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標(biāo)簽 > 光刻
光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個(gè)主要工藝。是對(duì)半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）進(jìn)行開孔，以便進(jìn)行雜質(zhì)的定域擴(kuò)散的一種加工技術(shù)。
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超臨界二氧化碳處理技術(shù)在光刻技術(shù)中的應(yīng)用
作為半導(dǎo)體器件和MEMS微加工技術(shù)基礎(chǔ)的光刻技術(shù)中，顯影和清洗等濕法工藝是必不可少的。在本稿中，介紹了能夠定量評(píng)價(jià)超臨界CO2處理對(duì)微細(xì)光刻膠圖案―基板...
GTC 2023主題直播：NVIDIA推出計(jì)算光刻庫——cuLitho
晶圓的定位精度達(dá)到四分之一納米，并且每秒對(duì)準(zhǔn)2萬次以消除任何振動(dòng)的影響。光刻之前的步驟同樣令人不可思議。
現(xiàn)代社會(huì)已經(jīng)習(xí)慣了視覺信息的溢出，大多數(shù)用戶界面的中心都有顯示器。引進(jìn)新技術(shù)和降低制造成本的步伐令人印象深刻，似乎并沒有 放緩。最突出的例子是OLED顯...
想必大家都有所了解，光刻機(jī)對(duì)芯片制造的重要性，而光掩膜版又稱光罩，光掩膜等； 光掩膜版是由制造商通過光刻制版工藝將電路圖刻制于基板上制作而成，主要作用體...
2024-10-09 標(biāo)簽：光刻 2.1k 0
臺(tái)積電與半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商ASML計(jì)劃采用Nvidia的 "cuLitho "軟件庫來簡化芯片生產(chǎn)的一個(gè)關(guān)鍵部分。
MIT實(shí)現(xiàn)9納米工藝電子束光刻技術(shù)
麻省理工學(xué)院 (MIT)的研究人員表示，已經(jīng)開發(fā)出一種技術(shù)，可望提升在芯片上寫入圖案的高速電子束光刻解析度，甚至可達(dá)9nm，遠(yuǎn)小于原先所預(yù)期的尺寸
ASML產(chǎn)品路線圖曝光，EUV***出貨已超200臺(tái)
euv光刻系統(tǒng)從2014年第一季度到2019年第四季度，nxe:3400c在客戶端使用30 mj/cm2的電力，達(dá)到了約140芯片/小時(shí)的生產(chǎn)效率。nx...
來源：半導(dǎo)體芯科技編譯 投資半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)新的生產(chǎn)設(shè)備 Jenoptik公司計(jì)劃投資數(shù)億歐元，為目前在德累斯頓建設(shè)的高科技工廠建造最先進(jìn)的系統(tǒng)。新型電子...
晶圓廠通常使用光刻膠來圖案化抗蝕刻硬掩模，然后依靠硬掩模來保護(hù)晶圓。但是，如果光刻膠太薄，它可能會(huì)在第一個(gè)轉(zhuǎn)移步驟完成之前被侵蝕掉。隨著光刻膠厚度的減小...
宇微光學(xué)成功研發(fā)計(jì)算光刻EDA軟件
劉世元介紹，光刻是芯片制造中最為關(guān)鍵的一種工藝，通過光刻成像系統(tǒng)，將設(shè)計(jì)好的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上。隨著芯片尺寸不斷縮小，硅片上的曝光圖形會(huì)產(chǎn)生畸變。
2022-11-28 標(biāo)簽：eda光刻產(chǎn)業(yè)鏈 1.9k 0
圣彼得堡彼得大帝理工大學(xué)（SPbPU）的專家表示，他們已經(jīng)成功開發(fā)了兩套用于生產(chǎn)微電子納米結(jié)構(gòu)的裝置，這將有助于解決俄羅斯在微電子領(lǐng)域的技術(shù)主權(quán)問題。這...
一份PPT帶你看懂光刻膠分類、工藝、成分以及光刻膠市場和痛點(diǎn)
共讀好書 前烘對(duì)正膠顯影的影響 前烘對(duì)負(fù)膠膠顯影的影響 需要這個(gè)原報(bào)告的朋友可轉(zhuǎn)發(fā)這篇文章獲取百份資料，內(nèi)含光刻膠多份精品報(bào)告【贈(zèng)2024電子資料百份】...
今天安瑪芯城小編跟大家一起探討關(guān)于國產(chǎn)芯片的一些知識(shí)，2009年，紫光集團(tuán)的資產(chǎn)僅為13億美元。在六年內(nèi)，資產(chǎn)迅速膨脹到1000億。早在2019年，這一...
2023-03-17 標(biāo)簽：芯片光刻紫光集團(tuán) 1.8k 0
Pixelligent新型納米晶材料可擴(kuò)展光刻技術(shù)
據(jù)Pixelligent Technologies LLC表示，該公司開發(fā)出一種據(jù)稱可提高現(xiàn)有光刻設(shè)備分辨率的納米晶（nanocrystalline）材...
ASML表示設(shè)備訂單依然強(qiáng)勁 需求前景暫沒有變化
由于擔(dān)心新型冠狀病毒疫情帶來的不確定性，三星和臺(tái)積電的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商ASML宣布撤回2020年第二季度的業(yè)績預(yù)期。不過，這家生產(chǎn)極紫外線（EUV）光刻...
大家都知道掩膜版主要由基板、遮光層和保護(hù)膜組成，其中基板（主要采用玻璃基材，包括石英 和蘇打兩種材質(zhì)）占直接原材料成本比重達(dá)90%。 那么什么是掩膜版保...
知識(shí)分享---光刻模塊標(biāo)準(zhǔn)步驟
通常，光刻是作為特性良好的模塊的一部分執(zhí)行的，其中包括晶圓表面制備、光刻膠沉積、掩模和晶圓的對(duì)準(zhǔn)、曝光、顯影和適當(dāng)?shù)目刮g劑調(diào)節(jié)。光刻工藝步驟需要按順序進(jìn)...
在未來幾代器件中，去除光刻膠和殘留物變得非常關(guān)鍵。在前端線后離子注入（源極/漏極、擴(kuò)展），使用PR來阻斷部分電路導(dǎo)致PR基本上硬化并且難以去除。在后端線...
重磅：DLP-SLA混合光固化3D打印技術(shù)將商業(yè)化
據(jù)知悉阿姆斯特丹大學(xué)（UVA）已同意將其專利混合立體光刻（SLA）技術(shù)授權(quán)給數(shù)字光處理（DLP）3D打印機(jī)制造商atum3D。這種混合SLA工藝由UVA...
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