Flexfilm文章

• 臺(tái)階儀在含S²?環(huán)境中的應(yīng)用：量化TC4鈦合金腐蝕磨損耦合損傷2026-01-28 18:05

  

  TC4鈦合金雖因其優(yōu)異的綜合性能廣泛應(yīng)用于海洋工程裝備，但在實(shí)際服役中，尤其在深海熱液區(qū)、工業(yè)污染區(qū)等含硫離子(S²?)的特殊海水環(huán)境中，材料表面同時(shí)遭受機(jī)械磨損與電化學(xué)腐蝕的協(xié)同作用，導(dǎo)致其失效速率顯著高于單一損傷工況，嚴(yán)重威脅構(gòu)件服役安全。究其根源，S²?作為一種強(qiáng)還原性介質(zhì)，會(huì)破壞鈦合金表面賴以耐蝕的鈍化膜，可能引發(fā)“腐蝕-磨損”的耦合加速損傷，然而目

  測(cè)試 表面輪廓儀 389瀏覽量

• 橢偏儀在Al?O?光波導(dǎo)材料中的應(yīng)用：基于200mmCMOS工藝的低損耗集成技術(shù)2026-01-26 18:03

  

  集成光子學(xué)的發(fā)展推動(dòng)著信息處理與傳感技術(shù)的革新，但其廣泛應(yīng)用受制于一個(gè)核心矛盾：不同應(yīng)用場(chǎng)景需要工作在特定波長(zhǎng)的光，而主流光子材料平臺(tái)難以在紫外至可見(jiàn)光全波段同時(shí)實(shí)現(xiàn)低損耗與CMOS工藝兼容。具體而言，硅材料在紫外波段損耗高、透明窗口有限；新興的氮化硅平臺(tái)在藍(lán)光與紫外區(qū)域的損耗也顯著上升。然而，量子信息處理（如離子阱量子比特操控）和高端傳感（如紫外拉曼光譜）

  CMOS 光波 材料 218瀏覽量

• 臺(tái)階儀在PET復(fù)合膜中的應(yīng)用：非晶ZnO膜厚測(cè)量與界面效應(yīng)表征2026-01-23 18:02

  

  在材料科學(xué)研究中，特別是涉及低維材料與氧化物復(fù)合的薄膜體系，界面的微觀結(jié)構(gòu)與形貌直接影響其宏觀光電性能。精確表征薄膜的厚度與表面形貌是連接制備工藝與性能分析的基礎(chǔ)環(huán)節(jié)。Flexfilm探針式臺(tái)階儀可以實(shí)現(xiàn)表面微觀特征的精準(zhǔn)表征與關(guān)鍵參數(shù)的定量測(cè)量，精確測(cè)定樣品的表面臺(tái)階高度與膜厚，為材料質(zhì)量把控和生產(chǎn)效率提升提供數(shù)據(jù)支撐。本研究采用真空熱蒸發(fā)技術(shù)在柔性PET

  測(cè)量 膜厚 165瀏覽量

• 橢偏儀在AR光學(xué)薄膜制備中的應(yīng)用：高折射率與膜厚測(cè)量2026-01-21 18:11

  

  隨著增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)（AR）技術(shù)在消費(fèi)電子、醫(yī)療及工業(yè)等領(lǐng)域的快速發(fā)展，市場(chǎng)對(duì)高性能光學(xué)元件的需求日益迫切。高折射率光學(xué)組件是實(shí)現(xiàn)設(shè)備輕薄化、擴(kuò)大視場(chǎng)、提升沉浸感的關(guān)鍵。金屬氧化物雖具有高折射率、高透過(guò)率和良好的穩(wěn)定性，是理想材料，但其傳統(tǒng)制造方法——如氣相沉積工藝復(fù)雜、成本高昂，溶膠-凝膠法則需高溫處理，易導(dǎo)致基板不匹配、表面缺陷等問(wèn)題，嚴(yán)重制約了AR光學(xué)元件的規(guī)

  Ar 測(cè)量 薄膜 150瀏覽量

• 臺(tái)階儀在QLED的應(yīng)用：分子前體溶液法制備的金屬硫化物薄膜形貌與厚度表征2026-01-19 18:01

  

  量子點(diǎn)發(fā)光二極管（QLED）作為新一代顯示與照明技術(shù)，其性能高度依賴于電子傳輸層（ETL）與空穴注入層（HIL）的材料特性。傳統(tǒng)有機(jī)材料及某些過(guò)渡金屬氧化物（如ZnO、MoO?）由于電阻率高、空穴濃度低等限制，性能提升有限。金屬硫化物具有組成多樣、帶隙可調(diào)、導(dǎo)電性良好等優(yōu)勢(shì)，在光電器件中展現(xiàn)出巨大潛力。Flexfilm探針式臺(tái)階儀可以實(shí)現(xiàn)表面微觀特征的精準(zhǔn)表

  QLED 薄膜 135瀏覽量

• 光刻膠液體吸收行為的橢圓偏振對(duì)比研究2026-01-16 18:04

  

  在浸沒(méi)式光刻技術(shù)中，為提升分辨率而在鏡頭與晶圓間引入液體介質(zhì)（如去離子水或高折射率液體），卻引發(fā)了光刻膠與液體間復(fù)雜的物理化學(xué)相互作用，成為制約工藝穩(wěn)定性的關(guān)鍵問(wèn)題。光刻膠在接觸水后會(huì)發(fā)生吸水膨脹，導(dǎo)致厚度顯著增加（約7%）并伴隨折射率下降（約-0.4%），且吸水行為受膠體年齡與后處理工藝影響，在表面呈現(xiàn)非均勻分布。此外，液體還可能萃取光刻膠中的光酸產(chǎn)生劑等

  光刻膠 晶圓 317瀏覽量

• 臺(tái)階儀在平板顯示的應(yīng)用：銀導(dǎo)電薄膜的厚度與粗糙度檢測(cè)與優(yōu)化2026-01-14 18:05

  

  有機(jī)發(fā)光二極管（OLED）因其優(yōu)異的光電性能受到廣泛關(guān)注，但其陰極材料制備仍依賴成本高、工藝復(fù)雜的真空蒸鍍技術(shù)。為此，本研究探索溶液法制備銀納米顆?；旅軐?dǎo)電薄膜，以應(yīng)用于OLED陰極及其他電子器件。Flexfilm探針式臺(tái)階儀可以實(shí)現(xiàn)表面微觀特征的精準(zhǔn)表征與關(guān)鍵參數(shù)的定量測(cè)量，精確測(cè)定樣品的表面臺(tái)階高度與膜厚，為材料質(zhì)量把控和生產(chǎn)效率提升提供數(shù)據(jù)支撐。系統(tǒng)

  檢測(cè) 薄膜 122瀏覽量

• 光譜橢偏儀在二維材料光學(xué)表征中的應(yīng)用綜述2026-01-12 18:03

  

  二維材料因其獨(dú)特的電子與光學(xué)性質(zhì)成為前沿研究熱點(diǎn)。準(zhǔn)確表征其光學(xué)響應(yīng)，尤其是復(fù)介電函數(shù)，對(duì)理解其物理機(jī)制與器件應(yīng)用至關(guān)重要。傳統(tǒng)光學(xué)方法受限于信號(hào)強(qiáng)度與靈敏度，而光譜橢偏儀通過(guò)探測(cè)偏振態(tài)變化，能夠?qū)崿F(xiàn)超薄材料的高精度光學(xué)常數(shù)提取，已成為該領(lǐng)域不可或缺的工具。Flexfilm全光譜橢偏儀可以非接觸對(duì)薄膜的厚度與折射率的高精度表征，廣泛應(yīng)用于薄膜材料、半導(dǎo)體和表

  二維材料 光學(xué) 光譜 168瀏覽量

• 臺(tái)階儀在納米薄膜工藝監(jiān)控：基于三臺(tái)階標(biāo)準(zhǔn)的高精度厚度與沉積速率測(cè)定2026-01-09 18:03

  

  納米尺度測(cè)量通常依賴具有納米特征的標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行儀器校準(zhǔn)。目前常見(jiàn)標(biāo)準(zhǔn)樣品多為單臺(tái)階結(jié)構(gòu)，由于儀器非線性，需使用不同高度值進(jìn)行多次校準(zhǔn)。多臺(tái)階標(biāo)準(zhǔn)樣品可減少探針重復(fù)定位，提升校準(zhǔn)效率。原子力顯微鏡與臺(tái)階儀是納米結(jié)構(gòu)測(cè)量的常用設(shè)備，后者具有更大掃描范圍且對(duì)樣品污染不敏感，但噪聲較大且易受環(huán)境振動(dòng)影響。光譜橢偏儀等方法可用于測(cè)量薄膜沉積速率，但其結(jié)果受材料特性與模

  光譜 測(cè)量 薄膜 183瀏覽量

• 橢偏儀在MEMS的應(yīng)用：Er/Sc-AlN薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù)精確表征2026-01-07 18:03

  

  隨著5G通信技術(shù)的快速發(fā)展，智能手機(jī)對(duì)射頻前端濾波器的需求急劇增加，聲表面波（SAW）濾波器因其高聲速、高機(jī)電耦合系數(shù)和低溫漂特性成為研究熱點(diǎn)。傳統(tǒng)LiTaO?等單晶材料存在成本高、聲速低、溫漂大等問(wèn)題，而基于AlN的壓電薄膜SAW濾波器具有成本低、易于集成、性能可調(diào)等優(yōu)勢(shì)，逐漸成為主流選擇。然而，純AlN薄膜的壓電常數(shù)（d33）和機(jī)電耦合系數(shù)（kt）較低，

  mems 光學(xué) 薄膜 202瀏覽量