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      標(biāo)簽　>　光刻

      光刻

      +關(guān)注7人關(guān)注

      光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個(gè)主要工藝。是對(duì)半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）進(jìn)行開孔，以便進(jìn)行雜質(zhì)的定域擴(kuò)散的一種加工技術(shù)。

      文章：306個(gè) 瀏覽：31376次 帖子：5個(gè)

      光刻資訊

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      2022-06-24 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻 1.8k 0

      使用 3D 納米打印

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      2024-06-17 標(biāo)簽：光刻EUV 1.6k 0

      英特爾欲助力歐洲半導(dǎo)體生產(chǎn)制造份額提升至20%

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      2025-02-19 標(biāo)簽：芯片制造光刻 1.5k 0

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      2023-10-10 標(biāo)簽：晶圓芯片制造光刻 1.4k 0

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        AMS1117系列穩(wěn)壓器有可調(diào)版與多種固定電壓版，設(shè)計(jì)用于提供1A輸出電流且工作壓差可低至1V。在最大輸出電流時(shí)，AMS1117器件的最小壓差保證不超過(guò)1.3V，并隨負(fù)載電流的減小而逐漸降低。
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