12:49:551803

中科院微電子所突破 EUV 光刻技術(shù)瓶頸

極紫外光刻(EUVL)技術(shù)作為實(shí)現(xiàn)先進(jìn)工藝制程的關(guān)鍵路徑,在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域占據(jù)著舉足輕重的地位。當(dāng)前,LPP-EUV 光源是極紫外光刻機(jī)所采用的主流光源,其工作原理是利用波長(zhǎng)為 10.6um 的紅外
2025-07-22 17:20:36956

康盈半導(dǎo)體喜獲2025硬核中國(guó)芯兩項(xiàng)提名

一年一度由國(guó)內(nèi)領(lǐng)先半導(dǎo)體電子信息媒體芯師爺發(fā)起并主辦的“2025硬核中國(guó)芯”評(píng)選活動(dòng)火熱進(jìn)行中!作為中國(guó)芯片行業(yè)頗具專業(yè)性和影響力的獎(jiǎng)項(xiàng)之一,“2025硬核中國(guó)芯” 旨在表彰中國(guó)芯片行業(yè)具有領(lǐng)先地位
2025-07-18 14:28:381637

奧松半導(dǎo)體8英寸MEMS項(xiàng)目迎重大進(jìn)展 首臺(tái)光刻機(jī)入駐

奧松傳感傳來(lái)好消息,在7月14日11時(shí)38分,重慶奧松半導(dǎo)體特色芯片產(chǎn)業(yè)基地(下稱“奧松半導(dǎo)體項(xiàng)目”)迎來(lái)具有里程碑意義的時(shí)刻——8英寸生產(chǎn)線首臺(tái)光刻機(jī)設(shè)備,在眾人關(guān)切注視的目光中平穩(wěn)進(jìn)場(chǎng)。 首臺(tái)
2025-07-17 16:33:121559

國(guó)產(chǎn)芯片的崛起:機(jī)遇與挑戰(zhàn)并存

? ? ? ?近年來(lái),國(guó)產(chǎn)芯片發(fā)展成為全球科技產(chǎn)業(yè)關(guān)注的焦點(diǎn)。在中美科技競(jìng)爭(zhēng)加劇和全球供應(yīng)鏈不穩(wěn)定的背景下,中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)的自主化進(jìn)程不僅關(guān)乎經(jīng)濟(jì)安全,更是國(guó)家科技競(jìng)爭(zhēng)力的重要體現(xiàn)。盡管面臨技術(shù)封鎖
2025-07-07 16:42:321140

中國(guó)芯的突圍:瑞芯微如何在巨頭夾縫中開疆拓土

智能物聯(lián)網(wǎng)、人工智能等領(lǐng)域占據(jù)一席之地,瑞芯微的發(fā)展軌跡不僅是一家企業(yè)的成長(zhǎng)史,更是中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自主創(chuàng)新的縮影。 瑞芯微的故事始于2001年,當(dāng)時(shí)中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)幾乎是一片荒漠。創(chuàng)始人勵(lì)民以敏銳的市場(chǎng)嗅覺捕捉到MP3播放器市場(chǎng)的
2025-07-04 15:55:21934

美取消對(duì)中國(guó)芯片設(shè)計(jì)軟件出口限制 西門子已恢復(fù)中國(guó)客戶對(duì)其軟件和技術(shù)的全面訪問(wèn)

據(jù)央視新聞報(bào)道,美國(guó)已取消對(duì)中國(guó)芯片設(shè)計(jì)軟件的出口限制。 據(jù)悉,在當(dāng)?shù)貢r(shí)間的7月2日德國(guó)西門子證實(shí)了該消息,德國(guó)西門子稱收到美國(guó)政府通知已取消對(duì)中國(guó)芯片設(shè)計(jì)軟件的出口限制;可以出口。目前德國(guó)西門子已
2025-07-03 11:22:162331

芯片相關(guān)知識(shí)交流分享

的嚴(yán)苛程度和溫度要求超過(guò)商業(yè)級(jí)別,符合工業(yè)級(jí)應(yīng)用即為工業(yè)芯片。工業(yè)芯片處于整個(gè)工業(yè)體系架構(gòu)的基礎(chǔ)部分,解決感知、互聯(lián)、計(jì)算、存儲(chǔ)等基礎(chǔ)問(wèn)題和執(zhí)行問(wèn)題,在工業(yè)生產(chǎn)中起著重要作用。 中國(guó)芯片目前的發(fā)展 中國(guó)
2025-07-03 09:54:01

改善光刻圖形線寬變化的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

的應(yīng)用。 改善光刻圖形線寬變化的方法 優(yōu)化曝光工藝參數(shù) 曝光是決定光刻圖形線寬的關(guān)鍵步驟。精確控制曝光劑量,可避免因曝光過(guò)度導(dǎo)致光刻膠過(guò)度反應(yīng),使線寬變寬;或曝光不足造成線寬變窄。采用先進(jìn)的曝光設(shè)備,如極紫外(EUV)光刻機(jī)
2025-06-30 15:24:55736

ASML官宣:更先進(jìn)的Hyper NA光刻機(jī)開發(fā)已經(jīng)啟動(dòng)

電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道,日前,ASML 技術(shù)高級(jí)副總裁 Jos Benschop 表示,ASML 已攜手光學(xué)組件獨(dú)家合作伙伴蔡司,啟動(dòng)了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機(jī)開發(fā)。這一舉措標(biāo)志著
2025-06-29 06:39:001916

針對(duì)晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言 在晶圓上芯片制造工藝中,光刻膠剝離是承上啟下的關(guān)鍵環(huán)節(jié),其效果直接影響芯片性能與良率。同時(shí),光刻圖形的精確測(cè)量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法,并探討白光
2025-06-25 10:19:48815

MEMS制造領(lǐng)域中光刻Overlay的概念

在 MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))制造領(lǐng)域,光刻工藝是決定版圖中的圖案能否精確 “印刷” 到硅片上的核心環(huán)節(jié)。光刻 Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機(jī)將不同層設(shè)計(jì)圖案對(duì)準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。光刻 Overlay 指的是芯片制造過(guò)程中,前后兩次光刻工藝形成的電路圖案之間的對(duì)準(zhǔn)精度。
2025-06-18 11:30:491557

光刻工藝中的顯影技術(shù)

的基礎(chǔ),直接決定了這些技術(shù)發(fā)展水平。 二、顯影在光刻工藝中的位置與作用 位置:顯影是光刻工藝中的一個(gè)重要步驟,在曝光之后進(jìn)行。 作用:其作用是將曝光產(chǎn)生的潛在圖形,通過(guò)顯影液作用顯現(xiàn)出來(lái)。具體而言,是洗去光刻
2025-06-09 15:51:162127

我國(guó)為什么要發(fā)展半導(dǎo)體全產(chǎn)業(yè)鏈

我國(guó)發(fā)展半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的核心目的,可綜合政策導(dǎo)向、產(chǎn)業(yè)需求及國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)態(tài)勢(shì),從以下四個(gè)維度進(jìn)行結(jié)構(gòu)化分析:一、突破關(guān)鍵技術(shù)瓶頸,實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)鏈自主可控1.應(yīng)對(duì)外部技術(shù)封鎖美國(guó)對(duì)華實(shí)施光刻機(jī)等核心設(shè)備出口管制
2025-06-09 13:27:371250

光刻膠產(chǎn)業(yè)國(guó)內(nèi)發(fā)展現(xiàn)狀

如果說(shuō)最終制造出來(lái)的芯片是一道美食,那么光刻膠就是最初的重要原材料之一,而且是那種看起來(lái)可能不起眼,但卻能決定一道菜味道的關(guān)鍵輔料。 光刻膠(photoresist),在業(yè)內(nèi)又被稱為光阻或光阻劑
2025-06-04 13:22:51992

艾為電子“探秘中國(guó)芯”科普公益攜手閔實(shí)驗(yàn)小學(xué)

近日,艾為電子開啟“探秘中國(guó)芯”科普公益活動(dòng),閔實(shí)驗(yàn)小學(xué)23名學(xué)生代表,共同踏入集成電路的奇妙世界。作為閔行區(qū)首批青少年研學(xué)實(shí)踐教育基地,艾為電子匠心打造沉浸式芯片科普課堂,以“參觀感知+理論研習(xí)
2025-05-28 18:04:09914

關(guān)稅戰(zhàn)暫緩 美方又欲封殺中國(guó)芯片 商務(wù)部回應(yīng)美企圖全球禁用中國(guó)芯片

美出口管制為由,企圖在全球禁用中國(guó)先進(jìn)計(jì)算芯片。 這是美國(guó)在刺裸裸的剝奪其他國(guó)家發(fā)展先進(jìn)計(jì)算芯片和人工智能等高科技產(chǎn)業(yè)的權(quán)利。 據(jù)新華社報(bào)道,近日,盡管中美之間的關(guān)稅戰(zhàn)暫緩,但是美國(guó)竟然試圖對(duì)中國(guó)芯片進(jìn)行全面
2025-05-21 11:18:481414

芯片制造中自對(duì)準(zhǔn)接觸技術(shù)介紹

但當(dāng)芯片做到22納米時(shí),工程師遇到了大麻煩——用光刻機(jī)畫接觸孔時(shí),稍有一點(diǎn)偏差就會(huì)導(dǎo)致芯片報(bào)廢。 自對(duì)準(zhǔn)接觸技術(shù)(SAC) ,完美解決了這個(gè)難題
2025-05-19 11:11:301316

電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極

電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極 隨著科技進(jìn)步,對(duì)電子顯微鏡的精度要求越來(lái)越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長(zhǎng)和電子束聚焦后的焦點(diǎn)直徑有關(guān),電子波長(zhǎng)可通過(guò)增加加速電極電壓來(lái)減小波長(zhǎng),而電子束聚焦后
2025-05-07 06:03:45

關(guān)稅的影響:蘋果成特朗普關(guān)稅最大受害者之一 阿斯麥:對(duì)美出口光刻機(jī)或面臨關(guān)稅

2025年美國(guó)特朗普政府的“對(duì)等關(guān)稅”影響究竟有多大?未來(lái)還不確定,只有等待時(shí)間的檢驗(yàn)。這里我們看到已經(jīng)有很多的科技巨頭受損嚴(yán)重,比如蘋果公司、光刻機(jī)巨頭阿斯麥ASML、英偉達(dá)等。但是業(yè)界多認(rèn)為目前
2025-04-17 10:31:121073

最全最詳盡的半導(dǎo)體制造技術(shù)資料,涵蓋晶圓工藝到后端封測(cè)

——薄膜制作(Layer)、圖形光刻(Pattern)、刻蝕和摻雜,再到測(cè)試封裝,一目了然。 全書共分20章,根據(jù)應(yīng)用于半導(dǎo)體制造的主要技術(shù)分類來(lái)安排章節(jié),包括與半導(dǎo)體制造相關(guān)的基礎(chǔ)技術(shù)信息;總體流程圖
2025-04-15 13:52:11

芯片制造流程,探尋國(guó)產(chǎn)芯片突圍之路

近年來(lái),芯片行業(yè)深陷大國(guó)博弈的風(fēng)口浪尖。國(guó)內(nèi)芯片產(chǎn)業(yè)的 “卡脖子” 難題,更多集中于芯片制造環(huán)節(jié),尤其是光刻機(jī)、光刻膠等關(guān)鍵設(shè)備和材料領(lǐng)域。作為現(xiàn)代科技的核心,芯片的原材料竟是生活中隨處可見的沙子
2025-04-07 16:41:591257

成都匯陽(yáng)投資關(guān)于光刻機(jī)概念大漲,后市迎來(lái)機(jī)會(huì)

進(jìn)制程領(lǐng)域,曝光波長(zhǎng)逐漸縮短至13.5nm,光刻技術(shù)逐步完善成熟。2024年光刻機(jī)市場(chǎng)的規(guī)模為230億美元。2025年光刻機(jī)市場(chǎng)的規(guī)模預(yù)計(jì)為252億美元。 【光刻機(jī)發(fā)展機(jī)會(huì)主要體現(xiàn)在以下四方面】 一、技術(shù)突破與市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng) 中科院成功研發(fā)了突破性的固態(tài)深
2025-04-07 09:24:271236

【「芯片通識(shí)課:一本書讀懂芯片技術(shù)」閱讀體驗(yàn)】從deepseek看今天芯片發(fā)展

的信號(hào)采集,我們國(guó)家還落后很多。能做到高精度、低溫漂、高信噪比等高指標(biāo)的,首選還是國(guó)外廠商。我們需要追趕的地方還有很多,書中提到的EDA軟件,又是其中之一。 芯片發(fā)展得好,還能支撐經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展。書中
2025-04-02 17:25:48

【「芯片通識(shí)課:一本書讀懂芯片技術(shù)」閱讀體驗(yàn)】芯片怎樣制造

。 光刻工藝、刻蝕工藝 在芯片制造過(guò)程中,光刻工藝和刻蝕工藝用于在某個(gè)半導(dǎo)體材料或介質(zhì)材料層上,按照光掩膜版上的圖形,“刻制”出材料層的圖形。 首先準(zhǔn)備好硅片和光掩膜版,然后再硅片表面上通過(guò)薄膜工藝生成一
2025-04-02 15:59:44

士模微電子高性能ADC芯片CM2249榮獲第十八屆中國(guó)芯“芯火新銳產(chǎn)品”獎(jiǎng)

2023年9月20日,2023琴珠澳集成電路產(chǎn)業(yè)促進(jìn)峰會(huì)暨第十八屆“中國(guó)芯”頒獎(jiǎng)儀式在珠海隆重召開?!?b class="flag-6" style="color: red">中國(guó)芯”優(yōu)秀產(chǎn)品評(píng)選被譽(yù)為國(guó)內(nèi)集成電路產(chǎn)品和技術(shù)發(fā)展的“風(fēng)向標(biāo)”,是國(guó)內(nèi)集成電路領(lǐng)域最具影響力和權(quán)威性的獎(jiǎng)項(xiàng)評(píng)選之一,旨在對(duì)我國(guó)集成電路領(lǐng)域的產(chǎn)品創(chuàng)新、技術(shù)創(chuàng)新和應(yīng)用創(chuàng)新成果進(jìn)行表彰。
2025-04-02 10:15:59968

【「芯片通識(shí)課:一本書讀懂芯片技術(shù)」閱讀體驗(yàn)】了解芯片怎樣制造

TSMC,中芯國(guó)際SMIC 組成:核心:生產(chǎn)線,服務(wù):技術(shù)部門,生產(chǎn)管理部門,動(dòng)力站(雙路保障),廢水處理站(環(huán)保,循環(huán)利用)等。生產(chǎn)線主要設(shè)備: 外延爐,薄膜設(shè)備,光刻機(jī),蝕刻機(jī),離子注入機(jī),擴(kuò)散爐
2025-03-27 16:38:20

不只依賴光刻機(jī)!芯片制造的五大工藝大起底!

在科技日新月異的今天,芯片作為數(shù)字時(shí)代的“心臟”,其制造過(guò)程復(fù)雜而精密,涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造,人們往往首先想到的是光刻機(jī)這一高端設(shè)備,但實(shí)際上,芯片的成功制造遠(yuǎn)不止依賴光刻機(jī)這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關(guān)鍵工藝,揭示這些工藝如何協(xié)同工作,共同鑄就了現(xiàn)代芯片的輝煌。
2025-03-24 11:27:423167

DSA技術(shù):突破EUV光刻瓶頸的革命性解決方案

劑量的需求也加劇,從而造成了生產(chǎn)力的瓶頸。DSA技術(shù):一種革命性的方法DSA技術(shù)通過(guò)利用嵌段共聚物的分子行為來(lái)解決EUV光刻面臨的挑戰(zhàn)。嵌段共聚物由兩個(gè)或多個(gè)化學(xué)性
2025-03-19 11:10:061259

士模微電子高性能DAC芯片CM7502榮獲第十九屆中國(guó)芯“芯火新銳產(chǎn)品”獎(jiǎng)

2024年11月7日,2024中國(guó)微電子產(chǎn)業(yè)促進(jìn)大會(huì)暨第十九屆“中國(guó)芯”優(yōu)秀產(chǎn)品征集結(jié)果發(fā)布儀式將在橫琴粵澳深度合作區(qū)隆重召開。士模微電子高性能DAC芯片CM7502榮獲“芯火新銳產(chǎn)品”獎(jiǎng)。“中國(guó)芯
2025-03-11 14:53:211040

美報(bào)告:中國(guó)芯片研究論文全球領(lǐng)先

據(jù)新華社報(bào)道,美國(guó)喬治敦大學(xué)“新興技術(shù)觀察項(xiàng)目(ETO)”3日在其網(wǎng)站發(fā)布一份報(bào)告說(shuō),2018年至2023年間,在全球發(fā)表的芯片設(shè)計(jì)和制造相關(guān)論文中,中國(guó)研究人員的論文數(shù)量遠(yuǎn)超其他國(guó)家,中國(guó)在高被
2025-03-05 14:32:591780

展望“中國(guó)芯”,國(guó)產(chǎn)電容式MEMS壓力傳感器芯片午芯W(wǎng)XP380

? ? ? 芯片是現(xiàn)代科技產(chǎn)業(yè)的"心臟",是支撐數(shù)字經(jīng)濟(jì)發(fā)展的核心要素。當(dāng)前,全球芯片產(chǎn)業(yè)格局正在發(fā)生深刻變革,中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)面臨著前所未有的挑戰(zhàn)與機(jī)遇。美國(guó)對(duì)中國(guó)實(shí)施芯片出口管制,荷蘭、日本等國(guó)家
2025-02-24 10:50:261804

EUV光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

? EUV光刻有多強(qiáng)?目前來(lái)看,沒有EUV光刻,業(yè)界就無(wú)法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機(jī)也是歷史上最復(fù)雜、最昂貴的機(jī)器之一。 EUV光刻有哪些瓶頸? EUV光刻技術(shù),存在很多難點(diǎn)。 1.1
2025-02-18 09:31:242256

比爾·蓋茨建議美國(guó)政府把芯片、操作系統(tǒng)開放給中國(guó),是喜是憂?

美國(guó)對(duì)中國(guó)芯片實(shí)施全方位禁令,從高端到中端,設(shè)計(jì)到制造,層層設(shè)限,試圖 “卡脖子”。然而,2023 年中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)產(chǎn)值不降反升,同比增長(zhǎng)超 20%,華為麒麟芯片更是在重重禁令下成功突破。操作系統(tǒng)
2025-02-17 17:08:33916

名單公布!【書籍評(píng)測(cè)活動(dòng)NO.57】芯片通識(shí)課:一本書讀懂芯片技術(shù)

就是達(dá)到目的了,而芯片則必須要大規(guī)模地應(yīng)用才有意義,誠(chéng)然,芯片的產(chǎn)業(yè)化歷程也十分艱難。 首先,芯片的 生產(chǎn)成本高昂 ,初期投資巨大,需要光刻機(jī)、電子束曝光機(jī)到各種檢測(cè)設(shè)備;其次,要遵循 嚴(yán)格的技術(shù)
2025-02-17 15:43:33

什么是光刻機(jī)的套刻精度

芯片制造的復(fù)雜流程中,光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機(jī)將不同層電路圖案對(duì)準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō),它就像建造摩天大樓
2025-02-17 14:09:254467

中國(guó)芯片制造設(shè)備采購(gòu)量預(yù)計(jì)下降

據(jù)市場(chǎng)研究機(jī)構(gòu)TechInsights最新分析,中國(guó)在今年對(duì)芯片制造設(shè)備的采購(gòu)量預(yù)計(jì)將出現(xiàn)下滑趨勢(shì)。這一變化標(biāo)志著在經(jīng)歷了連續(xù)三年的強(qiáng)勁增長(zhǎng)后,中國(guó)芯片制造設(shè)備市場(chǎng)正面臨新的挑戰(zhàn)
2025-02-17 10:49:05925

探秘半導(dǎo)體防震基座剛性測(cè)試:守護(hù)芯片制造的堅(jiān)固防線

,生產(chǎn)設(shè)備對(duì)穩(wěn)定性的要求近乎苛刻。光刻機(jī)、刻蝕機(jī)等設(shè)備在工作時(shí),需保持極高的精度。以極紫外光刻機(jī)(EUV)為例,它在進(jìn)行納米級(jí)光刻時(shí),任何微小的位移或變形都可能導(dǎo)致
2025-02-17 09:52:061192

納米壓印技術(shù):開創(chuàng)下一代光刻的新篇章

光刻技術(shù)對(duì)芯片制造至關(guān)重要,但傳統(tǒng)紫外光刻受衍射限制,摩爾定律面臨挑戰(zhàn)。為突破瓶頸,下一代光刻(NGL)技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生。本文將介紹納米壓印技術(shù)(NIL)的原理、發(fā)展、應(yīng)用及設(shè)備,并探討其在半導(dǎo)體制造中
2025-02-13 10:03:503708

ASML:中國(guó)芯片落后西方15年!

光刻機(jī)制造巨頭阿斯麥(ASML)的首席執(zhí)行官克里斯托夫·富凱表示,盡管近年來(lái)中國(guó)在半導(dǎo)體領(lǐng)域取得了顯著進(jìn)步,但與英特爾、臺(tái)積電和三星等行業(yè)巨頭相比, 中國(guó)的一些公司仍落后10到15年 。眾所周知
2025-02-06 17:39:05935

光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)

光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)
2025-02-06 09:38:031028

半導(dǎo)體設(shè)備光刻機(jī)防震基座如何安裝?

半導(dǎo)體設(shè)備光刻機(jī)防震基座的安裝涉及多個(gè)關(guān)鍵步驟和考慮因素,以確保光刻機(jī)的穩(wěn)定運(yùn)行和產(chǎn)品質(zhì)量。首先,選擇合適的防震基座需要考慮適應(yīng)工作環(huán)境。由于半導(dǎo)體設(shè)備通常在潔凈的環(huán)境下運(yùn)行,因此選擇的搬運(yùn)工具如
2025-02-05 16:48:451240

芯片制造:光刻工藝原理與流程

光刻芯片制造過(guò)程中至關(guān)重要的一步,它定義了芯片上的各種微細(xì)圖案,并且要求極高的精度。以下是光刻過(guò)程的詳細(xì)介紹,包括原理和具體步驟。?? 光刻原理?????? 光刻的核心工具包括光掩膜、光刻機(jī)
2025-01-28 16:36:003590

ADS1298改DVDD大小除了會(huì)影響SCLK的最大速率,還有無(wú)其他影響呢?

現(xiàn)在我將DVDD更改為1.8V供電,其他不變. 請(qǐng)問(wèn)一下,這樣更改DVDD大小除了會(huì)影響SCLK的最大速率,還有無(wú)其他影響呢? 這樣的設(shè)計(jì),ADS1298能否正常工作?(我現(xiàn)在的ADS1298感覺一直沒有正常工作)
2025-01-23 08:27:50

如何提高光刻機(jī)的NA值

本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號(hào)的光刻機(jī)配置,每代光刻機(jī)的NA值會(huì)比上一代更大一些。NA,又名
2025-01-20 09:44:182475

飛利浦將旗下MEMS代工廠Xiver出售,該廠為ASML光刻機(jī)提供組件

近日,飛利浦已將其位于荷蘭埃因霍溫的 MEMS 晶圓廠和代工廠出售給一個(gè)荷蘭投資者財(cái)團(tuán),交易金額不詳。該代工廠為 ASML 光刻機(jī)等公司提供產(chǎn)品,并已更名為 Xiver。 該 MEMS 代工廠已被
2025-01-16 18:29:172614

光刻機(jī)的分類與原理

本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片光刻機(jī)和面板光刻機(jī)。面板光刻機(jī)的工作原理和芯片光刻機(jī)相似
2025-01-16 09:29:456356

納米壓印光刻技術(shù)旨在與極紫外光刻(EUV)競(jìng)爭(zhēng)

來(lái)源:John Boyd IEEE電氣電子工程師學(xué)會(huì) 9月,佳能交付了一種技術(shù)的首個(gè)商業(yè)版本,該技術(shù)有朝一日可能顛覆最先進(jìn)硅芯片的制造方式。這種技術(shù)被稱為納米壓印光刻技術(shù)(NIL
2025-01-09 11:31:181280

組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)介紹

? 本文介紹了組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機(jī)是實(shí)現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過(guò)程,但精度要求極高,能夠達(dá)到
2025-01-07 10:02:304530

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