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標(biāo)簽 > 光刻
光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個(gè)主要工藝。是對半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）進(jìn)行開孔，以便進(jìn)行雜質(zhì)的定域擴(kuò)散的一種加工技術(shù)。
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八億時(shí)空：光刻膠樹脂量產(chǎn)產(chǎn)能不斷提升 預(yù)計(jì)明年將會貢獻(xiàn)一定營收
該公司目前集中開發(fā)krf光刻樹脂及其衍生物，分為負(fù)離子聚合的狹窄分布樹脂和包括三重聚合物在內(nèi)的自由基聚合的廣泛分布樹脂?，F(xiàn)在下游客戶對這兩個(gè)地區(qū)都有需求...
進(jìn)入過無塵間光刻區(qū)的朋友，應(yīng)該都知道光刻區(qū)里用的都是黃燈，這個(gè)看似很簡單的問題的背后卻蘊(yùn)含了很多鮮為人知的道理，那為什么實(shí)驗(yàn)室光刻要用黃光呢？ 光刻是微...
2025-06-16 標(biāo)簽：光刻 1.4k 0
俄羅斯政府預(yù)計(jì)2030年開發(fā)出28納米制程技術(shù)
，俄羅斯政府推出了一項(xiàng)國家計(jì)劃，到2030年開發(fā)出自己的28納米制程技術(shù)，并盡可能利用外國芯片進(jìn)行逆向工程取得技術(shù)，同時(shí)也要培養(yǎng)本土人才從事國產(chǎn)芯片的生產(chǎn)工作。
這個(gè)復(fù)合體由兩種設(shè)施組成。第一個(gè)裝置是為“無掩模納米光刻”設(shè)計(jì)的，可以在沒有口罩的情況下將圖像投射到基板上。第二種設(shè)備位于第一種設(shè)備制造的基板圖案上，利...
光刻掩膜（也稱為光罩）和模具在微納加工技術(shù)中都起著重要的作用，但它們的功能和應(yīng)用有所不同。 光刻掩膜版 光刻掩膜版是微納加工技術(shù)中常用的光刻工藝所使用的...
? 受人工智能和超連接性普及的推動，預(yù)計(jì)半導(dǎo)體行業(yè)規(guī)模將在未來十年內(nèi)翻一番。然而，盡管微芯片（從智能手機(jī)到救命醫(yī)療設(shè)備等一切產(chǎn)品的基礎(chǔ)）的需求量空前高漲...
三星電子晶圓代工事業(yè)部在國際互連技術(shù)大會（IITC, International Interconnect Technology Conference）...
掩膜版作為微納加工技術(shù)中光刻工藝所使用的圖形母版，在IC、平版顯示器、印刷電路版、微機(jī)電系統(tǒng)等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。隨著信息技術(shù)和智能制造的快速發(fā)展，特別...
在正性光刻過程中，掩膜版（Photomask）作為圖形轉(zhuǎn)移的關(guān)鍵工具，其性能直接影響到最終圖形的精確度和質(zhì)量。以下是正性光刻對掩膜版的主要要求： 圖案準(zhǔn)...
攻克光子芯片制程中光刻、刻蝕、蒸鍍等多項(xiàng)核心工藝 陜西先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺全面啟用
陜西光電子先導(dǎo)院先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺3月30日在西安全面啟用。該平臺具備光子芯片制程中的光刻、刻蝕、蒸鍍等多項(xiàng)核心工藝，將為光子產(chǎn)業(yè)項(xiàng)目提供產(chǎn)品研發(fā)...
艾森股份：半導(dǎo)體封裝材料龍頭企業(yè)沖刺科創(chuàng)板
據(jù)上海證券交易所上市審查委員會公告，艾森股票將于8月14日在科創(chuàng)股票市場上市。艾森股份有限公司從事電子化學(xué)品的研究，開發(fā)，生產(chǎn)和銷售。電子電鍍、光刻2個(gè)...
2023-08-08 標(biāo)簽：電鍍光刻半導(dǎo)體制造 1.3k 0
我們?nèi)A林科納研究了用于電解門制造的潔凈室工藝用于生物傳感的晶片尺度石墨烯場效應(yīng)晶體管。 我們的制造該工藝克服了兩個(gè)主要問題:去除石墨烯圖案化后的表面殘留...
在半導(dǎo)體制造中，許多芯片工藝步驟采用光刻技術(shù)，用于這些步驟的圖形“底片”稱為掩膜(也稱作“掩模”)，其作用是在硅片上選定的區(qū)域中對一個(gè)不透明的圖形模板遮...
極紫外光刻（EUVL）技術(shù)作為實(shí)現(xiàn)先進(jìn)工藝制程的關(guān)鍵路徑，在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域占據(jù)著舉足輕重的地位。當(dāng)前，LPP-EUV 光源是極紫外光刻機(jī)所采用的主流光源...
對用于微加工微系統(tǒng)(MST)產(chǎn)品的高縱橫比光致抗蝕劑的發(fā)展的日益增長的興趣導(dǎo)致了許多商業(yè)上可獲得的光致抗蝕劑產(chǎn)品的可用性。本文詳細(xì)描述了三種抗蝕劑的應(yīng)用...
應(yīng)對先進(jìn)工藝碳排放挑戰(zhàn)，Imec開發(fā)晶圓廠可持續(xù)發(fā)展評估模型
隨著技術(shù)的發(fā)展，與ic制造相關(guān)的排放量也增加了，特別是光刻和蝕刻能耗較大，例如n3工程中光刻工序產(chǎn)生的二氧化碳排放量約占45%。imec的工程師們半導(dǎo)體...
2023-09-13 標(biāo)簽：半導(dǎo)體技術(shù)光刻蝕刻 1.2k 0
SK海力士聯(lián)手TEMC開發(fā)氖氣回收技術(shù)，年度節(jié)省400億韓元
SK海力士聯(lián)合 TEMC 研發(fā)出一套氖氣回收裝置，用以收集及分類處理光刻工藝環(huán)境中的氖氣，然后交予 TEMC 進(jìn)行純化處理，最后回流至 SK 海力士使用。
光刻掩模是光的一種掩蔽模片，其作用有類似于照相的通過它，可以使它“底下“的光劑部分成光，難溶于有機(jī)藥品，一部分不感光，易溶于有機(jī)藥品，以而制得選擇擴(kuò)散所...
生命科學(xué)、醫(yī)藥健康和電子科技三大業(yè)務(wù)協(xié)同創(chuàng)新
材料來源：化合物半導(dǎo)體 本刊記者 日前，旗下?lián)碛猩茖W(xué)、醫(yī)藥健康和電子科技三大業(yè)務(wù)板塊的科技公司默克重磅亮相第五屆中國國際進(jìn)口博覽會（進(jìn)博會），并宣布...
匯集多種優(yōu)勢特征于一體的平行紫外光源是半導(dǎo)體芯片制造中實(shí)現(xiàn)高精度、超準(zhǔn)確曝光效果的關(guān)鍵。對比矩陣式LED光源，友思特ALE光源的光刻曝光效果展示出了優(yōu)異的性能。
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