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Tegal出售納米沉積技術(shù)專利

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2025-12-20 20:24:21

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帶你一文了解聚焦離子束(FIB)加工技術(shù)

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如有雷同或是不當(dāng)之處,還請(qǐng)大家海涵,當(dāng)前在各網(wǎng)絡(luò)平臺(tái)上均以此昵稱為ID跟大家一起交流學(xué)習(xí)! 近年來,負(fù)極材料領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)之一就是化學(xué)氣相沉積(CVD)碳化硅(Sic)技術(shù)。這種技術(shù)具有充放電效率高、循環(huán)穩(wěn)定性好、對(duì)設(shè)備
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2025-06-11 17:09:471001

比亞迪榮獲第25屆中國(guó)專利獎(jiǎng)金獎(jiǎng)

近日,國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局正式發(fā)布《關(guān)于第二十五屆中國(guó)專利獎(jiǎng)授獎(jiǎng)的決定》,比亞迪憑借領(lǐng)先的技術(shù)創(chuàng)新和卓越的設(shè)計(jì)能力,成功摘得兩項(xiàng)重量級(jí)專利大獎(jiǎng)。其中,集成式熱管理系統(tǒng)專利榮獲第二十五屆中國(guó)專利金獎(jiǎng),騰勢(shì)D9外觀專利榮獲第二十五屆中國(guó)外觀設(shè)計(jì)金獎(jiǎng)。
2025-06-11 11:49:151063

納米級(jí)表面形貌臺(tái)階儀

中圖儀器納米級(jí)表面形貌臺(tái)階儀單拱龍門式設(shè)計(jì),結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性好,而且降低了周圍環(huán)境中聲音和震動(dòng)噪音對(duì)測(cè)量信號(hào)的影響,提高了測(cè)量精度。線性可變差動(dòng)電容傳感器(LVDC),具有亞埃級(jí)分辨率,13μm量程下可達(dá)
2025-06-10 16:30:17

輪邊驅(qū)動(dòng)電機(jī)專利技術(shù)發(fā)展

,具有較高的靈敏度。 本文主要以 DWPI 專利數(shù)據(jù)庫(kù)以及 CNABS 數(shù)據(jù)庫(kù)中的檢索結(jié)果為分析樣本,從專利文獻(xiàn)的視角對(duì)輪邊驅(qū)動(dòng)電機(jī)的技術(shù)發(fā)展進(jìn)行了全面的統(tǒng)計(jì)分析,總結(jié)了與輪邊驅(qū)動(dòng)電機(jī)相關(guān)的國(guó)內(nèi)和國(guó)外
2025-06-10 13:15:11

壓電納米定位系統(tǒng)搭檔金剛石色心-在納米尺度上捕捉量子世界的奧秘

在量子計(jì)算、生物傳感、精密測(cè)量等前沿領(lǐng)域,金剛石中的氮-空位(NV)色心正成為顛覆性技術(shù)的核心材料,其獨(dú)特的量子特性為科技突破提供了無限可能,更因其卓越的性質(zhì)和廣泛的應(yīng)用而成為納米級(jí)研究的有力工具
2025-06-05 09:30:54988

芯片制造中的化學(xué)鍍技術(shù)研究進(jìn)展

芯片制造中大量使用物理氣相沉積、化學(xué)氣相沉積、電鍍、熱壓鍵合等技術(shù)來實(shí)現(xiàn)芯片導(dǎo)電互連。
2025-06-03 16:58:212332

超聲波指紋模組靈敏度飛升!低溫納米燒結(jié)銀漿立大功

超聲波指紋模組靈敏度飛升!低溫納米燒結(jié)銀漿立大功 在科技飛速發(fā)展的今天,指紋識(shí)別技術(shù)已經(jīng)成為我們生活中不可或缺的一部分,宛如一位忠誠(chéng)的安全小衛(wèi)士,時(shí)刻守護(hù)著我們的信息與財(cái)產(chǎn)安全。當(dāng)你早上睡眼惺忪
2025-05-22 10:26:27

鈣鈦礦/硅疊層電池技術(shù)新進(jìn)展:低壓化學(xué)氣相沉積(LP-CVD)技術(shù)實(shí)現(xiàn)高效穩(wěn)定

挑戰(zhàn)。低壓化學(xué)氣相沉積(Low-PressureCVD,LP-CVD)技術(shù)憑借其高可控性、材料利用率高(>60%)及優(yōu)異的薄膜均勻性,成為實(shí)現(xiàn)工業(yè)化生產(chǎn)的理想路徑。本文通過美
2025-05-19 09:05:351711

納米級(jí)形貌光學(xué)輪廓測(cè)量?jī)x

中圖儀器SuperViewW納米級(jí)形貌光學(xué)輪廓測(cè)量?jī)x具有測(cè)量精度高、操作便捷、功能齊全、測(cè)量參數(shù)涵蓋面廣的優(yōu)點(diǎn),測(cè)量單個(gè)精細(xì)器件的過程用時(shí)短,確保了高款率檢測(cè)。SuperViewW納米級(jí)形貌光學(xué)輪廓
2025-05-16 15:16:49

納米級(jí)臺(tái)階儀

中圖儀器NS系列納米級(jí)臺(tái)階儀線性可變差動(dòng)電容傳感器(LVDC),具有亞埃級(jí)分辨率,13μm量程下可達(dá)0.01埃。高信噪比和低線性誤差,使得產(chǎn)品能掃描到幾納米至幾百微米臺(tái)階的形貌特征。 NS
2025-05-15 14:41:51

陶瓷數(shù)據(jù)存儲(chǔ),壽命可達(dá)5000年

與玻璃相結(jié)合的材料,據(jù)稱可將數(shù)據(jù)保存達(dá) 5000 年。 ? Cerabyte成立于2022年,正在開發(fā)CeramicNano Memory數(shù)據(jù)存儲(chǔ)技術(shù),該技術(shù)采用濺射沉積的極耐用陶瓷納米層,具有寬吸收光譜,是一種“灰色陶瓷”,實(shí)現(xiàn)超高速寫入。這種陶瓷沉積在厚度僅為100微米的柔性超薄平
2025-05-15 00:08:006793

詳解原子層沉積薄膜制備技術(shù)

CVD 技術(shù)是一種在真空環(huán)境中通過襯底表面化學(xué)反應(yīng)來進(jìn)行薄膜生長(zhǎng)的過程,較短的工藝時(shí)間以及所制備薄膜的高致密性,使 CVD 技術(shù)被越來越多地應(yīng)用于薄膜封裝工藝中無機(jī)阻擋層的制備。
2025-05-14 10:18:571204

會(huì)議邀請(qǐng)| Aigtek誠(chéng)邀您蒞臨微納器件與系統(tǒng)創(chuàng)新論壇(2025)暨中國(guó)微米納米技術(shù)學(xué)會(huì)微納技術(shù)應(yīng)用創(chuàng)新大會(huì)!

2025年5月10日-11日,由中國(guó)微米納米技術(shù)學(xué)會(huì)主辦,南京大學(xué)、蘇州市集成電路創(chuàng)新中心聯(lián)合承辦的第三屆微納器件與系統(tǒng)創(chuàng)新論壇(2025)暨中國(guó)微米納米技術(shù)學(xué)會(huì)微納技術(shù)應(yīng)用創(chuàng)新大會(huì)系列會(huì)議將于
2025-05-06 18:44:061267

納米級(jí)成像掃描電鏡

中圖儀器CEM3000系列納米級(jí)成像掃描電鏡空間分辨率出色和易用性強(qiáng),用戶能夠非??旖莸剡M(jìn)行各項(xiàng)操作。甚至在自動(dòng)程序的幫助下,無需過多人工調(diào)節(jié),便可一鍵得到理想的拍攝圖片。CEM3000系列上還運(yùn)用
2025-04-29 11:17:41

聚焦離子束技術(shù)納米加工與分析的利器

聚焦離子束技術(shù)(FocusedIonBeam,FIB)作為一種前沿的納米加工與分析手段,憑借其獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)在多個(gè)領(lǐng)域展現(xiàn)出強(qiáng)大的應(yīng)用潛力。本文將從技術(shù)原理、應(yīng)用領(lǐng)域、測(cè)試項(xiàng)目以及制樣流程等方面,對(duì)聚焦
2025-04-28 20:14:04554

英特爾向銀湖資本出售Altera 51%股份

英特爾公司宣布已達(dá)成最終協(xié)議,將旗下 Altera 業(yè)務(wù) 51% 的股份出售給全球技術(shù)投資巨頭銀湖資本(Silver Lake)。
2025-04-19 11:19:021061

質(zhì)量流量控制器在薄膜沉積工藝中的應(yīng)用

聽上去很高大上的“薄膜沉積”到底是什么? 簡(jiǎn)單來說:薄膜沉積就是幫芯片“貼膜”的。 薄膜沉積(Thin Film Deposition)是在半導(dǎo)體的主要襯底材料上鍍一層膜,再配合蝕刻和拋光等工藝
2025-04-16 14:25:091064

IBC技術(shù)新突破:基于物理氣相沉積(PVD)的自對(duì)準(zhǔn)背接觸SABC太陽(yáng)能電池開發(fā)

PVD沉積n型多晶硅層,結(jié)合自對(duì)準(zhǔn)分離,顯著簡(jiǎn)化了工藝流程。SABC太陽(yáng)能電池是一種先進(jìn)的背接觸(BC)太陽(yáng)能電池技術(shù),其核心特點(diǎn)是通過自對(duì)準(zhǔn)技術(shù)實(shí)現(xiàn)電池背面的正
2025-04-14 09:03:171286

聚焦離子束技術(shù)納米尺度

聚焦離子束(FocusedIonBeam,簡(jiǎn)稱FIB)技術(shù),宛如一把納米尺度的“萬能鑰匙”,在材料加工、分析及成像領(lǐng)域大放異彩。它憑借高度集中的離子束,精準(zhǔn)操控離子束與樣品表面的相互作用,實(shí)現(xiàn)納米
2025-04-08 17:56:15610

聚焦離子束技術(shù)納米加工中的應(yīng)用與特性

聚焦離子束技術(shù)的崛起近年來,F(xiàn)IB技術(shù)憑借其獨(dú)特的優(yōu)勢(shì),結(jié)合掃描電鏡(SEM)等高倍數(shù)電子顯微鏡的實(shí)時(shí)觀察功能,迅速成為納米級(jí)分析與制造的主流方法。它在半導(dǎo)體集成電路的修改、切割以及故障分析等
2025-03-26 15:18:56712

單晶硅納米力學(xué)性能測(cè)試方法

在材料納米力學(xué)性能測(cè)試的眾多方法中,納米壓痕技術(shù)憑借其獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)脫穎而出,成為當(dāng)前的主流測(cè)試手段。
2025-03-25 14:38:371225

全球芯片產(chǎn)業(yè)進(jìn)入2納米競(jìng)爭(zhēng)階段:臺(tái)積電率先實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)!

隨著科技的不斷進(jìn)步,全球芯片產(chǎn)業(yè)正在進(jìn)入一個(gè)全新的競(jìng)爭(zhēng)階段,2納米制程技術(shù)的研發(fā)和量產(chǎn)成為了各大芯片制造商的主要目標(biāo)。近期,臺(tái)積電、三星、英特爾以及日本的Rapidus等公司紛紛加快了在2納米技術(shù)
2025-03-25 11:25:481285

新能源汽車驅(qū)動(dòng)電機(jī)專利信息分析

采用Thomson Innovation專利檢索分析平臺(tái)搜集整理驅(qū)動(dòng)電機(jī)相關(guān)專利,通過分析國(guó)內(nèi)外驅(qū)動(dòng)電機(jī)專利的 申請(qǐng)時(shí)間趨勢(shì)、國(guó)別分布、申請(qǐng)人排名、技術(shù)熱點(diǎn)分布以及國(guó)內(nèi)專利省市分布,了解國(guó)內(nèi)外驅(qū)動(dòng)
2025-03-21 13:39:08

深海沉積物中稀土元素浸出及LIBS光譜探測(cè)方法研究

具有深海原位稀土元素探測(cè)的潛能,證實(shí)了利用 LIBS結(jié)合多變量回歸分析對(duì)深海沉積物中稀土元素進(jìn)行檢測(cè)和評(píng)價(jià)是可行的,為實(shí)現(xiàn) LIBS深海稀土探測(cè)提供數(shù)據(jù)支持。
2025-03-17 16:32:20664

SiC與GaN技術(shù)專利競(jìng)爭(zhēng):新興電力電子領(lǐng)域的創(chuàng)新機(jī)遇

)、可再生能源系統(tǒng)和先進(jìn)通信技術(shù)等應(yīng)用。專利申請(qǐng)通常是一個(gè)領(lǐng)域研發(fā)和商業(yè)活動(dòng)水平的有力指標(biāo)。從圖1可以看出,SiC和GaN基礎(chǔ)的電力電子技術(shù)專利申請(qǐng)趨勢(shì)在過去十年
2025-03-07 11:10:29952

納米技術(shù)的發(fā)展歷程和制造方法

納米技術(shù)是一個(gè)高度跨學(xué)科的領(lǐng)域,涉及在納米尺度上精確控制和操縱物質(zhì)。集成電路(IC)作為已經(jīng)達(dá)到納米級(jí)別的重要技術(shù),對(duì)社會(huì)生活產(chǎn)生了深遠(yuǎn)影響。晶體管器件的關(guān)鍵尺寸在過去數(shù)十年間不斷縮小,如今已經(jīng)接近
2025-03-04 09:43:084280

東風(fēng)納米06外觀曝光

東風(fēng)納米第二款全新車型東風(fēng)納米06自光影預(yù)告圖發(fā)布之后,不少小伙伴都很好奇地問,“新車到底長(zhǎng)啥樣呀?”。
2025-02-24 13:38:02729

納米銅燒結(jié)為何完勝納米銀燒結(jié)?

在半導(dǎo)體功率模塊封裝領(lǐng)域,互連技術(shù)一直是影響模塊性能、可靠性和成本的關(guān)鍵因素。近年來,隨著納米技術(shù)的快速發(fā)展,納米銀燒結(jié)和納米銅燒結(jié)技術(shù)作為兩種新興的互連技術(shù),備受業(yè)界關(guān)注。然而,在眾多應(yīng)用場(chǎng)景中
2025-02-24 11:17:061760

Humane向惠普出售AI核心技術(shù)

。 據(jù)了解,惠普公司此次購(gòu)買的Humane“關(guān)鍵人工智能能力”涵蓋了多個(gè)方面,包括其備受矚目的Cosmos平臺(tái)。該平臺(tái)由人工智能驅(qū)動(dòng),具備強(qiáng)大的數(shù)據(jù)處理和分析能力。此外,惠普還獲得了Humane的高素質(zhì)技術(shù)人才,以及超過300項(xiàng)專利專利申請(qǐng)的知識(shí)產(chǎn)權(quán)。這些資源的加入,無
2025-02-20 10:38:29772

科華數(shù)據(jù)榮獲中國(guó)專利優(yōu)秀獎(jiǎng)

。這一殊榮不僅彰顯了科華數(shù)據(jù)在風(fēng)電技術(shù)領(lǐng)域卓越的創(chuàng)新實(shí)力,也肯定了其在推動(dòng)綠色能源發(fā)展進(jìn)程中的杰出貢獻(xiàn)。 科華數(shù)據(jù)一直致力于風(fēng)電技術(shù)的研發(fā)與創(chuàng)新,此次獲獎(jiǎng)的專利成果是公司在風(fēng)電變槳系統(tǒng)供電方法及裝置方面的重大突破。該專利通過優(yōu)化風(fēng)電變
2025-02-19 15:14:07825

英美資源5億美元出售鎳業(yè)務(wù)

英美資源集團(tuán)于周二宣布,已與MMG Limited的全資子公司MMG Singapore Resources Pte. Ltd.達(dá)成最終協(xié)議,將其鎳業(yè)務(wù)出售給對(duì)方,現(xiàn)金對(duì)價(jià)最高可達(dá)5億美元。 此次
2025-02-19 09:48:07661

3D打印中XPR技術(shù)對(duì)于打印效果的影響?

我是3D打印設(shè)備的制造商,我想具體了解下3D打印中XPR技術(shù)對(duì)于打印效果的影響? 或者是否能提供對(duì)應(yīng)的專利信息以備查閱
2025-02-18 07:59:40

亞歷山大醫(yī)院研發(fā)全球新穎的人工智能算法(已獲國(guó)際專利

保護(hù),迄今為止,通過獨(dú)立專利機(jī)構(gòu)的嚴(yán)格審查和大量收據(jù)探索,尚未發(fā)現(xiàn)其他類似的概念或技術(shù)。早在2023年10月,團(tuán)隊(duì)已獲取新加坡的專利
2025-02-15 10:16:25602

納米壓印技術(shù):開創(chuàng)下一代光刻的新篇章

光刻技術(shù)對(duì)芯片制造至關(guān)重要,但傳統(tǒng)紫外光刻受衍射限制,摩爾定律面臨挑戰(zhàn)。為突破瓶頸,下一代光刻(NGL)技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生。本文將介紹納米壓印技術(shù)(NIL)的原理、發(fā)展、應(yīng)用及設(shè)備,并探討其在半導(dǎo)體制造中
2025-02-13 10:03:503708

納米材料與新型傳感技術(shù):微觀世界里的“黃金搭檔”

在科技飛速發(fā)展的今天,納米材料和新型傳感技術(shù)這對(duì)“黃金搭檔”正攜手開啟感知世界的新篇章。納米材料,憑借其獨(dú)特的尺寸效應(yīng)和表面效應(yīng),為傳感技術(shù)帶來了革命性的突破,而新型傳感技術(shù)則為納米材料提供了廣闊
2025-02-12 18:05:02779

聚焦離子束技術(shù)納米的精準(zhǔn)操控與廣闊應(yīng)用

納米的精準(zhǔn)尺度聚焦離子束技術(shù)的核心機(jī)制在于利用高能離子源產(chǎn)生離子束,并借助電磁透鏡系統(tǒng),將離子束精準(zhǔn)聚焦至微米級(jí)乃至納米級(jí)的極小區(qū)域。當(dāng)離子束與樣品表面相互作用時(shí),其能量傳遞與物質(zhì)相互作用的特性被
2025-02-11 22:27:50733

Aigtek功率放大器在壓電納米電機(jī)領(lǐng)域有哪些應(yīng)用

壓電納米電機(jī)是一種基于壓電效應(yīng)和納米技術(shù)的新型微型電機(jī)。壓電效應(yīng)是指在施加外力時(shí),壓電材料會(huì)產(chǎn)生電荷分布不均,引起電勢(shì)差從而產(chǎn)生電場(chǎng),進(jìn)而實(shí)現(xiàn)電能和機(jī)械能之間的轉(zhuǎn)換。通過將這種壓電效應(yīng)應(yīng)用到納米
2025-02-11 10:54:29654

單晶圓系統(tǒng):多晶硅與氮化硅的沉積

本文介紹了單晶圓系統(tǒng):多晶硅與氮化硅的沉積。 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,單晶圓系統(tǒng)展現(xiàn)出獨(dú)特的工藝優(yōu)勢(shì),它具備進(jìn)行多晶硅沉積的能力。這種沉積方式所帶來的顯著益處之一,便是能夠?qū)崿F(xiàn)臨場(chǎng)的多晶硅和鎢硅化物沉積
2025-02-11 09:19:051132

Magnachip尋求再次出售

近日,據(jù)知情人士透露,在經(jīng)歷四年前美國(guó)阻止智路資本收購(gòu)的風(fēng)波后,韓國(guó)芯片制造商Magnachip Semiconductor正計(jì)劃再次尋求出售。 據(jù)悉,Magnachip已選定一家外國(guó)投資銀行作為
2025-02-10 14:00:46791

光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)

光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)
2025-02-06 09:38:031028

多項(xiàng)智能戒指專利公開!交互升級(jí)、輕量化,三星、蘋果等大廠互秀技術(shù)實(shí)力

的自主性和獨(dú)立工作能力。隨著技術(shù)的發(fā)展,智能戒指的功能和應(yīng)用場(chǎng)景將會(huì)越來越廣泛。近期,有多項(xiàng)關(guān)于智能戒指的專利技術(shù)公開,從專利技術(shù)上也可以看到智能戒指的技術(shù)迭代。 ? ? 專利公開,三星、蘋果互秀智能戒指技術(shù)實(shí)力
2025-02-06 09:04:303280

碳化硅薄膜沉積技術(shù)介紹

多晶碳化硅和非晶碳化硅在薄膜沉積方面各具特色。多晶碳化硅以其廣泛的襯底適應(yīng)性、制造優(yōu)勢(shì)和多樣的沉積技術(shù)而著稱;而非晶碳化硅則以其極低的沉積溫度、良好的化學(xué)與機(jī)械性能以及廣泛的應(yīng)用前景而受到關(guān)注。
2025-02-05 13:49:121950

半導(dǎo)體薄膜沉積技術(shù)的優(yōu)勢(shì)和應(yīng)用

在半導(dǎo)體制造業(yè)這一精密且日新月異的舞臺(tái)上,每一項(xiàng)技術(shù)都是推動(dòng)行業(yè)躍進(jìn)的關(guān)鍵舞者。其中,原子層沉積(ALD)技術(shù),作為薄膜沉積領(lǐng)域的一顆璀璨明星,正逐步成為半導(dǎo)體工藝中不可或缺的核心要素。本文旨在深度剖析為何半導(dǎo)體制造對(duì)ALD技術(shù)情有獨(dú)鐘,并揭示其獨(dú)特魅力及廣泛應(yīng)用。
2025-01-24 11:17:211922

基于微軟專利的帶蝴蝶出瞳擴(kuò)展的光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)

份文件中,我們展示了在VirtualLab Fusion中實(shí)現(xiàn)這樣一個(gè)EPE概念,它基于微軟的US9791703B1專利。 建模任務(wù):基于專利US9791703B1的方法 ** 任務(wù)描述
2025-01-24 08:41:58

二維周期光柵結(jié)構(gòu)(菱形)光波導(dǎo)的應(yīng)用

實(shí)現(xiàn)。 可用參數(shù): ?周期(錐間方向):(461.88納米,800納米) ?調(diào)制深度:100nm ?填充系數(shù):65% ?菱形網(wǎng)格的角度:30° 總結(jié)——元件 結(jié)果:系統(tǒng)中的光線 結(jié)果 : 結(jié)果:場(chǎng)追跡 VirtualLab Fusion技術(shù)
2025-01-23 10:37:47

ALD和ALE核心工藝技術(shù)對(duì)比

ALD 和 ALE 是微納制造領(lǐng)域的核心工藝技術(shù),它們分別從沉積和刻蝕兩個(gè)維度解決了傳統(tǒng)工藝在精度、均勻性、選擇性等方面的挑戰(zhàn)。兩者既互補(bǔ)又相輔相成,未來在半導(dǎo)體、光子學(xué)、能源等領(lǐng)域的聯(lián)用將顯著加速
2025-01-23 09:59:542207

納米管在EUV光刻效率中的作用

數(shù)值孔徑 EUV 光刻中的微型化挑戰(zhàn) 晶體管不斷小型化,縮小至 3 納米及以下,這需要完美的執(zhí)行和制造。在整個(gè) 21 世紀(jì),這種令人難以置信的縮小趨勢(shì)(從 90 納米到 7 納米及更小)開創(chuàng)了技術(shù)進(jìn)步的新時(shí)代。 在過去十年中,我們見證了將50
2025-01-22 14:06:531152

原子層沉積(ALD, Atomic Layer Deposition)詳解

? 本文介紹了什么是原子層沉積(ALD, Atomic Layer Deposition)。 1.原理:基于分子層級(jí)的逐層沉積 ALD 是一種精確的薄膜沉積技術(shù),其核心原理是利用化學(xué)反應(yīng)的“自限性
2025-01-17 10:53:443517

諾基亞與三星達(dá)成多年專利許可合作

諾基亞公司于近日宣布,已與全球知名電子巨頭三星簽署了一項(xiàng)多年的專利許可協(xié)議。根據(jù)協(xié)議內(nèi)容,三星將在其電視產(chǎn)品中使用諾基亞先進(jìn)的視頻技術(shù),并向諾基亞支付相應(yīng)的特許權(quán)使用費(fèi)。 此次合作不僅彰顯了諾基亞在
2025-01-16 11:15:55846

電裝攜手芬蘭Canatu推進(jìn)碳納米技術(shù)應(yīng)用

近日,株式會(huì)社電裝(以下簡(jiǎn)稱“電裝”)與芬蘭Canatu公司(以下簡(jiǎn)稱“Canatu”)簽署了關(guān)于碳納米技術(shù)應(yīng)用的合作備忘錄。雙方計(jì)劃通過深化合作,致力于推動(dòng)自動(dòng)駕駛技術(shù)的發(fā)展,同時(shí)為實(shí)現(xiàn)碳中和目標(biāo)貢獻(xiàn)力量。
2025-01-13 18:02:43990

納米晶體技術(shù)介紹

本文旨在介紹人類祖先曾經(jīng)使用過納米晶體的應(yīng)用領(lǐng)域。 ? 納米技術(shù)/材料在現(xiàn)代社會(huì)中的應(yīng)用與日俱增。納米晶體,這一類獨(dú)特的納米材料,預(yù)計(jì)將在液晶顯示器、發(fā)光二極管、激光器等新一代設(shè)備中發(fā)揮關(guān)鍵作用
2025-01-13 09:10:191505

Rapidus攜手博通推進(jìn)2納米芯片量產(chǎn)

近日,據(jù)日媒報(bào)道,日本半導(dǎo)體新興企業(yè)Rapidus正與全球知名芯片制造商博通(Broadcom)展開合作,共同致力于2納米尖端芯片的量產(chǎn)。Rapidus計(jì)劃在今年6月向博通提供試產(chǎn)芯片,以驗(yàn)證其技術(shù)
2025-01-10 15:22:001051

中微公司發(fā)明專利再獲中國(guó)專利獎(jiǎng)殊榮

中國(guó)上海,2025年1月9日——中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司(以下簡(jiǎn)稱“中微公司”,上交所股票代碼:688012)和南昌中微半導(dǎo)體設(shè)備有限公司共同擁有的發(fā)明專利“一種化學(xué)氣相沉積裝置及其清潔
2025-01-09 15:57:48914

飛利浦出售計(jì)算機(jī)芯片子公司Xiver

近日,據(jù)Xiver公司首席執(zhí)行官透露,醫(yī)療技術(shù)領(lǐng)域的知名企業(yè)飛利浦已正式將其計(jì)算機(jī)芯片子公司Xiver出售。這一消息引起了業(yè)界的廣泛關(guān)注。 據(jù)了解,此次收購(gòu)由荷蘭商人Cees Meeuwis領(lǐng)導(dǎo)
2025-01-09 15:55:43968

納米壓印光刻技術(shù)旨在與極紫外光刻(EUV)競(jìng)爭(zhēng)

來源:John Boyd IEEE電氣電子工程師學(xué)會(huì) 9月,佳能交付了一種技術(shù)的首個(gè)商業(yè)版本,該技術(shù)有朝一日可能顛覆最先進(jìn)硅芯片的制造方式。這種技術(shù)被稱為納米壓印光刻技術(shù)(NIL
2025-01-09 11:31:181277

Ansys出售PowerArtist業(yè)務(wù)予是德科技,交易待監(jiān)管批準(zhǔn)

近日,Ansys公司與新思科技聯(lián)合宣布,雙方已達(dá)成最終協(xié)議,Ansys將向是德科技出售其PowerArtist?業(yè)務(wù)。此次交易仍需滿足一系列慣例成交條件,包括監(jiān)管機(jī)構(gòu)的審查,以及新思科技對(duì)Ansys
2025-01-08 14:39:231033

OptiFDTD應(yīng)用:用于光纖入波導(dǎo)耦合的硅納米錐仿真

轉(zhuǎn)換器。[2] 錐形耦合器可以是線性[1]或拋物線性[2]過渡。 選擇Silicon-on-insulator(SOI)技術(shù)作為納米錐和波導(dǎo)的平臺(tái),因?yàn)樗峁└哒凵渎时龋ǘ趸鑼幼鳛楣鈱W(xué)緩沖器
2025-01-08 08:51:53

英偉達(dá)公布AR眼鏡新專利:無背光數(shù)字全息AR技術(shù)亮相

 1月6日傳來消息,英偉達(dá)近期在美國(guó)專利及商標(biāo)局官網(wǎng)上公開了一項(xiàng)備受矚目的AR眼鏡技術(shù)專利——“無背光增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)數(shù)字全息技術(shù)”(專利號(hào):US20250004275A1)。
2025-01-07 15:37:381388

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