電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/黃山明）芯片，一直被譽為 人類智慧、工程協(xié)作與精密制造的集大成者 ，而制造芯片的重要設(shè)備光刻機就是 雕刻這個結(jié)晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機還不夠，還需要光刻膠、掩膜版以及
2025-10-28 08:53:35
6234 了全球 EUV 光刻設(shè)備市場，成為各國晶圓廠邁向 7nm、5nm 乃至更先進制程繞不開的 “守門人”。然而，近日俄羅斯科學(xué)院微結(jié)構(gòu)物理研究所公布的一份國產(chǎn) EUV 光刻設(shè)備長期路線圖，引發(fā)了業(yè)界的廣泛關(guān)注與討論 —— 俄羅斯，正在試圖挑戰(zhàn) ASML 的霸權(quán)。 ?
2025-10-04 03:18:009690 
7月16日，全球三大光刻巨頭之一的日本尼康公司宣布，正式推出全球首款專為半導(dǎo)體后道工藝設(shè)計的無掩模光刻系統(tǒng)——DSP-100，這款設(shè)備為先進封裝量身定制，可以容納600mm大基板，并提供1.0μm
2025-07-24 09:29:397818 
新的方向。 ? SK 海力士 ? SK海力士在CES展上展示了公司在推動人工智能時代進步方面所推出的變革性存儲器產(chǎn)品。包括SK海力士的HBM、服務(wù)器DRAM、eSSD、CXL及PIM產(chǎn)品。 ? 作為領(lǐng)先的HBM供應(yīng)商，SK海力士公開了16層HBM3E樣品。這是全球容量最大的HBM產(chǎn)品，48GB 1
2025-01-13 09:11:133033 
M24SR16 - Y：多功能動態(tài)NFC/RFID標簽IC的全面解析 在電子設(shè)備互聯(lián)互通的今天，NFC/RFID技術(shù)的應(yīng)用愈發(fā)廣泛。M24SR16 - Y作為一款動態(tài)NFC/RFID標簽IC，憑借其
2026-01-05 16:50:0526 KSZ8841-16M/-32M：單端口以太網(wǎng)MAC控制器的卓越之選 在當(dāng)今數(shù)字化飛速發(fā)展的時代，以太網(wǎng)技術(shù)在各類電子設(shè)備中扮演著至關(guān)重要的角色。KSZ8841-16M/-32M這一單端口以太網(wǎng)
2025-12-29 15:15:0888 英偉達、SK海力士與群聯(lián)電子共同開發(fā)AI固態(tài)硬盤 ? 日前，據(jù)報道，英偉達與韓國SK海力士共同開發(fā)新型人工智能固態(tài)硬盤，群聯(lián)電子也參與開發(fā)。這款A(yù)I專用固態(tài)硬盤的效能預(yù)計將達到當(dāng)前AI服務(wù)器所用
2025-12-24 10:39:13942 缺貨先說說為什么會出現(xiàn)這種局面。三星和SK海力士從2024年底就開始減產(chǎn)NAND閃存,幅度還不小。SK海力士2025年NAND晶圓出貨量從2024年的201萬顆降
2025-12-16 14:34:16435 
Amphenol signalmate? C091 M16 Q Quicklock連接器：戶外應(yīng)用的理想之選 在電子設(shè)備的設(shè)計中，連接器的選擇至關(guān)重要。一個合適的連接器不僅能夠保證設(shè)備的穩(wěn)定運行
2025-12-12 14:35:07274 ? 在電子設(shè)備不斷發(fā)展的今天，NFC/RFID技術(shù)在眾多領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。M24SR16 - Y作為一款動態(tài)NFC/RFID標簽IC，具有獨特的特性和廣泛的應(yīng)用前景。本文將對M24SR16 - Y
2025-11-30 17:43:531140 
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道，據(jù)韓媒報道，存儲行業(yè)巨頭SK海力士正全力攻克一項全新的性能瓶頸技術(shù)高帶寬存儲HBS。 ? SK海力士研發(fā)的這項HBS技術(shù)采用了創(chuàng)新的芯片堆疊方案。根據(jù)規(guī)劃，該技術(shù)將通過一種名為
2025-11-14 09:11:212446 
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道，近日，韓國首爾舉行的“SK AI Summit 2025”峰會上，SK海力士CEO郭魯正（Kwak Noh-Jung）正式宣布了公司向 “全線AI存儲創(chuàng)造者”（Full
2025-11-08 10:49:083183 EUV（極紫外）光刻技術(shù)憑借 13.5nm 的短波長，成為 7nm 及以下節(jié)點集成電路制造的核心工藝，其光刻后形成的三維圖形（如鰭片、柵極、接觸孔等）尺寸通常在 5-50nm 范圍，高度 50-500nm。
2025-09-20 09:16:09592 method”為題發(fā)表在Optics Express上。 全息光刻相比于主流的投影式光刻，不需要復(fù)雜的投影物鏡系統(tǒng)，設(shè)備成本更低，比傳統(tǒng)接近式光刻的分辨率更高，并且對掩模缺陷不敏感
2025-09-19 09:19:56443 
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道，SK海力士宣布，已正式向客戶供應(yīng)其全球率先實現(xiàn)量產(chǎn)的移動端NAND閃存解決方案產(chǎn)品ZUFS 4.1。 ? SK海力士通過與客戶的密切合作，于今年6月成功完成了該產(chǎn)品的客戶驗證
2025-09-19 09:00:003507 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文 / 吳子鵬）近日，SK 海力士宣布全球率先完成第六代高帶寬存儲器（HBM4）的開發(fā)，并同步進入量產(chǎn)階段，成為首家向英偉達等核心客戶交付 HBM4 的存儲廠商。 ? 據(jù)悉，SK
2025-09-17 09:29:085963 在人工智能（AI）技術(shù)迅猛發(fā)展的當(dāng)下，數(shù)據(jù)處理與存儲能力成為制約其進一步飛躍的關(guān)鍵因素。2025 年 9 月 12 日，韓國半導(dǎo)體巨頭 SK 海力士宣布，已成功完成面向 AI 的超高性能存儲器新產(chǎn)品
2025-09-16 17:31:141363 加工技術(shù)，。光刻機是光刻技術(shù)的核心設(shè)備，它的性能直接決定了芯片制造的良率和成本。
光刻技術(shù)的基本原理是利用光的照射將圖形轉(zhuǎn)移到光致抗?jié)釀┍∧ど稀?光刻技術(shù)的關(guān)鍵指標的分辨率。
光刻技術(shù)的難點在于需要
2025-09-15 14:50:58
當(dāng)?shù)貢r間 8 月 29 日，根據(jù)美國《聯(lián)邦公報》發(fā)布的通知顯示，美國商務(wù)部工業(yè)與安全局（BIS）修訂《出口管理條例》（EAR），將英特爾半導(dǎo)體（大連）有限公司（已被 SK 海力士收購，按原計劃今年
2025-09-02 17:40:11655 據(jù)央視報道；在8月29日，美國商務(wù)部撤銷英特爾半導(dǎo)體（大連）、三星中國半導(dǎo)體及SK海力士半導(dǎo)體（中國）的經(jīng)驗證最終用戶授權(quán)。中方商務(wù)部回應(yīng)稱美方此舉系出于一己之私；美方將出口管制工具化，將對全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈供應(yīng)鏈穩(wěn)定產(chǎn)生重要不利影響，中方對此表示反對。 ?
2025-08-31 20:44:16825 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 隨著集成電路工藝的不斷突破， 當(dāng)制程節(jié)點持續(xù)向7nm及以下邁進，傳統(tǒng)的光刻技術(shù)已難以滿足高精度、高密度的制造需求，此時，波長13.5nm的極紫外（EUV）光刻技術(shù)逐漸成為支撐
2025-08-17 00:03:004219 澤攸科技ZEL304G電子束光刻機（EBL）是一款高性能、高精度的光刻設(shè)備，專為半導(dǎo)體晶圓的高速、高分辨率光刻需求設(shè)計。該系統(tǒng)采用先進的場發(fā)射電子槍，結(jié)合一體化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng)，確保光刻質(zhì)量優(yōu)異且
2025-08-15 15:14:01
Sandisk閃迪公司（NASDAQ：SNDK）正式宣布與SK海力士簽署具有里程碑意義的諒解備忘錄（Memorandum of Understanding，MOU），雙方將攜手制定高帶寬閃存
2025-08-08 13:37:381847 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道，SK海力士截至2025年6月30日的2025財年第二季度財務(wù)報告顯示，公司2025財年第二季度營業(yè)收入為22.232萬億韓元，營業(yè)利潤為9.2129萬億韓元，凈利潤為
2025-08-07 09:30:066211 總建筑面積為67518平方米，總投資額約500億日元，投產(chǎn)后佳能的光刻設(shè)備產(chǎn)能將較2021年翻倍。該工廠將于今年9月啟動最初生產(chǎn)，明后年補充鏡頭加工制造能力。 ? 佳能宇都宮工廠不制造EUV、ArF等較為先進的光刻設(shè)備，而是聚焦i線、KrF等成熟光源
2025-08-05 10:23:382173 與成熟制程市場提供更多設(shè)備產(chǎn)能支持。 據(jù)介紹，這座新工廠是佳能在 2023 年開始動工建設(shè)的，并可能使用自家開發(fā)的 Nanoimprint (納米壓印) 技術(shù)，總投資額超過 500 億日元，涵蓋廠房與先進制造設(shè)備。新廠面積達 6.75 萬平方公尺，投產(chǎn)后將使光刻設(shè)備總產(chǎn)能提
2025-08-04 17:39:28712 近日，SK集團旗下在錫三家ICT企業(yè)，SK海力士半導(dǎo)體（中國）有限公司，英普賽信息技術(shù)（無錫）有限公司，愛思開希恩希系統(tǒng)（北京）有限公司在旺莊街道建發(fā)社區(qū)籌建組社區(qū)黨群服務(wù)中心舉行SK海力士幸福未來教育成長中心2號店啟動儀式。
2025-07-24 11:38:17838 激光（IR）轟擊 Sn 等離子體，從而釋放出 EUV 輻射，隨后通過收集鏡將 EUV 輻射會聚到中間焦點（IF）處。 然而，在這一過程中，冗余的紅外輻射若進入曝光光學(xué)系統(tǒng)，將會產(chǎn)生熱負載，對光刻系統(tǒng)的穩(wěn)定性以及曝光圖樣質(zhì)量造成不良影響。因此，深入研究紅外輻
2025-07-22 17:20:36956 
1969年，40萬名科技工作者憑借堅韌不拔的協(xié)作精神，成功完成登月計劃“阿波羅11號任務(wù)”，開啟了人類探索宇宙的新紀元。2003年，來自6個國家20多家研究機構(gòu)的科學(xué)家，歷經(jīng)13年通力合作，完成了“人類基因組計劃”，重塑了現(xiàn)代醫(yī)學(xué)格局。當(dāng)人類團結(jié)一心，便能夠不斷創(chuàng)造新的輝煌。
2025-07-21 15:57:13742 厚膠量產(chǎn)到ArF浸沒式膠驗證，從樹脂國產(chǎn)化到EUV原料突破，一場靜默卻浩蕩的技術(shù)突圍戰(zhàn)已進入深水區(qū)。 ? 例如在248nm波長的KrF光刻膠武漢太紫微的T150A膠以120nm分辨率和93.7%的良率通過中芯國際28nm產(chǎn)線驗證，開創(chuàng)了國內(nèi)半導(dǎo)體光刻制造的新
2025-07-13 07:22:006083 SK海力士致力于成為“全方位面向AI的存儲器供應(yīng)商（Full Stack AI Memory Provider）”，不僅在DRAM領(lǐng)域持續(xù)創(chuàng)新，在NAND閃存（NAND Flash，以下簡稱NAND
2025-07-10 11:37:591508 SK海力士的成功神話背后，離不開眾多核心技術(shù)的支撐，其中最令人矚目的便是“微細工藝”。通過對肉眼難以辨識的微細電路進行更為精細化的處理，SK海力士憑借壓倒性的技術(shù)實力，引領(lǐng)著全球半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展。這一切的基礎(chǔ)正源于“一個團隊”協(xié)作精神（One-Team Spirit）。
2025-07-03 12:29:501593 圓進行處理，將曝光形成的光刻圖案顯影出來。整個流程對設(shè)備性能要求極高，需要在毫秒級的時間內(nèi)完成響應(yīng)，同時確保納米級的操作精度，如此才能保證光刻工藝的準確性與穩(wěn)定性，進而保障半導(dǎo)體器件的制造質(zhì)量。 （注：圖片
2025-07-03 09:14:54770 
剛接觸電子設(shè)備安裝那會，我總在為選對連接器犯難。曾在組裝一套戶外監(jiān)控設(shè)備時，因選錯連接器類型，設(shè)備沒用多久就出現(xiàn)連接不穩(wěn)定的問題。后來接觸到惟興科技電源連接器 5 芯 M16 接口的產(chǎn)品，才發(fā)現(xiàn)
2025-06-30 15:59:18513 的應(yīng)用。 改善光刻圖形線寬變化的方法 優(yōu)化曝光工藝參數(shù) 曝光是決定光刻圖形線寬的關(guān)鍵步驟。精確控制曝光劑量，可避免因曝光過度導(dǎo)致光刻膠過度反應(yīng)，使線寬變寬；或曝光不足造成線寬變窄。采用先進的曝光設(shè)備，如極紫外（EUV）光刻機
2025-06-30 15:24:55739 
引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域，光刻圖形的垂直度對器件的電學(xué)性能、集成密度以及可靠性有著重要影響。精準控制光刻圖形垂直度是保障先進制程工藝精度的關(guān)鍵。本文將系統(tǒng)介紹改善光刻圖形垂直度的方法，并
2025-06-30 09:59:13489 是 ASML 在極紫外光刻（EUV）技術(shù)基礎(chǔ)上的革命性升級。通過將光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑（NA）從 0.33 提升至 0.55，其分辨率從 13.5nm（半節(jié)距）躍升至 8nm（半節(jié)
2025-06-29 06:39:001916 HY-M8&M16動態(tài)信號測試分析系統(tǒng)介紹
HY-M8/16是一款西安環(huán)測自動化技術(shù)有限公司高性能數(shù)據(jù)采集分析的動態(tài)信號測試分析系統(tǒng)主機。系統(tǒng)采用LAN接口和計算機進行通訊，機箱可
2025-06-25 11:41:37
引言 在晶圓上芯片制造工藝中，光刻膠剝離是承上啟下的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，其效果直接影響芯片性能與良率。同時，光刻圖形的精確測量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法，并探討白光
2025-06-25 10:19:48815 SK海力士在鞏固其面向AI的存儲器領(lǐng)域領(lǐng)導(dǎo)地位方面，HBM1無疑發(fā)揮了決定性作用。無論是率先開發(fā)出全球首款最高性能的HBM，還是確立并保持其在面向AI的存儲器市場的領(lǐng)先地位，這些成就的背后皆源于SK海力士秉持的“一個團隊”協(xié)作精神（One Team Spirit）。
2025-06-18 15:31:021666 在 MEMS（微機電系統(tǒng)）制造領(lǐng)域，光刻工藝是決定版圖中的圖案能否精確 “印刷” 到硅片上的核心環(huán)節(jié)。光刻 Overlay（套刻精度），則是衡量光刻機將不同層設(shè)計圖案對準精度的關(guān)鍵指標。光刻 Overlay 指的是芯片制造過程中，前后兩次光刻工藝形成的電路圖案之間的對準精度。
2025-06-18 11:30:491557 
至關(guān)重要。本文將介紹用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液，并探討白光干涉儀在光刻圖形測量中的應(yīng)用。 用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液 配方設(shè)計 低銅腐蝕光刻膠剝離液需兼顧光刻膠溶解能力與銅保護性能。其主要成分包括有機溶
2025-06-18 09:56:08693 聲波振蕩、等離子體處理和超臨界干燥，確保掩膜板圖案的完整性與光刻精度。該設(shè)備適用于EUV（極紫外光刻）、ArF（氟化氬光刻）及傳統(tǒng)光刻工藝，支持6寸至30寸掩膜板的
2025-06-17 11:06:03
測量對工藝優(yōu)化和產(chǎn)品質(zhì)量控制至關(guān)重要。本文將探討低含量 NMF 光刻膠剝離液及其制備方法，并介紹白光干涉儀在光刻圖形測量中的應(yīng)用。 低含量 NMF 光刻膠剝離液及制備方法 配方組成 低含量 NMF 光刻膠剝離液主要由低濃度 NMF、助溶劑、堿性物質(zhì)、緩蝕劑
2025-06-17 10:01:01678 通過使用光掩膜和光刻膠在基板上復(fù)制流體圖案的過程?；?b class="flag-6" style="color: red">將涂覆硅二氧化層絕緣層和光刻膠。光刻膠在被紫外光照射后可以容易地用顯影劑溶解，然后在腐蝕后，流體圖案將留在基板上。無塵室(Cleanroom)排除掉空間范圍內(nèi)空氣中的微
2025-06-16 14:36:251070 ? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié)，但其可能對器件性能產(chǎn)生負面影響。同時，光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法，并介紹白光
2025-06-14 09:42:56736 大家好，今天咱們來聊聊一個在工業(yè)自動化、機器人、傳感器網(wǎng)絡(luò)等領(lǐng)域里，看似不起眼卻至關(guān)重要的“小家伙”——防水連接器8芯M16插頭。它就像我們身體里的毛細血管，負責(zé)將各種控制信號、傳感器數(shù)據(jù)等“血液
2025-06-09 16:46:29610 
的基礎(chǔ)，直接決定了這些技術(shù)的發(fā)展水平。 二、顯影在光刻工藝中的位置與作用 位置：顯影是光刻工藝中的一個重要步驟，在曝光之后進行。 作用：其作用是將曝光產(chǎn)生的潛在圖形，通過顯影液作用顯現(xiàn)出來。具體而言，是洗去光刻
2025-06-09 15:51:162127 SK海力士于5月20日至23日舉辦的2025年臺北國際電腦展（COMPUTEX Taipei 2025，以下簡稱COMPUTEX）上，展示了其涵蓋AI服務(wù)器、個人電腦和移動設(shè)備等多個領(lǐng)域的豐富
2025-06-05 14:13:561805 
SK海力士宣布，5月19日于首爾COEX麻谷會展中心舉行的“第60屆發(fā)明日紀念儀式”上，來自HBM開發(fā)部門的宋清基TL榮庸銅塔產(chǎn)業(yè)勛章。
2025-06-03 09:36:481001 引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域，光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料，其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時，精準測量光刻圖形對把控工藝質(zhì)量意義重大，白光干涉儀為此提供了有力的技術(shù)保障
2025-05-29 09:38:531108 
近日，SK海力士向無錫市首個應(yīng)急救援驛站（山水城（雪浪街道）石塘社區(qū)）捐贈自動體外除顫儀（AED）設(shè)備，助力提升基層應(yīng)急救援能力，為居民生命健康筑起堅實屏障。
2025-05-28 15:36:51761 近年來，SK海力士屢獲創(chuàng)新成果，這些成就皆得益于“一個團隊”協(xié)作精神（One Team Spirit）”。無論是創(chuàng)下歷史最佳業(yè)績、開發(fā)出全球領(lǐng)先產(chǎn)品，還是躍升成為全球頂級面向AI的存儲器供應(yīng)商，這些
2025-05-23 13:54:361014 。該產(chǎn)品具備全球領(lǐng)先的順序讀取性能與低功耗特性，專為端側(cè)AI進行優(yōu)化；產(chǎn)品厚度減薄15%，適用于超薄旗艦智能手機。 ? SK海力士表示：“為了在移動設(shè)備上實現(xiàn)端側(cè)（On-device）AI的穩(wěn)定運行
2025-05-23 01:04:008530 近日，SK海力士宣布，在首爾江南區(qū)韓國科學(xué)技術(shù)會館舉行的“2025年科學(xué)?信息通訊日紀念儀式”上，公司數(shù)字化轉(zhuǎn)型組織的都承勇副社長榮獲了科學(xué)技術(shù)信息通信部頒發(fā)的銅塔產(chǎn)業(yè)勛章。
2025-05-09 10:29:10969 隨著極紫外光刻（EUV）技術(shù)面臨光源功率和掩模缺陷挑戰(zhàn)，X射線光刻技術(shù)憑借其固有優(yōu)勢，在特定領(lǐng)域正形成差異化競爭格局。
2025-05-09 10:08:491370 
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進步，對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關(guān)，電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長，而電子束聚焦后
2025-05-07 06:03:45
增長42.5%至267.29億美元，環(huán)比減少8.5%。 ? 然而不可忽視的是，在2025年一季度，SK海力士憑借在HBM領(lǐng)域的絕對優(yōu)勢，終結(jié)三星長達四十多年的市場統(tǒng)治地位，以36.7%的市場份額首度登頂全球DRAM市場第一。 ? ? 其實從2024年SK海力士與三星在DRAM上的差距就已經(jīng)開始
2025-05-06 15:50:231210 
光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件可以將gds格式或者gerber格式等半導(dǎo)體通用格式的圖紙轉(zhuǎn)換成如bmp或者tiff格式進行掩模版加工制造，在掩膜加工領(lǐng)域或者無掩膜光刻領(lǐng)域不可或缺，在業(yè)內(nèi)也被稱為矢量圖形光柵化軟件
2025-05-02 12:42:10
光刻膠類型及特性光刻膠（Photoresist），又稱光致抗蝕劑，是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和光刻膠特性。
2025-04-29 13:59:337824 
得益于AI需求的有力推動；高帶寬內(nèi)存(HBM)需求持續(xù)暴漲，這帶動了英偉達供應(yīng)商SK海力士盈利大增158%。 據(jù)SK海力士公布的財務(wù)業(yè)績數(shù)據(jù)顯示，在2025年第一季度SK海力士的營收增長42%；達到
2025-04-24 10:44:261231
三星電子在 HBM3 時期遭遇了重大挫折，將 70% 的 HBM 內(nèi)存市場份額拱手送給主要競爭對手 SK 海力士，更是近年來首度讓出了第一大 DRAM 原廠的寶座。這迫使三星在 HBM4 上采用
2025-04-18 10:52:53
隨著人工智能技術(shù)的迅猛發(fā)展，作為其核心支撐技術(shù)的高帶寬存儲器（以下簡稱HBM）實現(xiàn)了顯著的增長，為SK海力士在去年實創(chuàng)下歷史最佳業(yè)績做出了不可或缺的重要貢獻。業(yè)內(nèi)普遍認為，SK海力士的成長不僅體現(xiàn)在銷售額的大幅提升上，更彰顯了其在引領(lǐng)AI時代技術(shù)變革方面所發(fā)揮的重要作用。
2025-04-18 09:25:59992 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道，據(jù)韓媒報道，SK海力士副總裁李圭（音譯）近日在學(xué)術(shù)會議上表示，SK海力士正在推行混合鍵合在 HBM 上的應(yīng)用。目前正處于研發(fā)階段，預(yù)計最早將應(yīng)用于HBM4E。 ? 據(jù)介紹，目前
2025-04-17 00:05:001060 人工智能與高性能計算（HPC）正以空前的速度發(fā)展，將動態(tài)隨機存取存儲器（DRAM）和NAND閃存等傳統(tǒng)存儲技術(shù)發(fā)揮到極致。為了滿足人工智能時代日益增長的需求，業(yè)界正在探索超越傳統(tǒng)存儲技術(shù)的新興存儲技術(shù)。
2025-04-03 09:40:411709 3 月 28 日消息，根據(jù) SK 海力士向韓國金融監(jiān)管機構(gòu) FSS 披露的文件，該企業(yè)已在當(dāng)?shù)貢r間今日完成了收購英特爾 NAND 閃存及 SSD 業(yè)務(wù)案的第二階段，交易正式完成。 這筆交易
2025-03-28 19:27:581228 
劑量的需求也加劇，從而造成了生產(chǎn)力的瓶頸。DSA技術(shù)：一種革命性的方法DSA技術(shù)通過利用嵌段共聚物的分子行為來解決EUV光刻面臨的挑戰(zhàn)。嵌段共聚物由兩個或多個化學(xué)性
2025-03-19 11:10:061259 
在現(xiàn)代電子設(shè)備的廣泛應(yīng)用中，對于能夠?qū)崿F(xiàn)多種功能集成的微控制器（MCU）的需求日益增長。愛普生S1C17M00/M10系列正是為滿足這一需求而設(shè)計的高性能、低功耗的16位單片機。它們廣泛應(yīng)用于需要
2025-03-14 13:54:30915 
東芝電子元件及存儲裝置株式會社(東芝)近日在其位于日本西部兵庫縣姬路半導(dǎo)體工廠的車載功率半導(dǎo)體后道生產(chǎn)新廠房舉辦了竣工慶祝儀式。新廠房的產(chǎn)能將比2022財年的水平增加一倍以上，并將于2025財年上半年開始全面生產(chǎn)。
2025-03-13 18:08:161279 晶圓代工廠，于2020年9月從Magnachip Semiconductor分拆出來，并于2022年8月成為SK海力士的子公司。SK Powertech前身為Yes Power Technics，于2022年被SK Inc.收購，以其在設(shè)計和制造碳化
2025-03-10 11:15:49749 3 月 6 日消息，綜合韓聯(lián)社、ZDNet Korea、MK 等多家韓媒報道，SK 海力士今日在內(nèi)部宣布將關(guān)閉其 CIS（CMOS 圖像傳感器）部門， 該團隊的員工將轉(zhuǎn)崗至 AI 存儲器領(lǐng)域 。SK
2025-03-06 18:26:161078 據(jù)韓媒報道，SK海力士計劃于今年3月向其位于韓國的M15X晶圓廠派遣大量工程師，為該廠投產(chǎn)高頻寬內(nèi)存（HBM）做最后準備。這一舉措標志著M15X晶圓廠投產(chǎn)的準備工作已進入沖刺階段，預(yù)計將于2025年第四季度正式投產(chǎn)。
2025-02-18 14:46:031276 據(jù)最新報道，SK 海力士為滿足市場對高帶寬存儲器(HBM)的旺盛需求，正緊鑼密鼓地為M15X晶圓廠的投產(chǎn)做全面準備。公司計劃于今年3月向M15X工廠派遣工程師團隊，以確保工廠能夠順利啟動并投入生產(chǎn)
2025-02-18 11:16:58884 列入貿(mào)易限制名單，也對SK海力士的決策產(chǎn)生了影響。業(yè)內(nèi)普遍預(yù)測，SK海力士將全面停止使用中國的EDA軟件，而三星電子也可能緊隨其后，做出類似決定。 若SK海力士與三星電子真的停用中國EDA軟件，它們對美國EDA軟件的依賴程度將顯著增強，這將
2025-02-18 10:51:541080 據(jù)韓國媒體報道，韓國半導(dǎo)體行業(yè)的巨頭SK海力士，為應(yīng)對美國可能出臺的新政策，已開始對其所使用的中國半導(dǎo)體電子設(shè)計自動化(EDA)軟件進行緊急審查。這一舉措反映了全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在地緣政治緊張局勢下
2025-02-18 09:47:04831 ? EUV光刻有多強？目前來看，沒有EUV光刻，業(yè)界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機也是歷史上最復(fù)雜、最昂貴的機器之一。 EUV光刻有哪些瓶頸？ EUV光刻技術(shù)，存在很多難點。 1.1
2025-02-18 09:31:242257 
光刻技術(shù)對芯片制造至關(guān)重要，但傳統(tǒng)紫外光刻受衍射限制，摩爾定律面臨挑戰(zhàn)。為突破瓶頸，下一代光刻（NGL）技術(shù)應(yīng)運而生。本文將介紹納米壓印技術(shù)（NIL）的原理、發(fā)展、應(yīng)用及設(shè)備，并探討其在半導(dǎo)體制造中
2025-02-13 10:03:503709 
據(jù)外媒最新報道，為了應(yīng)對NAND閃存市場的供應(yīng)過剩問題，三星電子與SK海力士兩大半導(dǎo)體巨頭已悄然采取措施，通過工藝轉(zhuǎn)換實現(xiàn)“自然減產(chǎn)”。 據(jù)業(yè)內(nèi)消息透露，自去年年底以來，三星電子和SK海力士正積極
2025-02-12 10:38:13857 SK 海力士近日正式公布了截至2024年12月31日的2024財年及第四季度財務(wù)報告，數(shù)據(jù)顯示，該公司在過去一年中取得了令人矚目的業(yè)績。 2024年全年，SK 海力士營收達到了661929億韓元(約
2025-02-08 16:22:381660 半導(dǎo)體設(shè)備光刻機防震基座的安裝涉及多個關(guān)鍵步驟和考慮因素，以確保光刻機的穩(wěn)定運行和產(chǎn)品質(zhì)量。首先，選擇合適的防震基座需要考慮適應(yīng)工作環(huán)境。由于半導(dǎo)體設(shè)備通常在潔凈的環(huán)境下運行，因此選擇的搬運工具如
2025-02-05 16:48:451240 
光刻是芯片制造過程中至關(guān)重要的一步，它定義了芯片上的各種微細圖案，并且要求極高的精度。以下是光刻過程的詳細介紹，包括原理和具體步驟。?? 光刻原理?????? 光刻的核心工具包括光掩膜、光刻
2025-01-28 16:36:003591 
近日，SK海力士發(fā)布了其截至2024年12月31日的2024財年及第四季度財務(wù)報告，業(yè)績表現(xiàn)出色。 數(shù)據(jù)顯示，SK海力士在2024年全年營收達到了661929億韓元(當(dāng)前約合3346.71億元
2025-01-24 14:00:261054 挑戰(zhàn)傳統(tǒng)，打破限制，勇攀高峰，打破常規(guī)者們在尋求開創(chuàng)性解決方案的過程中重塑規(guī)則。繼SK海力士品牌短片《誰是打破常規(guī)者》播出后，將推出一系列文章，展示公司在重塑技術(shù)、重新定義行業(yè)標準方面采取的各種“打破常規(guī)”的創(chuàng)新舉措。本系列第七篇文章將深入探討SK海力士在CXL技術(shù)領(lǐng)域的研發(fā)進展。
2025-01-24 10:25:271219 
SK海力士近日發(fā)布了截至2024年12月31日的2024財年及第四季度財務(wù)報告，數(shù)據(jù)顯示公司再創(chuàng)佳績。2024財年，SK海力士的營業(yè)收入高達66.1930萬億韓元，營業(yè)利潤達到23.4673萬億韓元，凈利潤更是攀升至19.7969萬億韓元，這一成績刷新了公司歷史上的最佳年度業(yè)績記錄。
2025-01-23 15:49:102056 數(shù)值孔徑 EUV 光刻中的微型化挑戰(zhàn) 晶體管不斷小型化，縮小至 3 納米及以下，這需要完美的執(zhí)行和制造。在整個 21 世紀，這種令人難以置信的縮小趨勢（從 90 納米到 7 納米及更?。╅_創(chuàng)了技術(shù)進步的新時代。 在過去十年中，我們見證了將50
2025-01-22 14:06:531153 
近日，據(jù)最新業(yè)界消息，臺積電計劃在南科三期再建兩座CoWoS新廠，預(yù)計投資金額將超過2000億元新臺幣。這一舉措不僅彰顯了臺積電在先進封裝技術(shù)領(lǐng)域的持續(xù)投入，也對其近期CoWoS砍單傳聞做出了實際擴
2025-01-21 13:43:39875 產(chǎn)品價格。 繼美光和三星宣布減產(chǎn)計劃后，全球第二大NAND Flash廠商SK海力士也宣布了減產(chǎn)決定。據(jù)悉，SK海力士計劃將上半年NAND Flash存儲器的產(chǎn)量削減10%。這一決定無疑將對市場產(chǎn)生深遠影響。 根據(jù)機構(gòu)先前發(fā)布的報告，SK海力士在NAND Flash存儲器領(lǐng)
2025-01-20 14:43:551095 本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類，光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片光刻機和面板光刻機。面板光刻機的工作原理和芯片光刻機相似
2025-01-16 09:29:456357 
在Hot Chips 2024上，海力士專注于AI加速器的標準DRAM之外的產(chǎn)品。該公司展示了其在內(nèi)存計算方面的最新進展，這次是用其AiMX-xPU和LPDDR-AiM進行LLM推理。其理念是，無需
2025-01-09 16:08:041322 
芯片制造、價值1.5億美元的極紫外（EUV，https://spectrum.ieee.org/tag/euv）光刻掃描
2025-01-09 11:31:181280 SK海力士今年計劃大幅提升其高帶寬內(nèi)存（HBM）的DRAM產(chǎn)能，目標是將每月產(chǎn)能從去年的10萬片增加至17萬片，這一增幅達到了70%。此舉被視為該公司對除最大客戶英偉達外，其他領(lǐng)先人工智能（AI）芯片公司需求激增的積極回應(yīng)。
2025-01-07 16:39:091306 SK海力士重返拉斯維加斯，參加2025年國際消費類電子產(chǎn)品展覽會（Consumer Electronics Show，以下簡稱“CES”），并展示其顛覆行業(yè)的面向人工智能的存儲創(chuàng)新技術(shù)。CES 2025于1月7日至10日舉行，匯聚了全球領(lǐng)先科技公司的頂尖人才與突破性技術(shù)，共同引領(lǐng)未來科技的發(fā)展潮流。
2025-01-07 16:20:461440 泊蘇 Type C 系列防震基座在半導(dǎo)體光刻加工電子束光刻設(shè)備的應(yīng)用案例-江蘇泊蘇系統(tǒng)集成有限公司一、企業(yè)背景與光刻加工電子束光刻設(shè)備挑戰(zhàn)某大型半導(dǎo)體制造企業(yè)專注于高端芯片的研發(fā)與生產(chǎn)
2025-01-07 15:13:21
納米級別的分辨率。本文將詳細介紹光刻機的主要組成部分及其功能。 光源系統(tǒng) ? 光源系統(tǒng)是光刻機的心臟，負責(zé)提供曝光所需的能量。早期的光刻機使用汞燈作為光源，但隨著技術(shù)的進步，目前多采用深紫外（DUV）或極紫外（EUV）光源，
2025-01-07 10:02:304530 
的專題演講外，有傳聞稱黃仁勛還將與SK集團的會長崔泰源進行一場視頻對談。這場對談預(yù)計將聚焦于高頻寬記憶體(HBM)的最新發(fā)展，特別是英偉達與SK海力士在新一代HBM4方面的合作。據(jù)媒體報道，去年11月崔泰源曾透露，英偉達已要求SK海力士提前半年出貨新一代
2025-01-06 13:54:105989
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