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標(biāo)簽 > 刻蝕
刻蝕,英文為Etch,它是半導(dǎo)體制造工藝,微電子IC制造工藝以及微納制造工藝中的一種相當(dāng)重要的步驟。是與光刻 [1] 相聯(lián)系的圖形化(pattern)處理的一種主要工藝。所謂刻蝕,實(shí)際上狹義理解就是光刻腐蝕,先通過光刻將光刻膠進(jìn)行光刻曝光處理,然后通過其它方式實(shí)現(xiàn)腐蝕處理掉所需除去的部分。
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本文介紹了我們?nèi)A林科納采用氮化硅膜作為掩膜,采用濕蝕刻技術(shù)制備黑硅,樣品在250~1000nm波長下的吸收率接近90%。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,氮化硅膜作為掩模濕...
濕法刻蝕SC2工藝在半導(dǎo)體制造及相關(guān)領(lǐng)域中具有廣泛的應(yīng)用,以下是其主要應(yīng)用場景和優(yōu)勢:材料選擇性去除與表面平整化功能描述:通過精確控制化學(xué)溶液的組成,能...
本文簡單介紹了連續(xù)波和脈沖波的概念、連續(xù)波電流與脈沖波電源的定義以及脈沖波電源相對(duì)于連續(xù)波的電源模式的優(yōu)勢。 相對(duì)于連續(xù)波的電源模式,脈沖模式的優(yōu)勢有哪...
本文介紹了我們?nèi)A林科納研究了污染和清洗順序?qū)A性紋理化的影響。硅表面專門暴露在有機(jī)和金屬污染中,以研究它們對(duì)堿性紋理化過程的影響,由此可見,無機(jī)污染對(duì)金...
一種孔徑小于10納米的固態(tài)納米孔制備新技術(shù)
高質(zhì)量固態(tài)納米孔的制備是DNA測序、納流器件以及納濾膜等應(yīng)用的關(guān)鍵技術(shù)。當(dāng)前,在無機(jī)薄膜材料中制備固態(tài)納米孔的主流方法是聚焦離子/電子束刻蝕。
本文系統(tǒng)梳理了刻蝕技術(shù)從濕法到等離子體干法的發(fā)展脈絡(luò),解析了物理、化學(xué)及協(xié)同刻蝕機(jī)制差異,闡明設(shè)備與工藝演進(jìn)對(duì)先進(jìn)制程的支撐作用,并概述國內(nèi)外產(chǎn)業(yè)格局,...
多項(xiàng)目圓片(MPW)與多層光掩模(MLR)顯著降低了掩模費(fèi)用,而無掩模光刻技術(shù)如電子束與激光直寫,在提升分辨率與產(chǎn)能的同時(shí)推動(dòng)原型驗(yàn)證更經(jīng)濟(jì)高效??涛g工...
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