業(yè)界傳出,京東方的AMOLED面板良率明顯提升,出貨也跟著大幅躍進(jìn)。根據(jù)DSCC指出,京東方在2018年第3季時(shí),6.39吋QHD+的可撓式AMOLED面板良率僅超過(guò)10%,第4季時(shí)就已超過(guò)30%,進(jìn)入2019年后,預(yù)估良率將持續(xù)攀升,年底時(shí)有望超越50%的水平。
2019-02-01 01:30:00
4413 本文介紹了邏輯集成電路制造中有關(guān)良率提升以及對(duì)各種失效的分析。
2025-02-26 17:36:44
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5nm工藝。不過(guò),最近有消息傳出,三星遇到麻煩了,其5nm工藝的良率竟然低于50%。 韓國(guó)媒體報(bào)道,三星電子華城園區(qū)V1廠,最近面臨晶圓代工良率改善難題,5nm等部分工藝良率低于50%。 三星華城園區(qū)共有V1、S3及S4等晶圓廠,其中V1為EUV專用廠,于201
2021-07-05 18:35:59
4332 電阻聯(lián)機(jī)需求,請(qǐng)于委案時(shí)先注明。4.提供GDS II以利定位(局部區(qū)域或?qū)訑?shù)即可)作業(yè),有助良率提升。5. 芯片除了正面施作FIB外,隨著覆晶封裝基材限制、金屬繞線層增加、更為復(fù)雜緊密的電路布局,從晶背進(jìn)行,將提升可行性與成功率。`
2020-06-12 18:32:27
良率提升工程數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)工具專題講座講座對(duì)象:芯片設(shè)計(jì)公司,晶圓廠,封裝廠的業(yè)內(nèi)人士講座地點(diǎn):上海市張江高科技園區(qū)碧波路635號(hào)傳奇廣場(chǎng)3樓 IC咖啡講座時(shí)間:2014年3月10日(周一) 晚 19
2014-03-09 10:37:52
截止2019年低,cob顯示屏良率達(dá)到了95%,甚至以上。工藝的發(fā)展使得COB顯示屏封裝工藝得到了完善,而且針對(duì)性的研發(fā),也讓cob工藝得以在短時(shí)間里獲得好的發(fā)展進(jìn)程。95%的產(chǎn)品良率相對(duì)于SMD封裝
2020-05-16 11:40:22
C常用算法程序集-徐士良,很多的程序集。C常用算法程序集-徐士良.zip,教材,內(nèi)容如題
2011-05-02 08:50:21
Labview中如何計(jì)算兩個(gè)不同日期的時(shí)間差(轉(zhuǎn)載)講的非常好以下為轉(zhuǎn)載鏈接http://bbs.hqchip.com/group-topic-id-14864.html
2015-10-30 18:39:12
TPA3116D2-Q1的控制管腳SDMUTE的時(shí)序要求,文檔里沒(méi)有提及,兩個(gè)控制的時(shí)間差有要求嗎?能否具體說(shuō)明下?
2024-10-11 08:25:04
NI 的USB6216是異步采集卡,最大采樣頻率400K,如果采樣頻率設(shè)為10K,同時(shí)采集兩路信號(hào),那這兩路信號(hào)實(shí)際上采樣頻率都是10K嗎??jī)?b class="flag-6" style="color: red">路信號(hào)之間的時(shí)間差是多少呢?
2018-09-18 20:33:26
以前曾寫過(guò)一篇文章C51計(jì)算時(shí)間差,采用的算法是網(wǎng)上查到的,雖然測(cè)試沒(méi)有問(wèn)題,但是感覺(jué)那種算法不便于理解。最近重新考慮了一種算法。用2個(gè)BCD碼數(shù)組存儲(chǔ)進(jìn)場(chǎng)時(shí)間和出場(chǎng)時(shí)間:unsigned char
2017-05-10 16:32:51
Type-C線束與PCBA板用hotbar焊接時(shí),經(jīng)常出現(xiàn)壓壞板子、燒點(diǎn)等現(xiàn)象,導(dǎo)致良率降低,請(qǐng)問(wèn)有什么辦法解決?
2018-09-19 11:11:40
我用labview實(shí)現(xiàn)了一組年月日時(shí)分秒的相鄰時(shí)間相減,得出一組時(shí)間差數(shù)據(jù),我想從這些時(shí)間差中篩選出大于3600的值,并且能夠確定他的位置(由哪兩個(gè)時(shí)間相減得到的),,希望大家給點(diǎn)建議。。謝謝了
2016-03-10 10:11:41
試圖捕捉交替的邊緣和測(cè)量時(shí)間差(對(duì)于MPH CALC)?,F(xiàn)在,只是用一個(gè)假設(shè)作為延遲;然而,時(shí)間差異在整個(gè)地方。附加項(xiàng)目是為PSoC4-BLE先鋒套件創(chuàng)建的,并產(chǎn)生UART輸出。任何對(duì)我做錯(cuò)的幫助都將不勝感激。謝謝!TimeRealPo.01. Cyrkk.Access 01.Zip1.3兆字節(jié)
2019-09-18 12:24:08
較為激進(jìn)的技術(shù)路線,以挽回局面。
4 月 18 日消息,據(jù)韓媒《ChosunBiz》當(dāng)?shù)?b class="flag-6" style="color: red">時(shí)間 16 日?qǐng)?bào)道,三星電子在其 4nm 制程 HBM4 內(nèi)存邏輯芯片的初步測(cè)試生產(chǎn)中取得了40% 的良率,這高于
2025-04-18 10:52:53
哪位大神知道,為什么實(shí)測(cè)運(yùn)放開環(huán)階升階降時(shí)間差的那么多,比如先給一個(gè)信號(hào),在撤銷掉,就出現(xiàn)階降時(shí)間很長(zhǎng)的現(xiàn)象,這正常嗎
2018-10-29 16:34:49
本文充分利用了低端的FPGA 器件(Field Programmable Gate Array)的靈活性和快速性,實(shí)現(xiàn)提取通過(guò)不同路徑的同一信號(hào)時(shí)間差。
2021-05-10 06:35:32
在旋轉(zhuǎn)軸上同時(shí)采集到振動(dòng)信號(hào)與方波信號(hào),兩信號(hào)同周期,同一周期內(nèi)(一轉(zhuǎn))方波的上升沿與振動(dòng)信號(hào)最大峰值處的相位差(時(shí)間差),怎么求?還望大神們相助?。?!不甚感激?。?!
2018-08-31 17:08:04
本帖最后由 gk320830 于 2015-3-8 23:03 編輯
有什么電路元件可以計(jì)算兩輸入端輸入信號(hào)的時(shí)間差,然后根據(jù)時(shí)間差輸出信號(hào)并顯示在顯示屏上。
2012-11-17 08:08:28
如何用labview 求出兩路信號(hào)的峰峰值之差(圖示0減去圖示1)?如何求出兩路信號(hào)相近波峰的時(shí)間差圖示2?如何求出其中一路信號(hào)的周期如圖示3? 萬(wàn)分感謝了!
2014-04-11 14:22:46
如圖,想測(cè)量正負(fù)脈沖之間的時(shí)間差,我現(xiàn)在的想法是當(dāng)正脈沖來(lái)的時(shí)候輸出高電平并且保持,直到負(fù)脈沖來(lái)的時(shí)候輸出0并保持,然后再當(dāng)正脈沖來(lái)的時(shí)候高電平并保持,如此循環(huán),就輸出了一個(gè)方波,然后測(cè)量方波
2017-05-22 08:50:58
關(guān)于PCB多層板線上下單的事情,之前給朋友們說(shuō)了交期,那么,接下來(lái),說(shuō)關(guān)于良率的事情。對(duì)于已經(jīng)在線上下單PCB多層板的朋友,假如對(duì)PCB行業(yè)了解不深,可能對(duì)于關(guān)注良率的事情,會(huì)有“丈二的和尚
2022-08-18 18:22:48
我想要測(cè)得不同位置的兩個(gè)傳感器接收到信號(hào)的時(shí)間差(ps:時(shí)間大概是ms級(jí)的),傳感器輸出是電壓信號(hào),想問(wèn)下能用單片機(jī)完成這個(gè)嗎~
2015-04-07 19:54:13
PCB打樣27元/10片、雙面板小批量260元/平米PCB自動(dòng)報(bào)價(jià)郵箱k@pcbpp.com邦定無(wú)金工藝線路板,實(shí)現(xiàn)上錫好的同時(shí)大大降低成本下降20%,同時(shí)提升產(chǎn)品良率
2019-04-10 13:58:13
應(yīng)用行業(yè):LED顯示屏、U盾、電子稱、數(shù)顯卡尺、萬(wàn)用表工藝介紹:之前邦定板工藝有兩種:一種是沉金:優(yōu)點(diǎn)是上錫好,缺點(diǎn)是不耐磨;另外一種工藝是鍍金,優(yōu)點(diǎn)是耐磨,好邦定,缺點(diǎn)是上錫弱;邦定新工藝可以實(shí)現(xiàn)上錫好的同時(shí)大大降低成本,可以降低20%的成本,還可以提升良率QQ:2414764046
2019-04-09 10:07:14
有一個(gè)波形,我想知道波形最高點(diǎn)到我指定的某個(gè)點(diǎn)之間的
時(shí)間差是多少,本人菜鳥一個(gè),研究了一下午加一晚上,還不知道怎么辦,希望大家?guī)蛶兔Γ?/div>
2016-06-28 21:08:22
在一根旋轉(zhuǎn)軸上同時(shí)采集同周期的振動(dòng)信號(hào)與方波信號(hào),求同一周期內(nèi)(一轉(zhuǎn))方波的上升沿與振動(dòng)信號(hào)最大峰值處的相位差(時(shí)間差),怎么在LabVIEW里實(shí)現(xiàn)?還望大神們相助?。?!不甚感激?。?!
2018-09-04 16:25:29
安路器件差分對(duì)可以設(shè)置輸出信號(hào)的電壓和擺幅么?
2023-08-11 10:19:37
我想做一下09年國(guó)賽的B題,其中,需要用到輸入捕捉。沒(méi)用過(guò),所以沒(méi)太有思路,題目?jī)?nèi)容是發(fā)射機(jī)發(fā)射一個(gè)聲音信號(hào),有兩個(gè)接收機(jī)接收,接收后,比較兩者接收的時(shí)間差,然后做出控制聲音信號(hào)通過(guò)濾波比較處理,輸入stm32的信號(hào)是一個(gè)3.2khz的方波,怎樣求出時(shí)間差呢,要用到32的什么功能呢?
2019-08-07 00:40:22
本人目前做一個(gè)基于延時(shí)單元的兩步式TDC,在仿真上采用改變輸入時(shí)間差跑tran的方式來(lái)得到每一個(gè)數(shù)字字跳變的時(shí)間差,以此計(jì)算分辨率和線性度,但是耗時(shí)太長(zhǎng)了,請(qǐng)問(wèn)還有其他的方法仿真這類TDC分辨率的嗎?
2021-06-24 08:04:06
`本人剛學(xué)習(xí)labview,想做一個(gè)控制示波器的程序,需要自動(dòng)測(cè)量示波器各個(gè)通道之間信號(hào)的時(shí)間差,如下圖所示,請(qǐng)高手指導(dǎo)如何實(shí)現(xiàn)。`
2019-01-14 15:43:54
飛思卡爾運(yùn)用JMP提升半導(dǎo)體良率
飛思卡爾(Freescale)是全球著名的微控制器、射頻半導(dǎo)體、模塊與混合信號(hào)電路、軟件技術(shù)及相關(guān)管理解決方案的供應(yīng)商,其前身是
2010-01-13 12:16:54
2922 
臺(tái)積電稱其已解決造成40nm制程良率不佳的工藝問(wèn)題
據(jù)臺(tái)積電公司高級(jí)副總裁劉德音最近在一次公司會(huì)議上表示,臺(tái)積電40nm制程工藝的良率已經(jīng)提升至與現(xiàn)有65nm制程
2010-01-21 12:22:43
1259 時(shí)間差分法(幀間差分法)opencv和vc代碼實(shí)現(xiàn),用于目標(biāo)檢測(cè)
2016-05-17 10:31:44
13 臺(tái)積電為了趕進(jìn)度已在當(dāng)前試產(chǎn)10nm工藝,不過(guò)臺(tái)媒指其10nm工藝存在較嚴(yán)重的良率問(wèn)題,這意味著其10nm工藝產(chǎn)能將相當(dāng)有限,在它優(yōu)先將該工藝產(chǎn)能供給蘋果的情況下,對(duì)另一大客戶聯(lián)發(fā)科顯然不是好消息。
2016-12-23 10:36:28
860 12月29日消息,之前有海外媒體報(bào)道,臺(tái)積電的10nm工藝量產(chǎn)時(shí)間本來(lái)就較晚,比三星晚了兩個(gè)月,臺(tái)積電為了趕進(jìn)度已在當(dāng)前試產(chǎn)10nm工藝過(guò)程中,出現(xiàn)10nm工藝存在較嚴(yán)重的良率問(wèn)題,對(duì)于聯(lián)發(fā)科來(lái)說(shuō)可謂是雪上加霜的事情。
2016-12-29 10:46:04
876 永磁同步電機(jī)雙率殘差增廣最小二乘參數(shù)辨識(shí)_徐鵬
2017-01-07 17:16:23
0 基于以太網(wǎng)的20路采編傳輸系統(tǒng)的設(shè)計(jì)_于春華
2017-01-16 14:04:30
1 設(shè)施花卉環(huán)境參數(shù)低功耗傳輸及模糊控制研究_徐煥良
2017-02-07 18:37:16
0 的問(wèn)題。其次,在雙向測(cè)距( TWR)算法中增加一條無(wú)線電信息以減小時(shí)鐘偏移引起的測(cè)距誤差,從而提高算法性能。最后,將通過(guò)到達(dá)時(shí)間差( TDOA)定位算法得到的雙曲面方程組進(jìn)行線性化處理后結(jié)合Jacobi迭代法完成求解,避免了使用標(biāo)準(zhǔn)TDOA定位算法
2017-11-28 17:26:51
4 由于印刷天線的性能主要取決于導(dǎo)電油墨之導(dǎo)電粒子固形份含量及印刷膜厚等二樣制程參數(shù),且此二項(xiàng)參數(shù)可掌控影響制程良率結(jié)果的74%,這顯示印刷被動(dòng)式電子標(biāo)簽技術(shù)良率將深受導(dǎo)電油墨材料特性所影響。
2017-12-08 08:20:01
1147 半導(dǎo)體良率取決于許多因素。如果您的設(shè)備使用領(lǐng)先的工藝生產(chǎn),您可能與代工廠不辭辛勞地密切合作以確保工藝和產(chǎn)品良率有一定程度的相應(yīng)提升。不過(guò),如果您的集成電路應(yīng)用面向成熟節(jié)點(diǎn)進(jìn)行了優(yōu)化,良率可能就不會(huì)讓你徹夜難眠了 -- 除非發(fā)生意外。
2018-05-15 15:30:00
4552 
在工藝開發(fā)的早期階段預(yù)測(cè)和提高良率是在測(cè)試掩模上創(chuàng)建測(cè)試宏的主要原因之一。在早期工藝開發(fā)階段發(fā)現(xiàn)潛在故障,使得設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)能夠?qū)嵤┥嫌渭m正措施和/或工藝變更,從而減少生產(chǎn)中達(dá)到期望制造良率所需的時(shí)間。
2019-05-21 17:11:36
4 我們都知道 TDOA 需要測(cè)量到達(dá)時(shí)間差。如果說(shuō) TDOA 定位的前提是需要測(cè)量到達(dá)時(shí)間差,那么測(cè)量到達(dá)時(shí)間差的前提就是時(shí)間必須同步。
2019-06-06 08:00:00
19 電子產(chǎn)品一直在進(jìn)行精致化,功能強(qiáng)大的演變,線路板的布線也是越來(lái)越密,PCB一次良率的提升是個(gè)永遠(yuǎn)的議題。
2019-06-14 14:36:02
7817 集成電路設(shè)計(jì)自動(dòng)化軟件領(lǐng)導(dǎo)企業(yè)新思(Synopsys)近日宣布,面向三星7LPP(7nm Low Power Plus)和更先進(jìn)工藝的良率學(xué)習(xí)平臺(tái)設(shè)計(jì)取得最大突破,也為三星后續(xù)5nm、4nm、3nm工藝的量產(chǎn)和良品率奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。
2019-07-08 15:56:45
3656 大家知道業(yè)界hdi板pcb良率嗎? 對(duì)于PCB廠商來(lái)說(shuō)良率是賴以生存的一個(gè)硬性指標(biāo),相對(duì)而言,良率是沒(méi)有固定值的,但是良率太低的廠商肯定活不下去,這需要廠商不斷的更新維護(hù)設(shè)備、提高生產(chǎn)工藝和技術(shù)手段
2019-10-12 11:19:15
6377 臺(tái)積電的5nm工藝已經(jīng)完成研發(fā),今年下半年試產(chǎn)了,蘋果新一代處理器A14、華為新一代處理器麒麟1000(暫定名)在9月份就流片驗(yàn)證了,臺(tái)積電目前正在積極提升5nm工藝的良率,為明年上半年量產(chǎn)做準(zhǔn)備。
2019-11-30 09:43:18
3981 單片機(jī)芯片生產(chǎn)工藝對(duì)單片機(jī)芯片良率的影響是至關(guān)重要的。這些因素可以細(xì)化到單片機(jī)芯片工藝制程步驟數(shù)量、單片機(jī)生產(chǎn)工藝制程周期、還有封裝和最終測(cè)試,都影響著單片機(jī)芯片工藝良品率。
2020-07-05 11:08:40
3226 通過(guò)失效分類、良率預(yù)測(cè)和工藝窗口優(yōu)化實(shí)現(xiàn)良率預(yù)測(cè)和提升 器件的良率在很大程度上依賴于適當(dāng)?shù)?b class="flag-6" style="color: red">工藝規(guī)格設(shè)定和對(duì)制造環(huán)節(jié)的誤差控制,在單元尺寸更小的先進(jìn)節(jié)點(diǎn)上就更是如此。過(guò)去為了識(shí)別和防止工藝失效,必須
2020-09-04 17:39:40
2645 
工藝來(lái)開發(fā)新產(chǎn)品,但這些工藝本身也需要工程師來(lái)開發(fā)。工藝開發(fā),相較于設(shè)計(jì)新的芯片,對(duì)于工程師以及他們的技能要求完全不同。前者的目標(biāo)在于創(chuàng)造新的半導(dǎo)體制造工藝,不僅要滿足器件性能要求而且要保證高良率。 過(guò)去的開
2020-12-10 18:03:42
2640 
該DRAM案例研究表明,通過(guò)在虛擬環(huán)境中執(zhí)行大量的DOE和工藝變化研究,可以消除不相關(guān)DOE路徑的時(shí)間和成本,并快速實(shí)現(xiàn)性能和良率目標(biāo),從而加快產(chǎn)品上市時(shí)間。
2020-12-24 17:57:36
1124 今天查閱了一下晶圓良率的控制,晶圓的成本和能否量產(chǎn)最終還是要看良率。晶圓的良率十分關(guān)鍵,研發(fā)期間,我們關(guān)注芯片的性能,但是量產(chǎn)階段就必須看良率,有時(shí)候?yàn)榱?b class="flag-6" style="color: red">良率也要減掉性能。 那么什么是晶圓的良率呢
2021-03-05 15:59:50
8329 YieldWerx良率管理軟件介紹.PDF
2021-12-29 14:23:27
21 良率在工業(yè)生產(chǎn)中占據(jù)非常重要的地位,在某些高端制造行業(yè),良率管理能力甚至可以被認(rèn)為是企業(yè)核心競(jìng)爭(zhēng)力。比如在面板生產(chǎn)中,如果面板良率偏低,將會(huì)影響終端設(shè)備如蘋果手機(jī)的出貨量。產(chǎn)品良率也成為了是否能入圍龍頭企業(yè)供應(yīng)鏈的關(guān)鍵指標(biāo)。
2022-03-11 15:57:07
2067 (SiC) 器件的高良率。KLA 公司是工藝控制和先進(jìn)檢測(cè)系統(tǒng)領(lǐng)域的領(lǐng)軍企業(yè)。 ? Soitec 利用其獨(dú)特的專利技術(shù) SmartSiC? 生產(chǎn)碳化硅優(yōu)化襯底,助力提升電力電子設(shè)備的性能以及電動(dòng)汽車
2022-07-22 11:50:36
1261 
關(guān)于PCB多層板線上下單的事情,之前給朋友們說(shuō)了交期,那么,接下來(lái),說(shuō)關(guān)于良率的事情。對(duì)于已經(jīng)在線上下單PCB多層板的朋友,假如對(duì)PCB行業(yè)了解不深,可能對(duì)于關(guān)注良率的事情,會(huì)有“丈二的和尚
2022-08-19 15:40:12
1686 
根據(jù)外媒報(bào)道,據(jù)稱臺(tái)積電新的3nm制造工藝的次品率約為30%。不過(guò)根據(jù)獨(dú)家條款,該公司僅向蘋果收取良品芯片的費(fèi)用!
2023-08-08 15:59:27
1872 提高芯片的良率變得越來(lái)越困難,很多新建的晶圓廠通線數(shù)年仍難以量產(chǎn),有的雖勉強(qiáng)量產(chǎn),但是良率始終無(wú)法爬坡式的提升,很多朋友會(huì)問(wèn):芯片的良率提升真的有那么難嗎?為什么會(huì)這么難?今天來(lái)聊聊。
2023-09-06 09:07:15
8260 
示波器是一種用于檢測(cè)波形的電子設(shè)備,它可以顯示電壓隨時(shí)間的變化。在電子工程和電子測(cè)試中,示波器是一種非常重要的工具。在某些情況下,您可能需要測(cè)量?jī)蓚€(gè)電子設(shè)備之間的時(shí)間差。在這種情況下,示波器可以用來(lái)測(cè)量時(shí)間差。
2023-12-04 14:24:20
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在Mini/Micro LED火熱度狂飆的今天,Mini/Micro LED應(yīng)用存在產(chǎn)品良率低、成本高等現(xiàn)象。
2024-01-25 13:36:18
1940 紫光展銳研發(fā)團(tuán)隊(duì)和西門子EDA在很多領(lǐng)域都有合作,在良率提升方面更是合作緊密。西門子EDA工具SONR的機(jī)器學(xué)習(xí)能力非常強(qiáng)大,在缺陷模型在物理版圖中的匹配起到至關(guān)重要的作用。
2024-01-26 15:12:13
1586 早在今年3月份,韓國(guó)媒體DealSite報(bào)道中指出,全球HBM存儲(chǔ)器的平均良率約為65%。據(jù)此來(lái)看,SK海力士在近期對(duì)HBM3E存儲(chǔ)器的生產(chǎn)工藝進(jìn)行了顯著提升。
2024-05-23 10:22:30
1079 近日,據(jù)韓國(guó)媒體報(bào)道,三星在其1b nm(即12nm級(jí))DRAM內(nèi)存生產(chǎn)過(guò)程中遇到了良率不足的挑戰(zhàn)。目前,該制程的良率仍低于業(yè)界一般目標(biāo)的80%~90%,僅達(dá)到五成左右。為了應(yīng)對(duì)這一局面,三星已在上月成立了專門的工作組,致力于迅速提升良率。
2024-06-12 10:53:41
1408 晶圓實(shí)際被加工的時(shí)間可以以天為單位來(lái)衡量。但由于在工藝站點(diǎn)的排隊(duì)以及由于工藝問(wèn)題導(dǎo)致的臨時(shí)減速,晶圓通常在制造區(qū)域停留數(shù)周。晶圓等待的時(shí)間越長(zhǎng),增加了污染的機(jī)會(huì),這會(huì)降低晶圓分選良率。向準(zhǔn)時(shí)制制造的轉(zhuǎn)變(見后面章節(jié))是提高良率和降低與增加的在線庫(kù)存相關(guān)的制造成本的一次嘗試。
2024-07-01 11:18:01
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激光陀螺儀廣泛應(yīng)用于航空航天、軍事防御、海洋勘探、自動(dòng)駕駛等領(lǐng)域,其高靈敏度、強(qiáng)抗干擾和可靠性源于精密制造技術(shù)。優(yōu)可測(cè)白光干涉儀助力激光陀螺儀鏡片精度提升,提高生產(chǎn)效率和良率。
2024-09-28 08:06:21
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在晶圓制造良率部分討論的工藝變化會(huì)影響晶圓分選良率。在制造區(qū)域,通過(guò)抽樣檢查和測(cè)量技術(shù)檢測(cè)工藝變化。檢查抽樣的本質(zhì)是并非所有變化和缺陷都被檢測(cè)到,因此晶圓在一些問(wèn)題上被傳遞。這些問(wèn)題在晶圓分選中顯現(xiàn)為失敗的設(shè)備。
2024-10-09 09:45:30
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下圖列出了一個(gè)11步工藝,如第5章所示。典型的站點(diǎn)良率列在第3列,累積良率列在第5列。對(duì)于單個(gè)產(chǎn)品,從站點(diǎn)良率計(jì)算的累積fab良率與通過(guò)將fab外的晶圓數(shù)量除以fab線開始的晶圓數(shù)量計(jì)算的良率相同
2024-10-09 09:50:46
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要提高錫膏印刷良率,可以從以下幾個(gè)方面著手。
2025-01-07 16:00:03
816 芯片良率(或成品率)是指在芯片制造過(guò)程中,從一片晶圓上生產(chǎn)出的芯片中,能正常工作的比例,即合格芯片數(shù)量與總芯片數(shù)量的比率。良率的高低反映了生產(chǎn)工藝的成熟度、設(shè)備的精度和穩(wěn)定性、材料質(zhì)量以及設(shè)計(jì)合理性
2024-12-30 10:42:32
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本文介紹了集成電路制造中良率損失來(lái)源及分類。 良率的定義 良率是集成電路制造中最重要的指標(biāo)之一。集成電路制造廠需對(duì)工藝和設(shè)備進(jìn)行持續(xù)評(píng)估,以確保各項(xiàng)工藝步驟均滿足預(yù)期目標(biāo),即每個(gè)步驟的結(jié)果都處于生產(chǎn)
2025-01-20 13:54:01
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nm DRAM。 這一新版DRAM工藝項(xiàng)目被命名為D1B-P,其重點(diǎn)將放在提升能效和散熱性能上。這一命名邏輯與三星此前推出的第六代V-NAND改進(jìn)版制程V6P相似,顯示出三星在半導(dǎo)體工藝研發(fā)上的持續(xù)創(chuàng)新與投入。 據(jù)了解,在決定啟動(dòng)D1B-P項(xiàng)目時(shí),三星現(xiàn)有的12nm級(jí)DRAM工藝良率
2025-01-22 14:04:07
1411 據(jù)韓媒MoneyToday報(bào)道,三星電子已將其1c nm(1-cyano nanometer)DRAM內(nèi)存開發(fā)的良率里程碑時(shí)間從原定的2024年底推遲至2025年6月。這一變動(dòng)可能對(duì)三星在HBM4
2025-01-22 14:27:24
1109 據(jù)韓媒報(bào)道,三星電子已將其1c nm DRAM內(nèi)存開發(fā)的良率里程碑時(shí)間推遲了半年。原本,三星計(jì)劃在2024年底將1c nm制程DRAM的良率提升至70%,以達(dá)到結(jié)束開發(fā)工作、順利進(jìn)入量產(chǎn)階段的要求。然而,實(shí)際情況并未如愿。
2025-01-22 15:54:19
1002 MiniLED焊錫膏在MiniLED制造領(lǐng)域,工藝的每一個(gè)細(xì)節(jié)都決定著產(chǎn)品的成敗。而焊錫膏,這一看似微小的材料,卻承載著連接精密元件、保障良率的核心使命。如今,東莞市大為新材料技術(shù)有限公司以創(chuàng)新破局
2025-04-25 10:37:56
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優(yōu)可測(cè)白光干涉儀(精度0.03nm)&超景深顯微鏡-高精度檢測(cè)方案,助力玻璃基板良率提升至90%,加速產(chǎn)業(yè)高端化進(jìn)程。
2025-05-12 17:48:57
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長(zhǎng)期以來(lái),良率一直被視為芯片廠商和晶圓代工廠的生命線,其不僅是成本控制的關(guān)鍵因素,更是提升生產(chǎn)效率、增加產(chǎn)能以及增強(qiáng)市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力的核心驅(qū)動(dòng)力。
2025-05-21 14:54:17
1163 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,氣泡問(wèn)題一直是影響產(chǎn)品良率和可靠性的重要因素。隨著芯片集成度不斷提高,封裝工藝日益復(fù)雜,如何有效消除制程中的氣泡成為行業(yè)關(guān)注的焦點(diǎn)。
2025-07-23 11:29:35
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廣立微(Semitronix)與國(guó)內(nèi)領(lǐng)先的汽車電子及安全芯片供應(yīng)商紫光同芯,在良率管理領(lǐng)域已開展近兩年深度合作。期間,廣立微DE-YMS系統(tǒng)憑借其快速、精準(zhǔn)的良率損失根因定位能力,有效應(yīng)對(duì)了日益復(fù)雜的芯片制造良率挑戰(zhàn),顯著提升了紫光同芯的良率管理效率與水平。
2025-09-06 15:02:35
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摩爾定律驅(qū)動(dòng)下,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正步入復(fù)雜度空前的新紀(jì)元。先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)的持續(xù)突破疊加國(guó)產(chǎn)化供應(yīng)鏈的深度整合,不僅推動(dòng)芯片性能實(shí)現(xiàn)跨越式發(fā)展,更使良率管理面臨前所未有的技術(shù)挑戰(zhàn)。納米級(jí)尺度下的設(shè)計(jì)缺陷被放大,工藝窗口收窄,任何偏差都可能引發(fā)良率驟降、產(chǎn)品延期。
2025-09-12 16:31:46
2003 
評(píng)論