電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/黃山明）芯片，一直被譽(yù)為 人類智慧、工程協(xié)作與精密制造的集大成者 ，而制造芯片的重要設(shè)備光刻機(jī)就是 雕刻這個結(jié)晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機(jī)還不夠，還需要光刻膠、掩膜版以及
2025-10-28 08:53:35
6234 ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/吳子鵬）?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中，光刻機(jī)被譽(yù)為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片制造的核心。長期以來，荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
2025-10-04 03:18:009691 
7月16日，全球三大光刻巨頭之一的日本尼康公司宣布，正式推出全球首款專為半導(dǎo)體后道工藝設(shè)計(jì)的無掩模光刻系統(tǒng)——DSP-100，這款設(shè)備為先進(jìn)封裝量身定制，可以容納600mm大基板，并提供1.0μm
2025-07-24 09:29:397824 
根據(jù)中國政府采購網(wǎng)公示，上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司中標(biāo) zycgr22011903 采購步進(jìn)掃描式光刻機(jī)項(xiàng)目，設(shè)備數(shù)量為一臺，貨物型號為 SSC800/10，成交金額 1.1 億元
2025-12-26 08:35:004288 
在7納米、3納米等先進(jìn)芯片制造中，光刻機(jī)0.1納米級的曝光精度離不開高精度石英壓力傳感器的支撐，其作為“隱形功臣”，是保障工藝穩(wěn)定、設(shè)備安全與產(chǎn)品良率的核心部件。本文聚焦石英壓力傳感器在光刻機(jī)中
2025-12-12 13:02:26424 近日，摩爾線程正式發(fā)布PyTorch深度學(xué)習(xí)框架的MUSA擴(kuò)展庫——Torch-MUSA v2.7.0，新版本在功能集成、性能優(yōu)化與硬件支持方面實(shí)現(xiàn)進(jìn)一步突破。Torch-MUSA在短短一
2025-12-04 09:05:27930 （上位機(jī)）下載編程軟件的版本，平時就下載軟件測試用，也都兼容目前團(tuán)隊(duì)使用到的芯片。
是否用最新版本因?yàn)槲曳窒砉娞杻?nèi)容，平時都比較關(guān)注嵌入式常用的一些軟件，特別是看到有新版本，都會留意更新了些什么內(nèi)容
2025-11-25 06:11:37
1、從Segger公司官網(wǎng)下載安裝最新版本JLink驅(qū)動，比如V7.96a，安裝目錄下沒有JLinkDevices.xml文件。
2、在C:Users<用戶名>
2025-11-12 07:24:54
隨著FSP庫版本更新到5.2.0，在開發(fā)過程中就會發(fā)現(xiàn)4.0.0版本的串口重定義并不適用于最新版本。繼續(xù)使用原來的重定向代碼時，編譯器就會報(bào)錯。根據(jù)報(bào)錯的信息發(fā)現(xiàn)，缺少了幾個函數(shù)的定義，這里補(bǔ)全定義即可。
2025-10-31 15:28:563859 
能力及每秒 110 千兆像素的數(shù)據(jù)傳輸速率 ，在滿足日益復(fù)雜的封裝工藝對可擴(kuò)展性、成本效益和精度要求的同時，消除對昂貴掩模技術(shù)的依賴。 ? TI DLP 技術(shù)造就高級封裝領(lǐng)域的無掩模數(shù)字光刻系統(tǒng) 關(guān)鍵所在 無掩模數(shù)字光刻機(jī)正廣泛應(yīng)用于高級封裝制造領(lǐng)域，這類光刻機(jī)無需光
2025-10-20 09:55:15887 RT-Trace迎來又一次重要更新！本次新版本帶來了兩項(xiàng)備受期待的功能——ITM輸出與MemoryWatch內(nèi)存監(jiān)控，讓調(diào)試可視化更高效、問題定位更精準(zhǔn)。為幫助開發(fā)者快速上手新特性
2025-10-14 11:57:48441 
近日，深圳穩(wěn)頂聚芯技術(shù)有限公司（簡稱“穩(wěn)頂聚芯”）宣布，其自主研發(fā)的首臺國產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)已成功出廠，標(biāo)志著我國在半導(dǎo)體核心裝備領(lǐng)域取得新進(jìn)展。 此次穩(wěn)頂聚芯出廠的步進(jìn)式光刻機(jī)屬于WS180i
2025-10-10 17:36:33929 最新版源碼 qemu-vexpress-a9編譯不過了。提示RT_PAGE_AFFINITY_BLOCK_SIZE 未定義
2025-09-24 07:20:31
EUV（極紫外）光刻技術(shù)憑借 13.5nm 的短波長，成為 7nm 及以下節(jié)點(diǎn)集成電路制造的核心工藝，其光刻后形成的三維圖形（如鰭片、柵極、接觸孔等）尺寸通常在 5-50nm 范圍，高度 50-500nm。
2025-09-20 09:16:09592 確定 12 英寸集成電路新建項(xiàng)目中光刻機(jī)、刻蝕機(jī)等核心設(shè)備的防震基座類型與數(shù)量，需遵循 “設(shè)備需求為核心、環(huán)境評估為基礎(chǔ)、合規(guī)性為前提” 的原則，分步驟結(jié)合設(shè)備特性、廠房條件、工藝要求綜合判斷，具體流程與關(guān)鍵考量如下：
2025-09-18 11:24:23915 
%。至少將GAA納米片提升幾個工藝節(jié)點(diǎn)。
2、晶背供電技術(shù)
3、EUV光刻機(jī)與其他競爭技術(shù)
光刻技術(shù)是制造3nm、5nm等工藝節(jié)點(diǎn)的高端半導(dǎo)體芯片的關(guān)鍵技術(shù)。是將設(shè)計(jì)好的芯片版圖圖形轉(zhuǎn)移到硅晶圓上的一種精細(xì)
2025-09-15 14:50:58
，我們深表歉意，也衷心感謝您的理解與配合！
我們強(qiáng)烈建議您 盡快更新至最新版本V4.7 ，以享受更穩(wěn)定、更高效、功能更強(qiáng)大的華秋DFM軟件。最新版本不僅在性能和兼容性方面有大幅提升，還新增
2025-09-05 13:45:15
這一突破的核心力量。 ? 然而，EUV光刻的廣泛應(yīng)用并非坦途，其光源本身存在反射損耗大、亮度低等固有缺陷，這對配套的光刻膠材料提出了前所未有的嚴(yán)苛要求——不僅需要具備高效的EUV吸收能力，還要在反應(yīng)機(jī)制的穩(wěn)定性、缺陷控制的精準(zhǔn)度等方面實(shí)
2025-08-17 00:03:004220 澤攸科技ZEL304G電子束光刻機(jī)（EBL）是一款高性能、高精度的光刻設(shè)備，專為半導(dǎo)體晶圓的高速、高分辨率光刻需求設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)采用先進(jìn)的場發(fā)射電子槍，結(jié)合一體化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng)，確保光刻質(zhì)量優(yōu)異且
2025-08-15 15:14:01
澤攸科技ZML10A是一款創(chuàng)新的桌面級無掩膜光刻設(shè)備，專為高效、精準(zhǔn)的微納加工需求設(shè)計(jì)。該設(shè)備采用高功率、高均勻度的LED光源，并結(jié)合先進(jìn)的DLP技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了黃光或綠光引導(dǎo)曝光功能，真正做到
2025-08-15 15:11:55
全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)問世，精度比肩國際主流 ? 近日，全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研發(fā)并進(jìn)入應(yīng)用測試階段。該設(shè)備精度達(dá)到0.6nm，線寬
2025-08-15 10:15:172937 
電子束光刻（EBL）是一種無需掩模的直接寫入式光刻技術(shù)，其工作原理是通過聚焦電子束在電子敏感光刻膠表面進(jìn)行納米級圖案直寫。
2025-08-14 10:07:212555 
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道，近日，上海芯上微裝科技股份有限公司（簡稱：芯上微裝，英文簡稱：AMIES）第500臺步進(jìn)光刻機(jī)成功交付，并舉辦了第500臺 步進(jìn)光刻機(jī) 交付儀式。 ? ? 光刻是半導(dǎo)體器件
2025-08-13 09:41:341989 
? ? 時隔21年，佳能再開新光刻機(jī)工廠 ? 日前，據(jù)《日本經(jīng)濟(jì)新聞》報(bào)道，佳能在當(dāng)?shù)?b class="flag-6" style="color: red">一家位于栃木縣宇都宮市的半導(dǎo)體光刻設(shè)備工廠舉行開業(yè)儀式，這也是佳能時隔21年開設(shè)的首家新光刻機(jī)廠。佳能宇都宮工廠
2025-08-05 10:23:382174 7 月 31 日消息，據(jù)《日經(jīng)新聞》報(bào)道，日本相機(jī)、打印機(jī)、光刻機(jī)大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機(jī)制造工廠將于 9 月正式投入量產(chǎn)，主攻成熟制程及后段封裝應(yīng)用設(shè)備，為全球芯片封裝
2025-08-04 17:39:28712 極紫外光刻（EUVL）技術(shù)作為實(shí)現(xiàn)先進(jìn)工藝制程的關(guān)鍵路徑，在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域占據(jù)著舉足輕重的地位。當(dāng)前，LPP-EUV 光源是極紫外光刻機(jī)所采用的主流光源，其工作原理是利用波長為 10.6um 的紅外
2025-07-22 17:20:36956 
光刻機(jī)的成功搬入，意味著產(chǎn)線正式進(jìn)入設(shè)備安裝調(diào)試階段，距離8月底通線試產(chǎn)、第四季度產(chǎn)能爬坡并交付客戶的既定目標(biāo)指日可待。這一目標(biāo)的實(shí)現(xiàn)，將實(shí)現(xiàn)各類MEMS半導(dǎo)體傳感器產(chǎn)品從研發(fā)到量產(chǎn)的無縫銜接，對重慶乃至整個集成電路行業(yè)都具
2025-07-17 16:33:121559 
自 2005 年發(fā)布以來，VA One 已廣泛應(yīng)用于汽車、航空航天、船舶等多個行業(yè)領(lǐng)域。VA One 開發(fā)團(tuán)隊(duì)每年都會對軟件進(jìn)行功能迭代與優(yōu)化，目前最新版本為 VA One 2024。與以往版本
2025-07-14 16:09:201256 
? Silicon Labs（芯科科技）在2025年第二季度發(fā)布了Simplicity Studio軟件開發(fā)工具的最新版本— SiSDK 2025.6.0。此次更新在無線協(xié)議棧、通信協(xié)議及開發(fā)工具
2025-07-02 15:39:222151 1、從Segger公司官網(wǎng)下載安裝最新版本JLink驅(qū)動，比如V7.96a，安裝目錄下沒有JLinkDevices.xml文件。 2、在C:Users AppDataRoamingSEGGER目錄
2025-07-01 15:05:21541 
的應(yīng)用。 改善光刻圖形線寬變化的方法 優(yōu)化曝光工藝參數(shù) 曝光是決定光刻圖形線寬的關(guān)鍵步驟。精確控制曝光劑量，可避免因曝光過度導(dǎo)致光刻膠過度反應(yīng)，使線寬變寬；或曝光不足造成線寬變窄。采用先進(jìn)的曝光設(shè)備，如極紫外（EUV）光刻機(jī)
2025-06-30 15:24:55740 
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道，日前，ASML 技術(shù)高級副總裁 Jos Benschop 表示，ASML 已攜手光學(xué)組件獨(dú)家合作伙伴蔡司，啟動了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機(jī)開發(fā)。這一舉措標(biāo)志著
2025-06-29 06:39:001916 更加流暢、高效的操作體驗(yàn)。01開鴻BotBookV4.1.2.77版本應(yīng)用市場升級，豐富應(yīng)用生態(tài)V4.1.2.77版本對開鴻應(yīng)用市場進(jìn)行了深度優(yōu)化，進(jìn)一步提升用戶
2025-06-27 20:52:12985 
近日，兆松科技（武漢）有限公司（以下簡稱“兆松科技”）宣布正式發(fā)布高性能 RISC-V 編譯器 ZCC 4.0.0 版本。新版本在性能優(yōu)化、廠商自定義指令支持和軟件庫等方面實(shí)現(xiàn)全面升級，并同步推出
2025-06-27 14:48:142442 
無縫運(yùn)行的異常檢測，一站式監(jiān)控多達(dá)150個系統(tǒng)，額外的MFA多重身份驗(yàn)證Dell PowerProtect Data Manager19.19全新版本現(xiàn)已到來！
2025-06-27 13:55:40798 CYW20721B2 庫的新版本已經(jīng)發(fā)布，版本 v4.7.0，但它并未修復(fù)睡眠問題。 因此我被迫使用版本 v4.2.1，但當(dāng) HCI 傳輸未連接時，此版本似乎會出現(xiàn) PUART 端口問題，這是我
2025-06-26 07:11:34
全新 AMD Vitis 統(tǒng)一軟件平臺 2025.1 版正式上線！此最新版本為使用 AMD Versal AI 引擎的高性能 DSP 應(yīng)用提供了改進(jìn)后的設(shè)計(jì)環(huán)境。
2025-06-24 11:44:561590 為滿足汽車電子開發(fā)領(lǐng)域日益增長的測試與仿真需求，TSMaster最新版本聚焦實(shí)車數(shù)據(jù)采集、MBD智能建模與新API擴(kuò)展三大核心功能。無論您是進(jìn)行車載網(wǎng)絡(luò)測試、ECU開發(fā)還是自動化驗(yàn)證，新版本都能
2025-06-21 20:04:101203 
在 MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）制造領(lǐng)域，光刻工藝是決定版圖中的圖案能否精確 “印刷” 到硅片上的核心環(huán)節(jié)。光刻 Overlay（套刻精度），則是衡量光刻機(jī)將不同層設(shè)計(jì)圖案對準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。光刻 Overlay 指的是芯片制造過程中，前后兩次光刻工藝形成的電路圖案之間的對準(zhǔn)精度。
2025-06-18 11:30:491557 
一、產(chǎn)品概述全自動Mask掩膜板清洗機(jī)是半導(dǎo)體光刻工藝中用于清潔光罩（Reticle/Mask）表面的核心設(shè)備，主要去除光刻膠殘留、顆粒污染、金屬有機(jī)物沉積及蝕刻副產(chǎn)物。其技術(shù)覆蓋濕法化學(xué)清洗、兆
2025-06-17 11:06:03
新版本持續(xù)助力當(dāng)前車輛E/E架構(gòu)中ECU開發(fā)驗(yàn)證，同時賦能后續(xù)智能網(wǎng)聯(lián)電動車型預(yù)研驗(yàn)證。新版本CANoe產(chǎn)品體系新增數(shù)據(jù)驅(qū)動的DDS、車輛互聯(lián)服務(wù)和高效電機(jī)模型庫，進(jìn)一步支持CANXL
2025-06-11 10:03:432691 
的 GitHub issue，可能已經(jīng)有解決方案或臨時解決辦法。 2. 更新依賴 ： 檢查是否有該包的更新版本，更新可能已經(jīng)修復(fù)了這個問題。 使用 npm update package-name 或 pnpm
2025-06-10 11:31:49350 我們目睹了開發(fā)者使用 Gemini 2.5 Pro 取得了令人贊嘆的成就。因此，我們決定提前數(shù)周發(fā)布更新版本，以便開發(fā)者盡早體驗(yàn)新版模型。
2025-06-10 10:43:381068 等。
AG32 的管腳可以靈活定義，引腳與STM32。并且內(nèi)置2KLE FPGA， 非常適合MCU + FPGA/CPLD的應(yīng)用場景。
AG32 SDK 最新版本V1.7.7 ：實(shí)現(xiàn)構(gòu)建自動化功能
2025-06-05 14:41:28
新版本持續(xù)助力當(dāng)前車輛E/E架構(gòu)中ECU開發(fā)驗(yàn)證，同時賦能后續(xù)智能網(wǎng)聯(lián)電動車型預(yù)研驗(yàn)證。
2025-05-29 14:03:292679 
上節(jié)中講到U-Boot是BootLoader的一種，U-Boot全稱為Universal Boot Loader，即通用的BootLoader，所謂通用就是指它適用于多種嵌入式平臺，包括不同CPU
2025-05-22 10:44:49
您好，支持，
我對 CCG 系列的 PD 版本有疑問。
PD3.2是USBPD的最新版本，需要使用最新的PD版本才能通過最新的合規(guī)性測試。
哪些 CCG 產(chǎn)品系列計(jì)劃支持 PD3.2？
2025-05-15 07:43:37
在日前舉辦的第八屆數(shù)字中國建設(shè)峰會期間，麒麟軟件正式推出銀河麒麟桌面操作系統(tǒng)V10 SP1 版本，新版操作系統(tǒng)加入全新AI功能，支持兆芯開先KX-7000、KX-6000G、KX-6000等全系列
2025-05-10 13:53:402019 隨著極紫外光刻（EUV）技術(shù)面臨光源功率和掩模缺陷挑戰(zhàn)，X射線光刻技術(shù)憑借其固有優(yōu)勢，在特定領(lǐng)域正形成差異化競爭格局。
2025-05-09 10:08:491373 
GUI Guider迎來了全新版本！這一次，我們帶來了多項(xiàng)重磅更新，旨在為大家提供更強(qiáng)大、更便捷的開發(fā)體驗(yàn)。無論你是工業(yè)控制、智能家居，還是消費(fèi)電子領(lǐng)域的開發(fā)者，這些更新都將為你的項(xiàng)目注入新的活力
2025-05-09 08:48:212602 
。眾所周知，DebianLinux采用兩年發(fā)布周期——每逢奇數(shù)年便會推出一個新的主要版本。而今年是2025年，接下來幾個月內(nèi)將推出Debian“trixie”新版本。
2025-05-08 15:33:271484 
出現(xiàn)誤差。傳統(tǒng)聚焦手段已不能滿足電子直寫光刻機(jī)對電子束質(zhì)量的要求。
只有對聚焦電極改進(jìn)才是最佳選擇，以下介紹該進(jìn)后的電極工作原理。通過把電子束壓縮到中心線達(dá)到縮束的目的，使電子束分布在一條直線
2025-05-07 06:03:45
光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件可以將gds格式或者gerber格式等半導(dǎo)體通用格式的圖紙轉(zhuǎn)換成如bmp或者tiff格式進(jìn)行掩模版加工制造，在掩膜加工領(lǐng)域或者無掩膜光刻領(lǐng)域不可或缺，在業(yè)內(nèi)也被稱為矢量圖形光柵化軟件
2025-05-02 12:42:10
“ ?這是一位荷蘭學(xué)者對于開源與商業(yè)科技公司的思考。 ? ” ? 現(xiàn)在，我們越來越擔(dān)心 “大型科技公司” 的主導(dǎo)地位，開源技術(shù)作為一種替代技術(shù)經(jīng)常被提及，尤其是現(xiàn)在我們的政府似乎正在向微軟進(jìn)行全面
2025-04-30 16:49:28557 小滿EasyXMen V25.04新版本代碼正式上線。開源小滿社區(qū)共建單位代表與生態(tài)伙伴共同見證開源車用操作系統(tǒng)又一里程碑時刻。
2025-04-30 09:17:13870 近日，普華基礎(chǔ)軟件開源車用操作系統(tǒng)媒體發(fā)布會在上海中國汽車會客廳召開——全球首個開源智能駕駛操作系統(tǒng)微內(nèi)核龘EasyAda、開源安全車控操作系統(tǒng)小滿EasyXMen全新版本正式發(fā)布?，F(xiàn)場，普華基礎(chǔ)軟件開源項(xiàng)目技術(shù)團(tuán)隊(duì)專家就開源項(xiàng)目新版本技術(shù)亮點(diǎn)、新增功能及社區(qū)治理與運(yùn)營等進(jìn)行詳細(xì)解讀。
2025-04-25 16:18:53857 網(wǎng)絡(luò)傳輸利器NXL-ME80，憑借著高畫質(zhì)、高壓縮比、低延時、高密度輕巧機(jī)箱，高冗余能力，一經(jīng)上市就收到全球客戶的大量好評?；谟脩舴答伜褪袌鲂枨?，NXL-ME80新版本V1.2強(qiáng)勢來襲，必將為使用者帶來更好的體驗(yàn)。
2025-04-23 14:37:43967 
2025年美國特朗普政府的“對等關(guān)稅”影響究竟有多大？未來還不確定，只有等待時間的檢驗(yàn)。這里我們看到已經(jīng)有很多的科技巨頭受損嚴(yán)重，比如蘋果公司、光刻機(jī)巨頭阿斯麥ASML、英偉達(dá)等。但是業(yè)界多認(rèn)為目前
2025-04-17 10:31:121075 為提升汽車SOA架構(gòu)設(shè)計(jì)開發(fā)效率，優(yōu)化用戶體驗(yàn)，我們對PAVELINK.SOA-Converter進(jìn)行了全新升級。本次2.1.2新版本升級，聚焦于提升軟件性能、擴(kuò)展功能特性及增強(qiáng)用戶交互體驗(yàn)。
2025-04-09 10:37:241342 
進(jìn)制程領(lǐng)域，曝光波長逐漸縮短至13.5nm，光刻技術(shù)逐步完善成熟。2024年光刻機(jī)市場的規(guī)模為230億美元。2025年光刻機(jī)市場的規(guī)模預(yù)計(jì)為252億美元。 【光刻機(jī)的發(fā)展機(jī)會主要體現(xiàn)在以下四方面】 一、技術(shù)突破與市場競爭 中科院成功研發(fā)了突破性的固態(tài)深
2025-04-07 09:24:271240 我正在嘗試構(gòu)建 libopencv-aruco，它通常附帶新版本的 OpenCV。當(dāng)我運(yùn)行 bld -c opencv 時，我沒有看到正在構(gòu)建此庫。
誰能提供一些關(guān)于如何使用 flex-builder 構(gòu)建 aruco 庫的指導(dǎo)？
2025-03-31 06:13:10
TSMC，中芯國際SMIC 組成:核心:生產(chǎn)線，服務(wù):技術(shù)部門，生產(chǎn)管理部門，動力站（雙路保障），廢水處理站(環(huán)保，循環(huán)利用)等。生產(chǎn)線主要設(shè)備: 外延爐，薄膜設(shè)備，光刻機(jī)，蝕刻機(jī)，離子注入機(jī)，擴(kuò)散爐
2025-03-27 16:38:20
當(dāng)我使用 Mickledore 生成 BSP 時，moal.ko WIFI 驅(qū)動程序是自動構(gòu)建的，并且位于 /lib/modules/ 中，并且 WIFI 可以正常工作。
當(dāng)我移動到最新版本
2025-03-27 06:49:05
為設(shè)計(jì)一種低成本、抗干擾、穩(wěn)定可靠的 AGV，提出一種基于磁帶導(dǎo)航的 AGV 系統(tǒng)。采用 Megawin 公司的80C51單片機(jī)為控制核心，以并排對稱設(shè)計(jì)的霍爾傳感器實(shí)現(xiàn)循跡和糾偏，紅外光
2025-03-25 15:10:23
在科技日新月異的今天，芯片作為數(shù)字時代的“心臟”，其制造過程復(fù)雜而精密，涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造，人們往往首先想到的是光刻機(jī)這一高端設(shè)備，但實(shí)際上，芯片的成功制造遠(yuǎn)不止依賴光刻機(jī)這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關(guān)鍵工藝，揭示這些工藝如何協(xié)同工作，共同鑄就了現(xiàn)代芯片的輝煌。
2025-03-24 11:27:423168 
劑量的需求也加劇，從而造成了生產(chǎn)力的瓶頸。DSA技術(shù)：一種革命性的方法DSA技術(shù)通過利用嵌段共聚物的分子行為來解決EUV光刻面臨的挑戰(zhàn)。嵌段共聚物由兩個或多個化學(xué)性
2025-03-19 11:10:061259 
最新版本Version 1.7.0
1、加入dsp例程
加入dsp例程以及 DSP軟件庫 。
2、加入Slave SPI例程
加入用邏輯實(shí)現(xiàn)的Slave SPI例程spi/slave_spi ，提供
2025-03-17 10:04:11
有的文件在新版本上報(bào)錯怎么辦？要裝兩個版本一起用？
2025-03-10 07:05:44
win7 64位系統(tǒng) STM32CubeMX安裝完成后數(shù)據(jù)包無法安裝，安裝較低版本后又無法升級到最新版本，這個界面出現(xiàn)閃退，無法輸入用戶名和密碼，導(dǎo)致無法升級。也試過下載STM32Cube FW
2025-03-10 07:04:58
備受期待的TSMaster202502最新版終于來了！在本月更新中，我們?yōu)橛脩魩砹顺嗳鹿δ?，旨在進(jìn)一步提升軟件的性能、靈活性與用戶體驗(yàn)。接下來，我們將為您詳細(xì)介紹本次更新的亮點(diǎn)內(nèi)容，幫助
2025-03-07 20:03:061223 日前，特斯拉在中國市場推送了最新版本的FSD(Full Self-Driving)系統(tǒng)，這一事件再次引發(fā)行業(yè)對自動駕駛技術(shù)發(fā)展路徑的討論。
2025-03-03 15:20:161053 電子系統(tǒng)設(shè)計(jì)領(lǐng)域迎來重要革新：西門子 EDA 下一代電子系統(tǒng)設(shè)計(jì)平臺 Xpedition 2409 與 HyperLynx 2409 新版本正式發(fā)布，持續(xù)升級全系列解決方案，助力工程師實(shí)現(xiàn)效率躍升。
2025-02-27 16:06:001028 新版本不支持老芯片，求老版本，支持CS32G020的
452392696@qq.com
2025-02-24 09:54:38
和固體產(chǎn)品 Ludovic 軟件從 7.2.4 版本開始，其界面能清晰顯示螺桿上產(chǎn)品處于固態(tài)的部分以及產(chǎn)品處于熔化狀態(tài)的部分，如下圖所示，一條黑色豎線標(biāo)明了熔點(diǎn)的位置。 圖 1? ?固態(tài)和熔融狀態(tài)分離
2025-02-19 09:24:401214 
? EUV光刻有多強(qiáng)？目前來看，沒有EUV光刻，業(yè)界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機(jī)也是歷史上最復(fù)雜、最昂貴的機(jī)器之一。 EUV光刻有哪些瓶頸？ EUV光刻技術(shù)，存在很多難點(diǎn)。 1.1
2025-02-18 09:31:242257 
在芯片制造的復(fù)雜流程中，光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度)，則是衡量光刻機(jī)將不同層電路圖案對準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。簡單來說，它就像建造摩天大樓
2025-02-17 14:09:254467 
，生產(chǎn)設(shè)備對穩(wěn)定性的要求近乎苛刻。光刻機(jī)、刻蝕機(jī)等設(shè)備在工作時，需保持極高的精度。以極紫外光刻機(jī)（EUV）為例，它在進(jìn)行納米級光刻時，任何微小的位移或變形都可能導(dǎo)致
2025-02-17 09:52:061192 
IDEA 需要加載和同步項(xiàng)目、執(zhí)行索引編制以及完成許多其他小任務(wù)才能啟用所有實(shí)用功能。在這篇博文中，我們將介紹在新版本 IntelliJ IDEA 中為提高性能而采取的
2025-02-12 15:58:26766 
據(jù)國外媒體報(bào)道，美國勞倫斯利弗莫爾國家實(shí)驗(yàn)室(LLNL)正在研發(fā)一種基于銩元素的拍瓦(petawatt)級激光技術(shù)，該技術(shù)有望取代當(dāng)前極紫外光刻(EUV)工具中使用的二氧化碳激光器，并將光源效率提升
2025-02-10 06:22:16731 
新年伊始，GUI Guider也迎來了全新版本！這一次，我們帶來了多項(xiàng)重磅更新，旨在為你提供更強(qiáng)大、更便捷的開發(fā)體驗(yàn)。無論你是工業(yè)控制、智能家居，還是消費(fèi)電子領(lǐng)域的開發(fā)者，這些更新都將為你的項(xiàng)目注入新的活力！
2025-02-07 10:43:314723 光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)
2025-02-06 09:38:031029 
半導(dǎo)體設(shè)備光刻機(jī)防震基座的安裝涉及多個關(guān)鍵步驟和考慮因素，以確保光刻機(jī)的穩(wěn)定運(yùn)行和產(chǎn)品質(zhì)量。首先，選擇合適的防震基座需要考慮適應(yīng)工作環(huán)境。由于半導(dǎo)體設(shè)備通常在潔凈的環(huán)境下運(yùn)行，因此選擇的搬運(yùn)工具如
2025-02-05 16:48:451240 和光刻膠： ? 光掩膜：如同芯片的藍(lán)圖，上面印有每一層結(jié)構(gòu)的圖案。 ? ? ?光刻機(jī)：像一把精確的畫筆，能夠引導(dǎo)光線在光刻膠上刻畫出圖案。 ? 光刻膠：一種特殊的感光材料，通過光刻過程在光刻膠上形成圖案，進(jìn)而構(gòu)建出三維結(jié)構(gòu)。
2025-01-28 16:36:003591 
新版本 IntelliJ IDEA 中為提高性能而采取的措施，這些措施縮短了代碼可交互時間并使 IDE 從啟動開始就具有更高的響應(yīng)速度。
2025-01-24 13:49:48836 
數(shù)值孔徑 EUV 光刻中的微型化挑戰(zhàn) 晶體管不斷小型化，縮小至 3 納米及以下，這需要完美的執(zhí)行和制造。在整個 21 世紀(jì)，這種令人難以置信的縮小趨勢（從 90 納米到 7 納米及更?。╅_創(chuàng)了技術(shù)進(jìn)步的新時代。 在過去十年中，我們見證了將50
2025-01-22 14:06:531153 
本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ? 如上圖是某型號的光刻機(jī)配置，每代光刻機(jī)的NA值會比上一代更大一些。NA，又名
2025-01-20 09:44:182475 
不同類型的集成電路設(shè)備對防震基座的要求有何差異？-江蘇泊蘇系統(tǒng)集成有限公司1，光刻機(jī)（1）精度要求極高：光刻機(jī)是集成電路制造的核心設(shè)備，用于將電路圖案精確地轉(zhuǎn)移到硅片上，其精度可達(dá)到納米級別。對于
2025-01-17 15:16:541221 
近日，飛利浦已將其位于荷蘭埃因霍溫的 MEMS 晶圓廠和代工廠出售給一個荷蘭投資者財(cái)團(tuán)，交易金額不詳。該代工廠為 ASML 光刻機(jī)等公司提供產(chǎn)品，并已更名為 Xiver。 該 MEMS 代工廠已被
2025-01-16 18:29:172616 本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類，光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片光刻機(jī)和面板光刻機(jī)。面板光刻機(jī)的工作原理和芯片光刻機(jī)相似
2025-01-16 09:29:456359 
1月5日消息，美國勞倫斯利弗莫爾國家實(shí)驗(yàn)室（LLNL）正在開發(fā)一種基于銩元素的拍瓦級激光技術(shù)，該技術(shù)旨在替代現(xiàn)有的極紫外光刻（EUV）工具中使用的二氧化碳激光器，并預(yù)計(jì)將光源效率提高約十倍。這一
2025-01-13 09:40:295895 
荷蘭政府正在積極尋求與全球領(lǐng)先的科技公司英偉達(dá)和AMD的合作，共同推動荷蘭人工智能設(shè)施的建設(shè)與發(fā)展。 據(jù)荷蘭政府官方網(wǎng)站的消息，荷蘭經(jīng)濟(jì)事務(wù)大臣迪爾克·貝爾亞爾茨于近日對美國硅谷進(jìn)行了訪問，期間
2025-01-10 13:36:181060 Ampere?公司近期推出了其旗艦產(chǎn)品AmpereOne?處理器的新版本，這一新版本處理器配備了12個內(nèi)存通道，進(jìn)一步提升了性能。這一舉動與Ampere在去年5月份公布的年度戰(zhàn)略和產(chǎn)品路線圖更新中
2025-01-09 18:09:571372 近日，美國拉斯維加斯——全球矚目的CES 2025消費(fèi)電子展上，高通技術(shù)公司宣布了一項(xiàng)重要更新：推出Qualcomm Aware?平臺的最新版本。這一基于云的先進(jìn)服務(wù)平臺，旨在為企業(yè)客戶在物流、零售
2025-01-09 13:59:031004 來源：John Boyd IEEE電氣電子工程師學(xué)會 9月，佳能交付了一種技術(shù)的首個商業(yè)版本，該技術(shù)有朝一日可能顛覆最先進(jìn)硅芯片的制造方式。這種技術(shù)被稱為納米壓印光刻技術(shù)（NIL
2025-01-09 11:31:181280 泊蘇 Type C 系列防震基座在半導(dǎo)體光刻加工電子束光刻設(shè)備的應(yīng)用案例-江蘇泊蘇系統(tǒng)集成有限公司一、企業(yè)背景與光刻加工電子束光刻設(shè)備挑戰(zhàn)某大型半導(dǎo)體制造企業(yè)專注于高端芯片的研發(fā)與生產(chǎn)
2025-01-07 15:13:21
在CES 2025上，高通技術(shù)公司宣布推出Qualcomm Aware平臺的最新版本，這一基于云的服務(wù)平臺支持企業(yè)為物流、零售、能源、智能家居和機(jī)器人等行業(yè)的智能網(wǎng)聯(lián)終端增加可觀測性、監(jiān)測和定位功能
2025-01-07 10:36:531421 ? 本文介紹了組成光刻機(jī)的各個分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟，其重要性不言而喻。光刻機(jī)是實(shí)現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備，它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程，但精度要求極高，能夠達(dá)到
2025-01-07 10:02:304530 
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