，相比上一代產(chǎn)品，新款EUV光刻機(jī)生產(chǎn)效率將提升18%，曝光速度為30mj/cm，每小時(shí)可處理160片晶圓。 有意思的是，在2019年的年報(bào)中，ASML便提到正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)的計(jì)劃，不過并未透露具體型號(hào)，只是披露將在2022年初計(jì)劃出貨，2024年后大規(guī)模生產(chǎn)。而此次所公布的EUV光刻機(jī)如
2020-10-17 05:02:00
4299 對(duì)于如今的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)而言，EUV光刻機(jī)是打造下一代邏輯和DRAM工藝技術(shù)的關(guān)鍵所在，為了在未來的工藝軍備競賽中保持優(yōu)勢，臺(tái)積電、三星和英特爾等廠商紛紛花重金購置EUV光刻機(jī)。 ? 然而，當(dāng)這些來自
2022-07-22 07:49:003666 半導(dǎo)體制造工藝是集成電路產(chǎn)業(yè)的核心，未來摩爾定律是否還能主宰產(chǎn)業(yè)發(fā)展就得看半導(dǎo)體工藝是否能在10nm以下的工藝?yán)^續(xù)突破了，而在這個(gè)問題上，荷蘭ASML公司的EUV光刻機(jī)何時(shí)成熟就是個(gè)關(guān)鍵了。上周
2016-11-07 11:33:073245 
推動(dòng)科技進(jìn)步的半導(dǎo)體技術(shù)真的會(huì)停滯不前嗎？這也不太可能，7nm工藝節(jié)點(diǎn)將開始應(yīng)用EUV光刻工藝，研發(fā)EUV光刻機(jī)的ASML表示EUV工藝將會(huì)支持未來15年，部分客戶已經(jīng)在討論2030年的1.5nm工藝路線圖了。
2017-01-22 11:45:423754 在光刻機(jī)領(lǐng)域，荷蘭ASML公司幾乎壟斷了全球高端光刻機(jī)市場，在EUV光刻機(jī)中更是獨(dú)一份，7nm及以后的工藝都要依賴EUV光刻機(jī)。在高科技領(lǐng)域，美國這一年來加強(qiáng)了對(duì)中國人的防范，不只限于美國本土，就連歐洲公司也受到了美國政府的壓力，荷蘭ASML被曝禁止招收中國籍員工。
2018-08-23 10:45:086791 僅出貨了26臺(tái)，去年三季度后全年累計(jì)出貨23臺(tái)（全年預(yù)估35臺(tái)），可謂少得可憐。
另外，ASML定于明年中旬交付最新一代EUV***TWINSCAN NXE:3600D，生產(chǎn)效率提升18%、機(jī)器匹配套準(zhǔn)精度改進(jìn)為1.1nm，單臺(tái)價(jià)格或高于老款的1.2億歐元（約合9.5億元人民幣）。
?
2021-01-03 00:28:005414 作為近乎壟斷的光刻機(jī)巨頭，ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺(tái)積電還是三星，EUV光刻機(jī)的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了7nm之下不可或缺的制造設(shè)備
2021-12-01 10:07:4113656 盡管ASML作為目前占據(jù)主導(dǎo)地位的光刻機(jī)廠商，憑借獨(dú)有的EUV光刻機(jī)一騎絕塵，主導(dǎo)著半數(shù)以上的市場份額，但這并不代表著其他光刻機(jī)廠商也就“聽天由命”了。以兩大國外光刻機(jī)廠商尼康和佳能為例，他們就仍在
2022-11-24 01:57:007124 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道，日前，ASML 技術(shù)高級(jí)副總裁 Jos Benschop 表示，ASML 已攜手光學(xué)組件獨(dú)家合作伙伴蔡司，啟動(dòng)了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機(jī)開發(fā)。這一舉措標(biāo)志著
2025-06-29 06:39:001916 ofweek電子工程網(wǎng)訊 國際半導(dǎo)體制造龍頭三星、臺(tái)積電先后宣布將于2018年量產(chǎn)7納米晶圓制造工藝。這一消息使得業(yè)界對(duì)半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵設(shè)備之一極紫外光刻機(jī)（EUV）的關(guān)注度大幅提升。此后又有媒體
2017-11-14 16:24:44
就是研發(fā)NA 0.5的光學(xué)鏡片，這是EUV光刻機(jī)未來進(jìn)一步提升分辨率的關(guān)鍵，不過高NA的EUV光刻機(jī)至少是2025-2030年的事了，還早著呢，光學(xué)鏡片的進(jìn)步比電子產(chǎn)品難多了?！ A數(shù)值一時(shí)間不能提升
2020-07-07 14:22:55
的要求則反過來，我們要確保影像要絕對(duì)清晰，就要將對(duì)焦點(diǎn)落在光阻上，并且確保光阻絕對(duì)不可落到景深范圍之外。那ASML的光刻機(jī)景深有多大呢？ 所以我們就是要把光阻移到這個(gè)100nm的范圍之內(nèi)，是不是有點(diǎn)
2020-09-02 17:38:07
%，Lam Research為10億美元，占臺(tái)積電采購額的9%，迪恩士占5%，KLA占4%。ASML目前，全球僅有ASML一家公司掌握著EUV光刻機(jī)的核心技術(shù)，這也是5nm制程必需的設(shè)備，但EUV
2020-03-09 10:13:54
據(jù)羊城晚報(bào)報(bào)道，近日中芯國際從荷蘭進(jìn)口的一臺(tái)大型光刻機(jī)，順利通過深圳出口加工區(qū)場站兩道閘口進(jìn)入廠區(qū)，中芯國際發(fā)表公告稱該光刻機(jī)并非此前盛傳的EUV光刻機(jī)，主要用于企業(yè)復(fù)工復(fù)產(chǎn)后的生產(chǎn)線擴(kuò)容。我們知道
2021-07-29 09:36:46
進(jìn)入10nm工藝節(jié)點(diǎn)之后，EUV光刻機(jī)越來越重要，全球能產(chǎn)EUV光刻機(jī)的就是荷蘭ASML公司了，他們總共賣出18臺(tái)EUV光刻機(jī)，總價(jià)值超過20億歐元，折合每套系統(tǒng)售價(jià)超過1億歐元，可謂價(jià)值連城。
2017-01-19 18:22:594096 中國晶圓廠，ASML對(duì)此表示樂觀。
兩邊對(duì)比的話，這家中國公司就是中芯國際，雖然該公司的14nm工藝要到2019年初才能量產(chǎn)，不過國內(nèi)有需求EUV光刻機(jī)的幾乎只有他們了，2017年中芯國際表示他們已經(jīng)在預(yù)研7nm工藝了，訂購一臺(tái)EUV光刻機(jī)做研究也是很正常的。
2018-05-20 10:32:3714641 臺(tái)積電前不久試產(chǎn)了7nm EUV工藝，預(yù)計(jì)明年大規(guī)模量產(chǎn)，三星今天宣布量產(chǎn)7nm EUV工藝，這意味著EUV工藝就要正式商業(yè)化了，而全球最大的光刻機(jī)公司荷蘭ASML為這一天可是拼了20多年。
2018-10-19 10:49:293872 明年下半年會(huì)推出新一代的NXE:3400C型光刻機(jī)，WPH（每小時(shí)處理的晶圓數(shù)量）產(chǎn)能從現(xiàn)在的每小時(shí)125片晶圓提升到155片晶圓以上，意味著產(chǎn)能提升24%。
現(xiàn)在的NXE:3400B型EUV
2018-10-22 15:18:343209 基于這一控制系統(tǒng)，在未來三年左右推出具有30位量子比特?cái)?shù)的量子計(jì)算機(jī)原型機(jī)。
ASML正在開發(fā)下一代EUV***
ASML的副總裁Anthony Yen日前表示，他們已經(jīng)開始
2018-12-09 09:12:216250
ASML的副總裁Anthony Yen日前表示，他們已經(jīng)開始研發(fā)下一代***。他表示，在他們公司看來，一旦現(xiàn)有的系統(tǒng)到達(dá)了極限，他們有必要去繼續(xù)推動(dòng)新一代產(chǎn)品的發(fā)展，進(jìn)而推動(dòng)芯片的微縮
2018-12-11 17:27:01312 。他們指出，在“當(dāng)前一代”EUV曝光技術(shù)中，3nm代半導(dǎo)體邏輯有望成為小型化的極限。但在“下一代”EUV曝光技術(shù)出來之后，則讓2納米，甚至1.4納米成為可能
2019-01-27 10:33:555103 
由于三星去年就小規(guī)模投產(chǎn)了7nm EUV，同時(shí)ASML（荷蘭阿斯麥）將EUV光刻機(jī)的年出貨量從18臺(tái)提升到今年的預(yù)計(jì)30臺(tái)，顯然促使臺(tái)積電不得不加快腳步。
2019-04-30 17:30:038537 ***。
日前，韓媒報(bào)道稱ASML公司正積極投資研發(fā)下一代EUV***，與現(xiàn)有的***相比，二代EUV***最大的變化就是High NA（高數(shù)值孔徑）透鏡，通過提升透鏡規(guī)格使得新一代***的微縮分辨率、套
2019-07-13 09:40:166549 一次提升，每小時(shí)晶圓產(chǎn)能最終將達(dá)到185wph，不過要等到2021到2022年了。
再往后的話，EUV***就要進(jìn)入下一代了，提升光刻分辨率要靠新的物鏡系統(tǒng)，ASML前幾年就投資了
2019-07-18 16:02:003808 
格芯首席技術(shù)官Gary Patton表示，如果在5nm的時(shí)候沒有使用EUV光刻機(jī)，那么光刻的步驟將會(huì)超過100步，這會(huì)讓人瘋狂。所以所EUV光刻機(jī)無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具，未來圍繞EUV光刻機(jī)的爭奪戰(zhàn)將會(huì)變得異常激烈。因?yàn)檫@是決定這些廠商未來在先進(jìn)工藝市場競爭的關(guān)鍵。
2019-09-03 17:18:1814886 
據(jù)韓媒報(bào)道稱，ASML正積極投資研發(fā)下一代EUV光刻機(jī)，與現(xiàn)有光刻機(jī)相比，二代EUV光刻機(jī)最大的變化就是High NA透鏡，通過提升透鏡規(guī)格使得新一代光刻機(jī)的微縮分辨率、套準(zhǔn)精度兩大光刻機(jī)核心指標(biāo)提升70%，達(dá)到業(yè)界對(duì)幾何式芯片微縮的要求。
2019-08-07 11:24:397084 在EUV光刻機(jī)方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī)，去年出貨26臺(tái)，創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:13:483419 在EUV光刻機(jī)方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī)，去年出貨26臺(tái)，創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:21:195447 近日，荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）公司2019年的年報(bào)中披露了關(guān)于下一代EUV極紫光刻機(jī)的研發(fā)進(jìn)程，預(yù)計(jì)2022年年初開始出貨，2024年實(shí)現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)。
2020-03-17 15:25:593906 大家都知道，目前我國光刻機(jī)技術(shù)至少落后荷蘭ASML15年，目前荷蘭ASML的頂級(jí)光刻機(jī)可以達(dá)到7nm工藝，目前他們正大研發(fā)5nm工藝光刻機(jī)。
2020-04-19 23:43:2611612 公司研究概況，他強(qiáng)調(diào)通過與ASML公司緊密合作，將下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)高NA EUV光刻技術(shù)商業(yè)化。IMEC公司強(qiáng)調(diào)，將繼續(xù)把工藝規(guī)?？s小到1nm及以下。 包括日本在內(nèi)的許多半導(dǎo)體公司相繼退出了工藝小型化，聲稱摩爾定律已經(jīng)走到了盡頭，或者說成本太高，無利可圖。
2020-12-02 16:28:531451 ASML共獲得60臺(tái)光刻機(jī)的銷售收入，總額31億歐元，其中EUV光刻機(jī)14臺(tái)，但收入占比達(dá)到了66%。 地區(qū)方面
2020-10-16 14:27:464630 ASML的EUV光刻機(jī)是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機(jī)必不可缺。一臺(tái)EUV光刻機(jī)的售價(jià)為1.48億歐元，折合人民幣高達(dá)11.74億元
2020-10-19 12:02:4910752 
作為半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備，光刻機(jī)無疑是芯片產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠，特別是先進(jìn)工藝的光刻機(jī)，7nm以下的都要依賴ASML公司，EUV光刻機(jī)他們還是獨(dú)一份。
2020-11-09 17:11:382782 ，不過ASML對(duì)這個(gè)機(jī)器是不放行的，主要是美國強(qiáng)制要求。 EUV光刻機(jī)是光刻機(jī)在發(fā)展過程中的第五代產(chǎn)品，由于采用了極紫外線，它的最小工業(yè)節(jié)點(diǎn)到了 22nm-7nm，可以說是世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)設(shè)備而這種設(shè)備，只有ASML能造出來。 2018年4月，中芯國際向
2020-11-10 10:08:043971 中國需要光刻機(jī)，尤其是支持先進(jìn)制程的高端光刻機(jī)。具體來說，就是 EUV （極紫外光源）光刻機(jī)。
2020-11-11 10:13:305279 
龍頭。 而在上世紀(jì)80年代，ASML只是飛利浦和ASM合資的一家小公司。但伴隨著半導(dǎo)體行業(yè)風(fēng)云變化，短短二十年時(shí)間，ASML就將昔日光刻機(jī)大國美國和日本拉下神壇。如今，全球7nm及以下工藝的EUV光刻機(jī)，只有它能提供。那么，ASML在光刻機(jī)領(lǐng)域快
2020-11-13 09:28:516405 。 EUV光刻機(jī)參與的將是SK海力士的第四代（1a nm）內(nèi)存，在內(nèi)存業(yè)內(nèi)，目前的代際劃分是1x、1y、1z和1a。 EUV光刻機(jī)的參與可以減少多重曝光工藝，提供工藝精度，從而可以減少生產(chǎn)時(shí)間、降低成本，并提高性能。 當(dāng)然，EUV光刻機(jī)實(shí)在是香餑餑。唯一的制造商ASML（
2020-11-26 18:23:292303 本月中旬，在日本東京舉辦了ITF論壇。 論壇上，與ASML（阿斯麥）合作研發(fā)光刻機(jī)的比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC公布了3nm及以下制程的在微縮層面技術(shù)細(xì)節(jié)。 至少就目前而言，ASML對(duì)于3m、2nm
2020-11-30 15:47:403167 本月中旬，在日本東京舉辦了ITF論壇。論壇上，與ASML（阿斯麥）合作研發(fā)光刻機(jī)的比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC公布了3nm及以下制程的在微縮層面技術(shù)細(xì)節(jié)。
2020-11-30 15:52:212287 IMEC公司首席執(zhí)行官兼總裁Luc Van den hove首先發(fā)表了主題演講，介紹了公司研究概況，他強(qiáng)調(diào)通過與ASML公司緊密合作，將下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)——高NA EUV光刻技術(shù)商業(yè)化。IMEC公司強(qiáng)調(diào)，將繼續(xù)把工藝規(guī)模縮小到1nm及以下。
2020-12-01 09:28:421762 公司研究概況，他強(qiáng)調(diào)通過與ASML公司緊密合作，將下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)高NA EUV光刻技術(shù)商業(yè)化。IMEC公司強(qiáng)調(diào)，將繼續(xù)把工藝規(guī)?？s小到1nm及以下。 包括日本在內(nèi)的許多半導(dǎo)體公司相繼退出了工藝小型化，聲稱摩爾定律已經(jīng)走到了盡頭，或者說成本太高，無利可圖。
2020-12-01 09:54:332015 而由其所研發(fā)生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)更是在高端市場之中處于一家獨(dú)大的位置。臺(tái)積電作為ASML的股東很輕松就能夠獲得ASML的EUV光刻機(jī)，所以這邊導(dǎo)致臺(tái)積電一直以來在技術(shù)上領(lǐng)先于三星。當(dāng)然能夠在5納米等工藝方面保持領(lǐng)先的地位，也是因?yàn)檫@個(gè)原因。
2020-12-01 12:03:152794 據(jù)中國臺(tái)灣經(jīng)濟(jì)日?qǐng)?bào)報(bào)道，EUV 光刻機(jī)制造商 ASML 首席執(zhí)行官 Peter Wennink 帶領(lǐng)高管拜訪三星，雙方尋求技術(shù)與投資合作。三星希望能搶在臺(tái)積電之前，取得 ASML 下一代 EUV
2020-12-02 11:16:572167 想想幾年前的全球半導(dǎo)體芯片市場，真的可謂哀嚎一片，一時(shí)間摩爾定律失效的言論可謂此起彼伏。但是在今天，我們不僅看到5nm工藝如期而至，臺(tái)積電宣布2nm獲得重大進(jìn)展，就連光刻機(jī)的老大ASML也傳來捷報(bào)，全球最先進(jìn)的1nm EUV光刻機(jī)業(yè)已完成設(shè)計(jì)。
2020-12-02 16:55:4111034 自從芯片工藝進(jìn)入到7nm工藝時(shí)代以后，需要用到一臺(tái)頂尖的EUV光刻機(jī)設(shè)備，才可以制造7nm EUV、5nm等先進(jìn)制程工藝的芯片產(chǎn)品，但就在近日，又有外媒豪言：這種頂尖的EUV極紫外光刻機(jī)，目前全球
2020-12-03 13:46:227525 根據(jù)其所公布的內(nèi)容來看，ASML 對(duì)于 3 納米、2 納米、1.5 納米、1 納米，甚至是小于 1 納米的工藝都做了清楚的發(fā)展規(guī)劃，代表著 ASML 基本上已經(jīng)能開發(fā) 1 納米工藝的光刻設(shè)備。
2020-12-04 17:46:484415 Luc Van den hove并公布了3nm及以下制程的微縮層面技術(shù)細(xì)節(jié)。截至目前，ASML 已經(jīng)布局了 3m、2nm、1.5nm、1nm 甚至 Sub 1nm 的未來發(fā)展路線規(guī)劃。
2020-12-04 17:53:481709 的邏輯器件小型化路線圖。 根據(jù)IMEC首席執(zhí)行官兼總裁Luc Van den hove透露，IMEC公司與ASML緊密合作，將推進(jìn)下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)商用。目前，ASML已完成作為NXE
2020-12-07 17:07:1010234 ? ? 11月30日最新報(bào)道，近日荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）又送來一則好消息，該司已經(jīng)與比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC共同完成了1nm光刻機(jī)的設(shè)計(jì)工作。 ? 據(jù)了解，先進(jìn)制程的光刻機(jī)對(duì)于曝光設(shè)備
2020-12-09 09:35:595034 Luc Van den hove在線上演講中表示，在與ASML公司的合作下，更加先進(jìn)的***已經(jīng)取得了進(jìn)展。
Luc Van den hove表示，IMEC的目標(biāo)是將下一代高分辨率EUV光刻
2020-12-29 09:22:482736 下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)高NA EUV光刻技術(shù)商業(yè)化。由于此前得***競爭對(duì)手早已經(jīng)陸續(xù)退出市場，目前ASML把握著全球主要的先進(jìn)***產(chǎn)能，近年來，IMEC一直在與ASML研究新的EUV***，目前目標(biāo)是將工藝規(guī)模縮小到1nm及以下。
責(zé)編AJX
2020-12-29 11:00:102186 總裁Luc Van den hove在線上演講中表示，在與ASML公司的合作下，更加先進(jìn)的***已經(jīng)取得了進(jìn)展。
Luc Van den hove表示，IMEC的目標(biāo)是將下一代高分辨率EUV光刻
2020-12-30 09:23:482168 出貨了26臺(tái)，去年三季度后全年累計(jì)出貨23臺(tái)（全年預(yù)估35臺(tái)），可謂少得可憐。
另外，ASML定于明年中旬交付最新一代EUV***TWINSCAN NXE:3600D，生產(chǎn)效率提升18%、機(jī)器匹配
2021-01-04 10:29:401903 近日，在日本東京舉辦的ITF論壇上，與ASML合作研發(fā)光刻機(jī)的比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC公布了3nm及以下制程在微縮層面技術(shù)細(xì)節(jié)。
2021-01-13 16:43:113432 調(diào)試。此外，這款 ASML XT 1900 Gi 型 ArF 浸入式光刻機(jī)可用于研發(fā)最高分辨率達(dá) 28nm 的高端光刻膠。 IT之家了解到，晶瑞股份于 2020 年 9 月 28 日晚發(fā)布公告稱，將
2021-01-20 16:34:007356 據(jù)etnews報(bào)道，SK海力士已開始在其位于韓國利川的M16工廠安裝EUV光刻機(jī)，以量產(chǎn)10nm 1a DRAM。 此前SK海力士宣布將在今年年內(nèi)在M16廠建設(shè)產(chǎn)線以生產(chǎn)下一代DRAM，不過并未透露
2021-01-20 18:19:202943 目前，還有ASML有能力生產(chǎn)最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，三星、臺(tái)積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協(xié)定》的制約，中國大陸沒有從ASML買來一臺(tái)EUV光刻機(jī)。
2021-01-21 08:56:185443 在四季度財(cái)報(bào)會(huì)議上，荷蘭ASML（阿斯麥）表示，預(yù)計(jì)今年將出貨交付40臺(tái)EUV光刻機(jī)，比去年多9臺(tái)。
2021-01-21 15:16:431972 在光刻機(jī)領(lǐng)域一家獨(dú)大的荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML，占據(jù)著芯片行業(yè)的頂端，畢竟沒有了他們的設(shè)備，想要造出先進(jìn)工藝制程的芯片是沒戲的。
2021-01-22 09:39:222566 
在光刻機(jī)領(lǐng)域一家獨(dú)大的荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML，占據(jù)著芯片行業(yè)的頂端，畢竟沒有了他們的設(shè)備，想要造出先進(jìn)工藝制程的芯片是沒戲的。
2021-01-22 09:34:002233 
%，凈利潤達(dá)到36億歐元。全球光刻機(jī)主要玩家有ASML、尼康和佳能三家，他們占到了全球市場90%。 ASML由于技術(shù)領(lǐng)先，一家壟斷了第五代光刻機(jī)EUV光刻機(jī)，這類光刻機(jī)用于制造7nm以下先進(jìn)制程的芯片。 2020年ASML對(duì)外銷售了31臺(tái)EUV光刻機(jī)，帶來了45億歐元（折合352.52億
2021-01-22 10:38:165843 
的出貨不及預(yù)期的35臺(tái)，而且他們還宣布了下一代高NA的EUV光刻機(jī)要到2025-2026年之間才能規(guī)模應(yīng)用，意味著要延期了。 此前信息顯示，ASML下一代EUV光刻機(jī)最早是2022年開始出樣，大規(guī)模
2021-01-22 17:55:243621 隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下，EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn)，之前臺(tái)積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 09:28:552324 。 據(jù)報(bào)道，SK海力士與ASML公司簽訂了一個(gè)超級(jí)大單，未來5年內(nèi)將斥資4.8萬億韓元，約合43.4億美元購買EUV光刻機(jī)。 SK海力士在一份監(jiān)管文件中稱，這筆交易是為了實(shí)現(xiàn)下一代工藝芯片量產(chǎn)的目標(biāo)。 ASML及SK海力士都沒有透露這么多資金到底購買了多少臺(tái)EUV光刻機(jī)，不過從之
2021-02-25 09:30:232709 隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下，EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn)，之前臺(tái)積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 11:39:092438 一提起ASML這家公司，就少不了對(duì)光刻機(jī)問題的討論，因?yàn)榻刂聊壳埃?b class="flag-6" style="color: red">ASML仍然是全球最領(lǐng)先的光刻機(jī)廠商。普通的DUV光刻機(jī)就不多說了，ASML每年都能賣出去很多臺(tái)，而在更先進(jìn)的EUV光刻機(jī)方面，ASML更是占據(jù)了絕對(duì)壟斷的地位。
2021-02-27 09:59:4216218 三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機(jī)廠商ASML爭取訂單，另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
2021-03-04 09:52:412409 中芯國際的芯片工藝目前已發(fā)展至14nm，若想將芯片工藝進(jìn)一步提升至7nm乃至3nm等先進(jìn)制程，EUV光刻機(jī)設(shè)備就必不可少。那么，中芯國際此次12億美元的采購協(xié)議都有哪些類型的光刻機(jī)，包含EUV光刻機(jī)嗎？
2021-03-10 14:36:5511344 5nm光刻技術(shù)與ASML光刻機(jī)有何區(qū)別？ EUV光刻機(jī)產(chǎn)能如何？ 大飛_6g（聽友） 請(qǐng)問謝博士，EUV光刻機(jī)的產(chǎn)能是怎樣的？比如用最先進(jìn)的光刻機(jī)，滿負(fù)荷生產(chǎn)手機(jī)芯片麒麟990，每天能產(chǎn)多少片？中芯國際有多少臺(tái)投入生產(chǎn)的光刻機(jī)？是1臺(tái)、5臺(tái)還是10臺(tái)呢？謝謝 謝志
2021-03-14 09:46:3025243 日前，ASML產(chǎn)品營銷總監(jiān)Mike Lercel向媒體分享了EUV（極紫外）光刻機(jī)的最新進(jìn)展。
2021-03-19 09:39:405766 的。臺(tái)積電、三星、Intel的7nm、5nm，以及未來的3nm、2nm都要依賴EUV光刻機(jī)，單臺(tái)售價(jià)超過1億美元，成本極高。 目前，ASML的EUV光刻機(jī)使用的還是第一代，EUV光源波長在13.5nm
2021-06-26 16:55:281795 7nm之下不可或缺的制造設(shè)備，我國因?yàn)橘Q(mào)易條約被遲遲卡住不放行的也是一臺(tái)EUV光刻機(jī)。 但EUV光刻機(jī)的面世靠的不僅僅是ASML一家的努力，還有蔡司和TRUMPF（通快）兩家歐洲光學(xué)巨頭的合作才得以成功。他們的技術(shù)分別為EUV光刻機(jī)的鏡頭和光源做出了不
2021-12-07 14:01:1012038 具有13.5nm波長源的高數(shù)值孔徑系統(tǒng)將提高亞13nm半間距曝光所需的分辨率，以及更大的圖像對(duì)比度以實(shí)現(xiàn)更好的印刷線均勻性。High-NA EUV光刻的分辨率通常被稱為“13nm到8nm半間距”。
2022-06-02 15:03:562443 媒體稱三星的目的是為了搶到ASML的EUV光刻機(jī)。 目前芯片短缺的現(xiàn)狀大家也都清楚，再加上7nm制程以下的高端芯片只有EUV光刻機(jī)才能打造，而本來EUV光刻機(jī)就稀少，因此先進(jìn)芯片發(fā)展頻頻受限，并且前段時(shí)間三星才剛剛和Intel洽談完芯片合作的事宜，因
2022-06-07 14:18:041761 日前，在臺(tái)積電召開的會(huì)議上，有一名高管稱臺(tái)積電將于2024年引進(jìn)ASML正在研發(fā)的最新的High-NA EUV光刻機(jī)。 會(huì)議中，該高管稱：為了滿足客戶所需的相關(guān)基礎(chǔ)設(shè)施的開發(fā)等，臺(tái)積電將于2024年
2022-06-17 16:33:277596 據(jù)CNBC報(bào)道稱，世界聞名的先進(jìn)光刻機(jī)智造商荷蘭AMSL公司正在研發(fā)一種新版本的EUV光刻機(jī)。
2022-06-18 08:13:032334 2nm制程的量產(chǎn)。 目前市面上最先進(jìn)的是EUV光刻機(jī)，而其能夠支持制造的先進(jìn)制程工藝最高為3nm，也就是說，再往后的2nm等工藝就要用更加先進(jìn)的光刻機(jī)來完成。 ASML為此正在研發(fā)一種特別的EUV光刻機(jī)——High-NA EUV光刻機(jī)。這種光刻機(jī)所采用的技術(shù)能夠
2022-06-22 14:44:162172 3nm制程，據(jù)了解，更加先進(jìn)的制程就需要更先進(jìn)的光刻機(jī)來完成了。 光刻機(jī)廠商ASML為此正在研發(fā)新一代High NA EUV光刻機(jī)，這種EUV光刻機(jī)的NA數(shù)值孔徑比現(xiàn)在0.33口徑的EUV光刻機(jī)還要高，達(dá)到了0.55口徑，也就是說High NA EUV光刻機(jī)的分辨率更高，能
2022-06-28 15:07:128591 三星電子和ASML就引進(jìn)今年生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)和明年推出高數(shù)值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機(jī)達(dá)成采購協(xié)議。
2022-07-05 15:26:156764 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)。
2022-07-06 11:03:078348 如今世界最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，只有asml一家公司可以制造出來。
2022-07-06 11:19:3852761 EUV光刻機(jī)是在2018年開始出現(xiàn)，并在2019年開始大量交付，而臺(tái)積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:445306 大家都知道，芯片制造的核心設(shè)備之一就是光刻機(jī)了?，F(xiàn)在，全球最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)，那么euv光刻機(jī)目前幾納米呢？ 到現(xiàn)在，世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4253101 說到芯片，估計(jì)每個(gè)人都知道它是什么，但說到光刻，許多人可能不知道它是什么。光刻機(jī)是制造芯片的機(jī)器和設(shè)備。沒有光刻機(jī)的話，就無法生產(chǎn)芯片，因此每個(gè)人都知道光刻機(jī)對(duì)芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻機(jī)
2022-07-10 11:42:278556 可以生產(chǎn)出納米尺寸更小、功能更強(qiáng)大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。 EUV光刻機(jī)有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺(tái)系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前，最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML公司的EUV光刻機(jī)。預(yù)計(jì)在光路系統(tǒng)的幫助下，能
2022-07-10 14:35:067939 光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別是是什么呢？ duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別 1.基本上duv只能做到25nm，而euv能夠做到10nm以下晶圓的生產(chǎn)。 2. duv主要使用的是光的折射原理，而euv使用的光的反射原理，內(nèi)部必須是真空操作。 以上就是duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別了，現(xiàn)在基本都是euv光刻機(jī)
2022-07-10 14:53:1087067 euv光刻機(jī)原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機(jī)，是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，對(duì)芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。那么euv光刻機(jī)原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1018347 與此同時(shí)，在ASML看來，下一代高NA EUV光刻機(jī)為光刻膠再度帶來了挑戰(zhàn)，更少的隨機(jī)效應(yīng)、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統(tǒng)的正膠和負(fù)膠肯定是沒法用了，DUV光刻機(jī)上常用的化學(xué)放大光刻膠（CAR）也開始在5nm之后的分辨率和敏感度上出現(xiàn)瓶頸
2022-07-22 10:40:083923 對(duì)于3nm后的節(jié)點(diǎn)，ASML及其合作伙伴正在研究一種全新的EUV工具——Twinscan EXE:5000系列，具有0.55 NA(High-NA)透鏡，能夠達(dá)到8nm分辨率，可以避免3nm及以上的多圖案。
2022-08-17 15:44:043078 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）盡管ASML作為目前占據(jù)主導(dǎo)地位的光刻機(jī)廠商，憑借獨(dú)有的EUV光刻機(jī)一騎絕塵，主導(dǎo)著半數(shù)以上的市場份額，但這并不代表著其他光刻機(jī)廠商也就“聽天由命”了。以兩大國外光刻機(jī)
2022-11-24 07:10:035174 據(jù)悉，下一代EUV光刻機(jī)必須要升級(jí)下一代的高NA(數(shù)值孔徑)標(biāo)準(zhǔn)，從現(xiàn)在的0.33 NA提升到0.55 NA，更高的NA意味著更分辨率更高，是3nm之后的工藝必備的條件。
2022-11-30 09:52:4837069 asml是euv技術(shù)開發(fā)的領(lǐng)先者。asml公司是半導(dǎo)體領(lǐng)域光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)的領(lǐng)頭羊，也是全球市場占有率最大的光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)。2012年，asml推出了世界上第一個(gè)euv試制品，并于2016年推出了euv第一個(gè)商用顯卡制造機(jī)asmlnxe:3400b。
2023-06-08 09:37:555060 ASML 官網(wǎng)尚未上線 Twinscan NXE:3800E 的信息頁面。 除了正在研發(fā)的 High-NA EUV 光刻機(jī) Twinscan EXE 系列，ASML 也為其 NXE 系列傳統(tǒng)數(shù)值孔徑
2024-03-14 08:42:341635 
1. 三星將于2025 年初引進(jìn)High NA EUV 光刻機(jī)，加快開發(fā)1nm 芯片 ? 據(jù)報(bào)道，三星電子正準(zhǔn)備在2025年初引入其首款High NA EUV（極紫外）光刻機(jī)設(shè)備，這標(biāo)志著這家韓國
2024-10-31 10:56:061494 ? 本文介紹了用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤式光刻技術(shù)。 芯片制造：光刻技術(shù)的演進(jìn) 過去半個(gè)多世紀(jì)，摩爾定律一直推動(dòng)著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，但當(dāng)光刻機(jī)的光源波長卡在193nm，芯片制程縮小至65nm
2024-11-24 11:04:144452 
數(shù)值孔徑，是影響分辨率(R)，焦深（DOF）的重要參數(shù)，公式為： ? R=k1?λ/NA ? DOF=k2?λ/NA2 ? 其中，λ為波長，k1,k2均為工藝因子。從公式可以看出：提高NA可以提升光刻分辨率，增大NA會(huì)縮小景深。 ? ? ? 如何增大NA？ ? 增大NA值的主要目標(biāo)是提高分辨率。 ? NA的公式為： ?
2025-01-20 09:44:182477 
了。 ? 芯片制造離不開光刻機(jī)，特別是在先進(jìn)制程上，EUV光刻機(jī)由來自荷蘭的ASML所壟斷。同時(shí)，盡管目前市面上，EUV光刻機(jī)客戶僅有三家，但需求不斷增加的情況底下，EUV光刻機(jī)依然供不應(yīng)求。 ? 針對(duì)后3nm時(shí)代的芯片制造工藝，High-NA（高數(shù)值孔徑）EUV光刻機(jī)
2022-06-29 08:32:006314 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/梁浩斌）最近，一家名為Zyvex Labs的美國公司宣布推出亞納米分辨率的光刻系統(tǒng)Zyvex Litho 1，據(jù)稱分辨率可以達(dá)到0.768nm，這大約是兩個(gè)硅原子的寬度
2022-09-27 08:19:005878 ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/吳子鵬）?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中，光刻機(jī)被譽(yù)為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片制造的核心。長期以來，荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
2025-10-04 03:18:009691 
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