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X-FAB發(fā)表低導(dǎo)通電阻700V組件與業(yè)界中最低光刻版數(shù)XU035工藝

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2025-07-09 16:04:330

中低壓MOS管MDD02P60A數(shù)據(jù)手冊

這款60V P溝道MOSFET采用MDD獨(dú)特的器件設(shè)計,實現(xiàn)了導(dǎo)通電阻、快速開關(guān)性能以及優(yōu)異的雪崩特性。? 高密度電池設(shè)計實現(xiàn)極低導(dǎo)通電阻(RDS(ON)) ?? 卓越的導(dǎo)通電阻與最大直流電流承載能力
2025-07-09 15:05:550

中低壓MOS管BSS84數(shù)據(jù)手冊

● 溝槽功率低壓MOSFET技術(shù)● 導(dǎo)通電阻?● 柵極電荷
2025-07-09 15:02:230

高壓MOS管MDD20N50F數(shù)據(jù)手冊

導(dǎo)通電阻?柵極電荷?100%通過UIS測試??符合RoHS標(biāo)準(zhǔn)
2025-07-09 14:51:100

高壓MOS管MDD12N65F/MDD12N65P數(shù)據(jù)手冊

導(dǎo)通電阻柵極電荷100%通過雪崩測試??符合RoHS標(biāo)準(zhǔn)
2025-07-09 14:49:034

高壓MOS管MDD12N60F數(shù)據(jù)手冊

導(dǎo)通電阻柵極電荷?100%通過雪崩測試??符合RoHS標(biāo)準(zhǔn)
2025-07-09 14:47:180

高壓MOS管MDD10N60F數(shù)據(jù)手冊

導(dǎo)通電阻??柵極電荷?100%通過雪崩測試?符合RoHS標(biāo)準(zhǔn)
2025-07-09 14:44:560

高壓MOS管MDD5N50D數(shù)據(jù)手冊

導(dǎo)通電阻柵極電荷?100%用戶界面測試?符合RoHS標(biāo)準(zhǔn)
2025-07-09 14:40:510

高壓MOS管MDD2N60D數(shù)據(jù)手冊

導(dǎo)通電阻 ?柵極電荷100%用戶界面測試符合RoHS標(biāo)準(zhǔn)
2025-07-09 14:29:300

針對晶圓上芯片工藝光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

引言 在晶圓上芯片制造工藝中,光刻膠剝離是承上啟下的關(guān)鍵環(huán)節(jié),其效果直接影響芯片性能與良率。同時,光刻圖形的精確測量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝光刻膠剝離方法,并探討白光
2025-06-25 10:19:48815

金屬蝕刻率光刻膠剝離液組合物應(yīng)用及白光干涉儀在光刻圖形的測量

引言 在半導(dǎo)體及微納制造領(lǐng)域,光刻膠剝離工藝對金屬結(jié)構(gòu)的保護(hù)至關(guān)重要。傳統(tǒng)剝離液易造成金屬過度蝕刻,影響器件性能。同時,光刻圖形的精確測量是保障工藝質(zhì)量的關(guān)鍵。本文將介紹金屬蝕刻率光刻膠剝離液組合
2025-06-24 10:58:22565

UCC28881 700V 最低靜態(tài)電流離線開關(guān)數(shù)據(jù)手冊

該UCC28881將控制器和一個 14 Ω、700V 功率 MOSFET 集成到一個單片器件中。該器件還集成了一個高壓電流源,可以直接從整流的電源電壓啟動和運(yùn)行。UCC28881 是同一
2025-06-20 16:04:27696

5V0.5A非隔離AC-DC方案FT8451H

的動態(tài)響應(yīng), SOP8 封裝,內(nèi)置 700V 高壓功率開關(guān),可靠性高, 具有欠壓鎖定、過壓、過溫、過流、輸出短路保護(hù)等功能, FT8451X是一款高性能、高精度、低成本的非隔離PWM功率開關(guān)。它包含一
2025-06-18 11:02:18

用于 ARRAY 制程工藝銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測量

至關(guān)重要。本文將介紹用于 ARRAY 制程工藝銅腐蝕光刻膠剝離液,并探討白光干涉儀在光刻圖形測量中的應(yīng)用。 用于 ARRAY 制程工藝銅腐蝕光刻膠剝離液 配方設(shè)計 銅腐蝕光刻膠剝離液需兼顧光刻膠溶解能力與銅保護(hù)性能。其主要成分包括有機(jī)溶
2025-06-18 09:56:08693

含量 NMF 光刻膠剝離液和制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

測量對工藝優(yōu)化和產(chǎn)品質(zhì)量控制至關(guān)重要。本文將探討含量 NMF 光刻膠剝離液及其制備方法,并介紹白光干涉儀在光刻圖形測量中的應(yīng)用。 含量 NMF 光刻膠剝離液及制備方法 配方組成 含量 NMF 光刻膠剝離液主要由低濃度 NMF、助溶劑、堿性物質(zhì)、緩蝕劑
2025-06-17 10:01:01678

金屬刻蝕的光刻膠剝離液及其應(yīng)用及白光干涉儀在光刻圖形的測量

引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離是重要工序。傳統(tǒng)剝離液常對金屬層產(chǎn)生過度刻蝕,影響器件性能。同時,光刻圖形的精確測量也是確保制造質(zhì)量的關(guān)鍵。本文聚焦金屬刻蝕的光刻膠剝離液及其應(yīng)用,并
2025-06-16 09:31:51586

減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié),但其可能對器件性能產(chǎn)生負(fù)面影響。同時,光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法,并介紹白光
2025-06-14 09:42:56736

KP85302SGA 700V集成自舉高功率高低側(cè)電機(jī)驅(qū)動芯片 專業(yè)高速風(fēng)筒半橋驅(qū)動IC芯片

工作電壓可達(dá) 700V。高速風(fēng)筒專用電機(jī)驅(qū)動芯片KP85302SGA采用 SOP-8封裝,可以在-40℃至 125℃溫度范圍內(nèi)工作。 一、產(chǎn)品特性: 1.自舉工作的浮地通道 2.最高工作電壓為
2025-06-14 09:08:31

光刻工藝中的顯影技術(shù)

一、光刻工藝概述 光刻工藝是半導(dǎo)體制造的核心技術(shù),通過光刻膠在特殊波長光線或者電子束下發(fā)生化學(xué)變化,再經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕等工藝過程,將設(shè)計在掩膜上的圖形轉(zhuǎn)移到襯底上,是現(xiàn)代半導(dǎo)體、微電子、信息產(chǎn)業(yè)
2025-06-09 15:51:162127

LMR43620-Q1 具有 IQ 的汽車類 3V 至 36V、2A EMI 同步降壓穩(wěn)壓器數(shù)據(jù)手冊

LMR436x0-Q1 是業(yè)界最小的 36V、2A 和 1A 同步降壓直流/直流轉(zhuǎn)換器,采用 2mm × 2mm HotRod 封裝。這款易于使用的轉(zhuǎn)換器支持 3.0V 至 36V 的寬輸入電壓范圍
2025-06-09 11:03:24692

LMR43610-Q1 具有 IQ 的汽車類 3V 至 36V、1A、 EMI 同步降壓穩(wěn)壓器數(shù)據(jù)手冊

LMR436x0-Q1 是業(yè)界最小的 36V、2A 和 1A 同步降壓直流/直流轉(zhuǎn)換器,采用 2mm × 2mm HotRod 封裝。這款易于使用的轉(zhuǎn)換器支持 3.0V 至 36V 的寬輸入電壓范圍
2025-06-08 15:18:29778

MOSFET導(dǎo)通電阻參數(shù)解讀

導(dǎo)通電阻(RDSON)指的是在規(guī)定的測試條件下,使MOSFET處于完全導(dǎo)通狀態(tài)時(工作在線性區(qū)),漏極(D)與源極(S)之間的直流電阻,反映了MOSFET在導(dǎo)通狀態(tài)下對電流通過的阻礙程度。
2025-05-26 15:09:343808

MAX14918, MAX14918A SPI/并聯(lián)控制四通道側(cè)開關(guān),具有反向電流檢測功能技術(shù)手冊

MAX14918 和 MAX14918A 是四個 700mA 側(cè) 用于工業(yè)應(yīng)用的開關(guān)。每個設(shè)備 具有四個 140mΩ(典型值)導(dǎo)通電阻 (R~ON)~ 開關(guān) 內(nèi)置 ±1.2kV/42Ω 浪涌保護(hù)器。2 或 可以并聯(lián)更多輸出,以提供 更高的負(fù)載電流。
2025-05-20 15:45:131556

ADG3241 2.5 V/3.3 V、1位、2端口電平轉(zhuǎn)換器總線開關(guān)技術(shù)手冊

ADG3241是一款2.5 V或3.3 V、單通道數(shù)字開關(guān),采用低壓CMOS工藝制造,具有低功耗、高開關(guān)速度和極低導(dǎo)通電阻特性。輸入可以與輸出相連,而且不會引起額外的傳播延遲或產(chǎn)生額外的接地反彈噪聲。
2025-05-16 14:34:49633

ADG3246 2.5 V/3.3 V、10位、2端口電平轉(zhuǎn)換器總線開關(guān)技術(shù)手冊

ADG3246是一款2.5 V或3.3 V、10位、2端口數(shù)字開關(guān),采用低壓CMOS工藝制造,具有低功耗、高開關(guān)速度和極低導(dǎo)通電阻特性。輸入可以與輸出相連,而且不會引起額外的傳播延遲或產(chǎn)生額外的接地反彈噪聲。
2025-05-16 11:27:38657

ADG3245 2.5 V/3.3 V、8位、2端口電平轉(zhuǎn)換器總線開關(guān)技術(shù)手冊

ADG3245是一款2.5 V或3.3 V、8位、2端口數(shù)字開關(guān),采用低壓CMOS工藝制造,具有低功耗、高開關(guān)速度和極低導(dǎo)通電阻特性。輸入可以與輸出相連,而且不會引起額外的傳播延遲或產(chǎn)生額外的接地反彈噪聲。
2025-05-16 11:22:06793

ADG3242 2.5 V/3.3 V、2位、公共控制電平轉(zhuǎn)換器總線開關(guān)技術(shù)手冊

ADG3242是一款2.5 V或3.3 V、2位、2端口公共控制數(shù)字開關(guān),采用低壓CMOS工藝制造,具有低功耗、高開關(guān)速度和極低導(dǎo)通電阻特性。輸入可以與輸出相連,而且不會引起額外的傳播延遲或產(chǎn)生額外的接地反彈噪聲。
2025-05-16 11:02:16703

ADG3248 2.5 V/3.3 V、2:1多路復(fù)用器/解復(fù)用器總線開關(guān)技術(shù)手冊

ADG3248是一款2.5 V或3.3 V、高性能2:1多路復(fù)用器/解復(fù)用器,采用低壓CMOS工藝制造,具有低功耗、高開關(guān)速度和極低導(dǎo)通電阻特性。導(dǎo)通電阻特性使輸入可以與輸出相連,而且不會引起額外的傳播延遲或產(chǎn)生額外的接地反彈噪聲。
2025-05-16 10:03:30888

TPS22917 5.5V、2A、80mΩ、10nA 漏負(fù)載開關(guān)可調(diào)上升時間和可調(diào)輸出放電數(shù)據(jù)手冊

TPS22917x 器件是一款小型單通道負(fù)載開關(guān),使用泄漏 P 溝道 MOSFET,可實現(xiàn)最小的功率損耗。先進(jìn)的柵極控制設(shè)計支持至 1 V 的工作電壓,導(dǎo)通電阻和功率損耗的增加最小
2025-05-09 17:14:15844

詳談X射線光刻技術(shù)

隨著極紫外光刻(EUV)技術(shù)面臨光源功率和掩模缺陷挑戰(zhàn),X射線光刻技術(shù)憑借其固有優(yōu)勢,在特定領(lǐng)域正形成差異化競爭格局。
2025-05-09 10:08:491369

TPS22995 具有可調(diào)上升時間的 5.5V 3.5A 20mΩ 導(dǎo)通電阻負(fù)載開關(guān)數(shù)據(jù)手冊

TPS22995是一款單通道負(fù)載開關(guān),集成了N-channel MOSFET,具有導(dǎo)通電阻(18 mΩ)和可配置的上升時間,用于限制啟動時的涌入電流。該開關(guān)適用于筆記本電腦、平板電腦、工業(yè)PC及離散工業(yè)解決方案等應(yīng)用。
2025-05-07 17:52:38663

TPS22999 具有有限浪涌電流的 4.5V、1.5A、7.5mΩ 導(dǎo)通電阻快速導(dǎo)通負(fù)載開關(guān)數(shù)據(jù)手冊

TPS22999 是一款單通道負(fù)載開關(guān),旨在實現(xiàn)快速導(dǎo)通時間,同時保持浪涌電流該器件包含一個 N 溝道 MOSFET,可在 0.1 V 至 VBIAS –1.0 V 的輸入電壓范圍內(nèi)工作,并可支持 1.5 A 的最大連續(xù)電流。
2025-05-07 10:00:56536

【KUU重磅發(fā)布】2款100V耐壓雙MOSFET以5mm×6mm和3mm×3mm尺寸及超低導(dǎo)通電阻,助力通信基站高效節(jié)能

隨著通信基站和工業(yè)設(shè)備電源系統(tǒng)向48V升級,高效、節(jié)能的元器件需求日益迫切。KUU憑借先進(jìn)工藝與封裝技術(shù),全新推出2款100V耐壓雙MOSFET,以超低導(dǎo)通電阻和緊湊尺寸,為風(fēng)扇電機(jī)驅(qū)動提供高性能
2025-04-30 18:33:29877

CSD87313DMS 30V、N 通道 NexFET? 功率 MOSFET、雙共漏 SON 3mm x 3mm、5.5mOhm數(shù)據(jù)手冊

CSD87313DMS 是一款 30V 共漏極、雙 N 通道器件,專為 USB Type-C/PD 和電池保護(hù)而設(shè)計。這款 SON 3.3mm × 3.3mm 器件具有源極到源導(dǎo)通電阻,可最大限度地減少損耗,并為空間受限的應(yīng)用提供元件數(shù)量。
2025-04-16 09:55:06835

CSD22206W -8V、P 通道 NexFET? 功率 MOSFET、單通道 WLP 1.5 mm x 1.5 mm、5.7 mOhm、柵極ESD保護(hù)數(shù)據(jù)手冊

這款 –8V、4.7mΩ、1.5mm × 1.5mm 器件旨在以盡可能小的外形提供最低導(dǎo)通電阻和柵極電荷,并在超薄外形中具有出色的熱特性。導(dǎo)通電阻、小尺寸和扁平外形使該器件成為電池供電空間受限應(yīng)用的理想選擇。
2025-04-16 09:32:28634

CSD22205L -8V、P 通道 NexFET? 功率 MOSFET、單個 LGA 1.2 mm x 1.2 mm、9.9 mOhm、柵極ESD保護(hù)數(shù)據(jù)手冊

這款 –8V、8.2mΩ、1.2mm × 1.2mm 基板柵格陣列 (LGA) NexFET? 器件旨在以盡可能小的外形提供最低導(dǎo)通電阻和柵極電荷,并在超扁平中具有出色的熱特性?;鍠鸥耜嚵?(LGA) 封裝是一種硅芯片級封裝,采用金屬焊盤而不是焊球。
2025-04-16 09:18:13614

最全最詳盡的半導(dǎo)體制造技術(shù)資料,涵蓋晶圓工藝到后端封測

第9章 集成電路制造工藝概況 第10章 氧化 第11章 淀積 第12章 金屬化 第13章 光刻:氣相成底膜到軟烘 第14章 光刻:對準(zhǔn)和曝光 第15章 光刻光刻膠顯影和先進(jìn)的光刻技術(shù) 第16章
2025-04-15 13:52:11

光刻工藝的主要流程和關(guān)鍵指標(biāo)

光刻工藝貫穿整個芯片制造流程的多次重復(fù)轉(zhuǎn)印環(huán)節(jié),對于集成電路的微縮化和高性能起著決定性作用。隨著半導(dǎo)體制造工藝演進(jìn),對光刻分辨率、套準(zhǔn)精度和可靠性的要求持續(xù)攀升,光刻技術(shù)也將不斷演化,支持更為先進(jìn)的制程與更復(fù)雜的器件設(shè)計。
2025-03-27 09:21:333273

激光焊接技術(shù)在焊接血糖儀組件工藝應(yīng)用

在醫(yī)療科技領(lǐng)域,血糖儀作為一種重要的便攜式醫(yī)療檢測設(shè)備,其準(zhǔn)確性和可靠性直接關(guān)系到患者的健康監(jiān)測效果。而在血糖儀的生產(chǎn)過程中,焊接工藝是確保組件之間穩(wěn)固連接、實現(xiàn)電氣導(dǎo)通的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。下面來看看激光
2025-03-19 14:18:23525

ROHM推出超低導(dǎo)通電阻和超寬SOA范圍的Nch功率MOSFET

全球知名半導(dǎo)體制造商ROHM(總部位于日本京都市)面向企業(yè)級高性能服務(wù)器和AI服務(wù)器電源,開發(fā)出實現(xiàn)了業(yè)界超低導(dǎo)通電阻*1和超寬SOA范圍*2的Nch功率MOSFET*3。
2025-03-13 15:08:041206

導(dǎo)科技OVP IC產(chǎn)品的應(yīng)用案例

近期,充電頭網(wǎng)拆解了機(jī)械師G6Pro游戲手柄,該款產(chǎn)品使用的過壓保護(hù)芯片來自Prisemi芯導(dǎo)科技,型號P14C13,是一顆高集成的過壓保護(hù)芯片,過壓保護(hù)點(diǎn)為6V,耐壓為32V,內(nèi)置MOS管導(dǎo)通電阻為250mΩ,采用SOT23封裝。
2025-02-19 14:30:371091

惠斯通電橋的電阻測量方法

惠斯通電橋是一種能準(zhǔn)確方便地測量直流電阻的儀器,其電阻測量方法主要基于電橋平衡的原理。以下是惠斯通電橋測量電阻的詳細(xì)步驟: 一、準(zhǔn)備階段 選擇合適的儀器 :確保自組電橋電路板、檢流計、電阻箱(如
2025-02-13 15:11:193532

導(dǎo)通電阻驟降21%!Wolfspeed第4代SiC技術(shù)平臺解析

,Wolfspeed第4代技術(shù)專為簡化大功率設(shè)計中常見的開關(guān)行為和設(shè)計挑戰(zhàn)而設(shè)計,并為 Wolfspeed 的各類產(chǎn)品(包括功率模塊、分立元件和裸芯片產(chǎn)品)制定了長遠(yuǎn)的發(fā)展規(guī)劃路線圖。 ? 導(dǎo)通電阻大幅下降,開關(guān)損耗降低,安全冗余更高 ? Wolfspeed的第4代SiC MOSFET技術(shù)主要的提升在于三個部分,首
2025-02-13 00:21:001523

PDTD143XU NPN電阻晶體管規(guī)格書

電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《PDTD143XU NPN電阻晶體管規(guī)格書.pdf》資料免費(fèi)下載
2025-02-10 14:00:000

PDTB143XU PNP電阻晶體管規(guī)格書

電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《PDTB143XU PNP電阻晶體管規(guī)格書.pdf》資料免費(fèi)下載
2025-02-08 18:10:030

導(dǎo)通電阻僅為3?!納祥科技NX899單刀雙擲開關(guān)助力高效能設(shè)備

NX899是一款先進(jìn)的CMOS模擬開關(guān),它采用硅柵CMOS技術(shù)制造,在保持CMOS低功耗的同時,實現(xiàn)了非常的傳播延遲和導(dǎo)通電阻,模擬電壓和數(shù)字電壓可能在整個供電范圍內(nèi)(從VCC到GND)有所不同。 在性能上,NX899能國產(chǎn)替代SN74LVC1G3157、SGM3157。
2025-02-05 17:26:121123

芯片制造:光刻工藝原理與流程

光刻是芯片制造過程中至關(guān)重要的一步,它定義了芯片上的各種微細(xì)圖案,并且要求極高的精度。以下是光刻過程的詳細(xì)介紹,包括原理和具體步驟。?? 光刻原理?????? 光刻的核心工具包括光掩膜、光刻
2025-01-28 16:36:003583

精密電阻器與普通電阻器的區(qū)別

電阻器是電子電路中最基本的元件之一,用于限制或調(diào)節(jié)電流的流動。根據(jù)其精度和應(yīng)用場景的不同,電阻器可以分為精密電阻器和普通電阻器。 1. 定義與分類 精密電阻器 是指那些具有高穩(wěn)定性、高精度和低溫
2025-01-24 16:17:031676

BSC035N04LS G-VB一款Single-N溝道DFN8(5X6)的MOSFET晶體管參數(shù)介紹與應(yīng)用說明

### 產(chǎn)品簡介BSC035N04LS G-VB 是一款高性能 N-Channel MOSFET,封裝為 DFN8(5x6)。它提供優(yōu)異的電流承載能力和導(dǎo)通電阻,適合于高效率電源管理和電流控制
2025-01-08 15:58:54

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