1. 英特爾將獲美國35億美元芯片補貼
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美國國會助理表示,美國政府計劃對英特爾補貼35億美元,以生產(chǎn)軍用先進半導體,該預(yù)算編列在當?shù)貢r間3月6日通過的一項快速支出法案中。
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這筆資金為期三年,用于支持所謂“安全飛地(secure enclave)”的計劃。計劃的資金來自總金額390億美元的《芯片和科學法案》。芯片法案立法的宗旨是鼓勵芯片制造商在美國生產(chǎn)半導體,目前已有600多家公司表明希望獲得補助。2023年11月有報道稱,英特爾正協(xié)商就“安全飛地”的計劃爭取30億至40億美元的補貼。另有報道稱,英特爾有望從芯片法案拿到超過100億美元的現(xiàn)金和貸款補助。
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2. 美光將首先采用佳能納米壓印光刻機,降低DRAM生產(chǎn)成本
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美國存儲廠商美光計劃首先采用日本佳能的納米壓?。∟IL)光刻機,希望借此進一步降低生產(chǎn)DRAM存儲器的成本。美光日前舉辦演講,介紹納米壓印技術(shù)用于DRAM生產(chǎn)的細節(jié)。美光闡述了DRAM制程和浸潤式曝光解析度的問題,通過Chop層數(shù)不斷增加,必須增加更多曝光步驟,以取出密集存儲陣列周圍的虛置結(jié)構(gòu)。
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由于光學系統(tǒng)特性,DRAM層圖案很難用光學曝光圖案,納米壓印可實現(xiàn)更精細的圖案,且成本是浸潤式光刻的20%,成為較佳的解決方案。但納米壓印并不能在存儲器生產(chǎn)所有階段取代傳統(tǒng)光刻,兩者并非純粹競爭關(guān)系,但至少可以降低部分技術(shù)操作成本。佳能于2023年10月推出新型FPA-1200NZ2C納米壓印光刻機,可將電路圖案直接印在晶圓上,佳能強調(diào)了該設(shè)備的低成本和低功耗,其前景成為行業(yè)爭論的話題。
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3. 傳三星與應(yīng)用材料合作簡化EUV光刻技術(shù)
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消息稱三星電子正在與應(yīng)用材料公司合作,希望減少極紫外(EUV)工藝步驟的數(shù)量,如果成功,將有助于降低半導體生產(chǎn)成本。韓國業(yè)界表示,隨著越來越多的公司采用EUV工藝,預(yù)計許多公司將開始投資減少EUV工藝步驟的技術(shù)。
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業(yè)內(nèi)消息人士稱,三星正在嘗試與應(yīng)用材料公司合作,以減少4nm的工藝步驟數(shù)量。這將主要通過應(yīng)用材料的“Centura Sculpta”圖案化系統(tǒng)來實現(xiàn),該系統(tǒng)于2023年開發(fā),旨在減少EUV工藝步驟。Centura Sculpta是一種圖案成型系統(tǒng),可幫助客戶減少光刻時間。應(yīng)用材料在2023年2月表示,光刻技術(shù)正變得越來越復雜和昂貴,新技術(shù)方法可以簡化芯片生產(chǎn)流程,同時減少浪費和環(huán)境影響。應(yīng)用材料聲稱,Centura Sculpta可以將每片晶圓的生產(chǎn)成本降低50美元以上。
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4. 高塔半導體回應(yīng)工廠停工:仍將按計劃履行晶圓交付承諾
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近日媒體報道稱,在行業(yè)放緩的情況下,高塔半導體計劃對其美國紐波特海灘市(Newport Beach)的大部分業(yè)務(wù)進行為期三周的停工,此舉將使近700名員工休假。高塔半導體確認將于4月1日至7日關(guān)閉其大部分業(yè)務(wù),并計劃在7月1日至7日和10月7日至13日關(guān)閉更多業(yè)務(wù)。
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對此,高塔半導體發(fā)布聲明指出,Tower Newport Beach工廠計劃在 4 月 1 日至 4 月 7 日期間進行維護,晶圓上線計劃和生產(chǎn)在此期間會受限制。因為這是一次計劃中的正常維護,我們?nèi)詫从媱澛男芯A交付承諾。Tape out工作將繼續(xù)進行,不會中斷。
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5. 傳HBM良率僅為65%,存儲大廠力爭通過英偉達測試
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HBM高帶寬存儲芯片被廣泛應(yīng)用于最先進的人工智能(AI)芯片,據(jù)業(yè)界消息,英偉達的質(zhì)量測試對存儲廠商提出挑戰(zhàn),因為相比傳統(tǒng)DRAM產(chǎn)品,HBM的良率明顯較低。
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臺積電、三星代工等公司,此前在加工單一硅晶圓時一直面臨將良率維持在最佳水平的挑戰(zhàn),但當前這一問題蔓延到了HBM行業(yè)。消息稱美光、SK海力士等存儲廠商,在英偉達下一代AI GPU的資格測試中將進行競爭,似乎差距不大,而良率將是廠商們的阻礙。消息人市場稱,目前HBM存儲芯片的整體良率在65%左右,其中美光、SK海力士似乎在這場競爭中處于領(lǐng)先地位。據(jù)悉,美光已開始為英偉達當前最新的H200 AI GPU生產(chǎn)HBM3e存儲芯片,因為其已通過Team Green設(shè)定的認證階段。
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6. 消息稱特斯拉 FSD Beta 輔助駕駛功能 2025 年登陸歐洲,中國最快今年夏天開始測試
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@Florian Minderop 表示,歐盟已經(jīng)在剛剛舉行的世界車輛法規(guī)協(xié)調(diào)論壇(WP.29)上通過了新規(guī),確認特斯拉 FSD 歐洲版將于 2025 年登陸歐洲市場,這一消息還得到了 @Teslascope 的證實。
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@Teslascope 還補充道,特斯拉 FSD Beta 測試版可能會從今年 10 月開始在歐盟部分地區(qū)進行測試。此外,特斯拉 FSD Beta 中國版也在快速推進中,目前暫定的發(fā)布目標是今年夏天。實際上,今年以來已經(jīng)傳出多次“特斯拉 FSD 入華”的消息,但特斯拉官方只表示“目前沒有推出的準確時間”。不過早在去年 11 月,隨著四部委聯(lián)合印發(fā)通知部署開展智能網(wǎng)聯(lián)汽車準入、上路通行試點工作,特斯拉 FSD 當時也被認為進入“倒計時”階段。特斯拉中國曾回應(yīng)稱:“目前確實正在推進中”。
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今日看點丨美光將首先采用佳能納米壓印光刻機;傳三星與應(yīng)用材料合作簡化EUV光刻技術(shù)
- 美光(53281)
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2542
25421.2億美元光刻機
荷蘭阿斯麥(ASML)公司的光刻機作為世界上最貴最精密的儀器,相信大家都有耳聞,它是加工芯片的設(shè)備。其最先進的EUV(極紫外光)光刻機已經(jīng)能夠制造7nm以下制程的芯片,據(jù)說一套最先進的7納米EUV
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5352AMSL宣布:無須美國許可同意可向中國供貨DUV光刻機,但EUV受限
光刻機,在整個芯片生產(chǎn)制造環(huán)節(jié),是最最最核心的設(shè)備,技術(shù)難度極高。在全球光刻機市場,日本的尼康、佳能,和荷蘭的ASML,就占據(jù)了市場90%以上份額。而最高級的EUV(極紫外光)技術(shù),則更是只有荷蘭的ASML一家可以掌握。
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23697EUV光刻機還能賣給中國嗎?
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2020-10-19 12:02:49
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三星急需EUV光刻機趕產(chǎn)量_2022年或將再購買60部EUV設(shè)備
根據(jù)韓國媒體《BusinessKorea》的報道,日前三星電子副董事長李在镕前往荷蘭拜訪光刻機大廠ASML,其目的就是希望ASML的高層能答應(yīng)提早交付三星已經(jīng)同意購買的極紫外光光刻設(shè)備(EUV)。
2020-10-24 09:37:30
3414
3414ASML答應(yīng)提早交付三星已經(jīng)同意購買的極紫外光光刻設(shè)備(EUV)?
日前三星電子副董事長李在镕前往荷蘭拜訪光刻機大廠ASML,其目的就是希望ASML 的高層能答應(yīng)提早交付三星已經(jīng)同意購買的極紫外光光刻設(shè)備(EUV)。
2020-10-24 09:39:06
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2041三星副會長跑ASML總部去催貨光刻機
作為半導體生產(chǎn)中的重要設(shè)備,光刻機不可或缺,尤其是7nm以下先進工藝生產(chǎn)離不開的EUV光刻機,目前全球只有荷蘭ASML公司能夠生產(chǎn),而臺積電、三星、英特爾等晶圓生產(chǎn)大廠,都有迫切需求,因此這個市場
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2398
2398EUV光刻機加持,SK海力士宣布明年量產(chǎn)EUV工藝內(nèi)存
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3971SK海力士加速量產(chǎn)第四代內(nèi)存,將配備EUV光刻機
目前,EUV光刻機的部署安裝主要在臺積電、三星的晶圓代工廠。不過,內(nèi)存廠商們也開始著手上馬了。
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1610ASML表示將向國內(nèi)市場出售更多的DUV光刻機
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2794ASML高管訪問三星討論EUV光刻設(shè)備供應(yīng)和開發(fā)合作
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1953為何只有荷蘭ASML才能制造頂尖EUV光刻機設(shè)備?
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7525三星擴大部署EUV光刻工藝
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2674什么是納米壓印光刻技術(shù)
產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)技術(shù)。目前,納米壓印技術(shù)在國際半導體藍圖(ITRS)中被列為下一代32nm、22nm和16nm節(jié)點光刻技術(shù)的代表之一。國內(nèi)外半導體設(shè)備制造商、材料商以及工藝商紛紛開始涉足這一領(lǐng)域,短短25年,已經(jīng)取得很大進展。 ? 納米壓印技術(shù)首先通過接觸式壓印
2021-01-03 09:36:00
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28855
消息稱美光或開發(fā)EUV應(yīng)用技術(shù)
根據(jù)韓國媒體《Etnews》報導指出,目前全球3大DRAM存儲器中尚未明確表示采用EUV極紫外光刻機的美商美光(Micron),因日前招聘網(wǎng)站開始征求EUV工程師,揭露美光也在進行EUV運用于DRAM先進制程,準備與韓國三星、SK海力士競爭
2020-12-25 14:33:10
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1952為何EUV光刻機會這么耗電呢
?OFweek君根據(jù)公開資料整理出了一些原因,供讀者參考。 與DUV(深紫外光)光刻機相比,EUV光刻機的吞吐量相對較低,每小時可曝光處理的晶圓數(shù)量約在120片-175片之間,技術(shù)改進后,速度可以提升至275片每小時。但相對而言,EUV生產(chǎn)效率還是更高,
2021-02-14 14:05:00
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4746為什么都搶著買價格更昂貴的EUV光刻機?
目前,還有ASML有能力生產(chǎn)最先進的EUV光刻機,三星、臺積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協(xié)定》的制約,中國大陸沒有從ASML買來一臺EUV光刻機。
2021-01-21 08:56:18
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5443ASML壟斷第五代光刻機EUV光刻機:一臺利潤近6億
%,凈利潤達到36億歐元。全球光刻機主要玩家有ASML、尼康和佳能三家,他們占到了全球市場90%。 ASML由于技術(shù)領(lǐng)先,一家壟斷了第五代光刻機EUV光刻機,這類光刻機用于制造7nm以下先進制程的芯片。 2020年ASML對外銷售了31臺EUV光刻機,帶來了45億歐元(折合352.52億
2021-01-22 10:38:16
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5843
ASML下一代EUV光刻機延期:至少2025年
ASML公司前兩天發(fā)布了財報,全年凈銷售額140億歐元,EUV光刻機出貨31臺,帶來了45億歐元的營收,單價差不多11.4億歐元了。 雖然業(yè)績增長很亮眼,但是ASML也有隱憂,實際上EUV光刻機
2021-01-22 17:55:24
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3621SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機
隨著半導體工藝進入10nm節(jié)點以下,EUV光刻機成為制高點,之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機,率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝,現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了,SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機。
2021-02-25 09:28:55
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2324SK海力士砸4.8萬億韓元買EUV光刻機
隨著半導體工藝進入10nm節(jié)點以下,EUV光刻機成為制高點,之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機,率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝,現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了,SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機。
2021-02-25 11:39:09
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2438中國有望獨立生產(chǎn)EUV光刻機,打破ASML壟斷
一提起ASML這家公司,就少不了對光刻機問題的討論,因為截至目前,ASML仍然是全球最領(lǐng)先的光刻機廠商。普通的DUV光刻機就不多說了,ASML每年都能賣出去很多臺,而在更先進的EUV光刻機方面,ASML更是占據(jù)了絕對壟斷的地位。
2021-02-27 09:59:42
16218
16218中國有望解決光刻機“卡脖子”難題
放眼全球光刻機制造領(lǐng)域,荷蘭ASML是當之無愧的第一巨頭。ASML一臺EUV光刻機賣價十多億,可即便如此臺積電和三星依舊會搶著購買。
2021-03-02 15:09:08
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5565三星積極向唯一EUV光刻機廠商ASML爭取訂單
三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機廠商ASML爭取訂單,另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
2021-03-04 09:52:41
2409
2409新成果有望解決自主研發(fā)光刻機的“卡脖子”難題
在芯片制造的產(chǎn)業(yè)鏈中,光刻機是必不可少的精密設(shè)備,是集成電路芯片制造中最復雜和關(guān)鍵的工藝步驟。“我國EUV光刻機的自主研發(fā)還有很長的路要走,基于SSMB的EUV光源有望解決自主研發(fā)光刻機中最核心的‘卡脖子’難題?!碧?b class="flag-6" style="color: red">傳祥說。
2021-03-10 15:45:51
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3609中科院5nm光刻技術(shù)與ASML光刻機有何區(qū)別?
5nm光刻技術(shù)與ASML光刻機有何區(qū)別? EUV光刻機產(chǎn)能如何? 大飛_6g(聽友) 請問謝博士,EUV光刻機的產(chǎn)能是怎樣的?比如用最先進的光刻機,滿負荷生產(chǎn)手機芯片麒麟990,每天能產(chǎn)多少片?中芯國際有多少臺投入生產(chǎn)的光刻機?是1臺、5臺還是10臺呢?謝謝 謝志
2021-03-14 09:46:30
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25243ASML第二代EUV光刻機跳票三年,售價恐貴出天際
的。臺積電、三星、Intel的7nm、5nm,以及未來的3nm、2nm都要依賴EUV光刻機,單臺售價超過1億美元,成本極高。 目前,ASML的EUV光刻機使用的還是第一代,EUV光源波長在13.5nm
2021-06-26 16:55:28
1795
1795光刻機原理介紹
光刻機,是現(xiàn)代光學工業(yè)之花,是半導體行業(yè)中的核心技術(shù)。 ? ? ? ?可能有很多人都無法切身理解光刻機的重要地位,光刻機,是制造芯片的機器,要是沒有了光刻機,我們就沒有辦法造出芯片,自然也就
2021-07-07 14:31:18
130297
130297美國出手阻撓!禁止荷蘭將EUV光刻機賣給中國大陸
),中方希望將這款價值1.5億美元的機器用于大陸芯片制造。 這款180噸重、售價1.5億美元的設(shè)備是艾司摩爾招牌產(chǎn)品,稱為「極紫外光(EUV)微影系統(tǒng)」,是制造最先進微處理器必需。英特爾、三星電子、臺積電等公司都使用EUV設(shè)備,生產(chǎn)用于智慧手機、
2021-07-21 16:52:25
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2514美國出手阻撓,禁止荷蘭將EUV光刻機賣給中國大陸
光刻機設(shè)備(極紫外光刻機),中方希望將這款價值1.5億美元的機器用于大陸芯片制造。 這款180噸重、售價1.5億美元的設(shè)備是艾司摩爾招牌產(chǎn)品,稱為「極紫外光(EUV)微影系統(tǒng)」,是制造最先進微處理器必需。英特爾、三星電子、臺積電等公司都使用EUV設(shè)備,生
2021-07-25 17:35:15
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3479EUV光刻機何以造出5nm芯片
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/周凱揚)作為近乎壟斷的光刻機巨頭,ASML的EUV光刻機已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星,EUV光刻機的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆,也成了
2021-12-07 14:01:10
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12038光刻膠和光刻機的關(guān)系
光刻膠是光刻機研發(fā)的重要材料,換句話說光刻機就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕跡,就需要網(wǎng)硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:00
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15756光刻機干啥用的
光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前有用于生產(chǎn)的光刻機,有用于LED制造領(lǐng)域的光刻機,還有用于封裝的光刻機。光刻機是采用類似照片沖印的技術(shù),然后把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:00
90746
90746關(guān)于EUV光刻機的缺貨問題
臺積電和三星從7nm工藝節(jié)點就開始應(yīng)用EUV光刻層了,并且在隨后的工藝迭代中,逐步增加半導體制造過程中的EUV光刻層數(shù)。
2022-05-13 14:43:20
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3214
三星董事李在镕親自拜訪ASML,只為爭取到EUV光刻機
媒體稱三星的目的是為了搶到ASML的EUV光刻機。 目前芯片短缺的現(xiàn)狀大家也都清楚,再加上7nm制程以下的高端芯片只有EUV光刻機才能打造,而本來EUV光刻機就稀少,因此先進芯片發(fā)展頻頻受限,并且前段時間三星才剛剛和Intel洽談完芯片合作的事宜,因
2022-06-07 14:18:04
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1761臺積電將于2024年引進ASML最新EUV光刻機,主要用于相關(guān)研究
引進ASML最先進的High-NA EUV光刻機,并且推動臺積電的創(chuàng)新能力。不過另一位高管補充道:臺積電并不打算在2024年將High-NA EUV光刻機投入到生產(chǎn)工作中去,將首先與合作伙伴進行相關(guān)的研究。 據(jù)了解,High-NA EUV光刻機的High-NA代表的是高數(shù)值孔徑,相比于現(xiàn)在的光刻技術(shù),
2022-06-17 16:33:27
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7596荷蘭AMSL公司正在研發(fā)一種新版本的EUV光刻機
據(jù)CNBC報道稱,世界聞名的先進光刻機智造商荷蘭AMSL公司正在研發(fā)一種新版本的EUV光刻機。
2022-06-18 08:13:03
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2334新EUV光刻機售價超26億,Intel成為首位買家,將于2025年首次交付
在芯片研發(fā)的過程中,光刻機是必不可少的部分,而隨著芯片制程工藝的不斷發(fā)展,普通的光刻機已經(jīng)不能滿足先進制程了,必須要用最先進的EUV光刻機才能完成7nm及其以下的先進制程,而目前臺積電和三星都在攻克
2022-06-28 15:07:12
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8591euv光刻機三大核心技術(shù) 哪些公司有euv光刻機
中國芯的進步那是有目共睹,我國在光刻機,特別是在EUV光刻機方面,更是不斷尋求填補空白的途徑。
2022-07-05 10:38:35
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18612三星可生產(chǎn)euv光刻機嗎 euv光刻機每小時產(chǎn)能
隨著芯片制程工藝的更新迭代,芯片已進入納米時代,指甲蓋大小的芯片上集成的晶體管數(shù)量高達百億。然而芯片制造最大的困難是光刻機。
2022-07-05 10:57:26
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6569三星斥資買新一代光刻機 中芯光刻機最新消息
三星電子和ASML就引進今年生產(chǎn)的EUV光刻機和明年推出高數(shù)值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機達成采購協(xié)議。
2022-07-05 15:26:15
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6764euv光刻機出現(xiàn)時間 ASML研發(fā)新一代EUV光刻機
EUV光刻機是在2018年開始出現(xiàn),并在2019年開始大量交付,而臺積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:44
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5306euv光刻機目前幾納米 中國5納米光刻機突破了嗎
大家都知道,芯片制造的核心設(shè)備之一就是光刻機了?,F(xiàn)在,全球最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機,那么euv光刻機目前幾納米呢? 到現(xiàn)在,世界上最先進的光刻機能夠?qū)崿F(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:42
53101
53101euv光刻機是哪個國家的
是哪個國家的呢? euv光刻機許多國家都有,理論上來說,芯片強國的光刻機也應(yīng)該很強,但是最強的光刻機制造強國,不是美國、韓國等芯片強國,而是荷蘭。 EUV光刻機有光源系統(tǒng)、光學鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前,在全世
2022-07-10 11:42:27
8556
8556euv光刻機是干什么的
可以生產(chǎn)出納米尺寸更小、功能更強大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機生產(chǎn)。 EUV光刻機有光源系統(tǒng)、光學鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前,最先進的光刻機是荷蘭ASML公司的EUV光刻機。預(yù)計在光路系統(tǒng)的幫助下,能
2022-07-10 14:35:06
7938
7938duv光刻機和euv光刻機區(qū)別是什么
目前,光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線,EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù),EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:10
87067
87067euv光刻機原理是什么
光刻機的原理是接近或接觸光刻,通過無限接近,將圖案復制到掩模上。直寫光刻是將光束聚焦到一個點上,通過移動工作臺或透鏡掃描實現(xiàn)任意圖形處理。投影光刻是集成電路的主流光刻技術(shù),具有效率高、無損傷等優(yōu)點。 EUV光刻機有光源系統(tǒng)、光學鏡頭、雙工
2022-07-10 15:28:10
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18347euv光刻機用途是什么
光刻機是當前半導體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備,其技術(shù)含量和價值含量都很高。那么euv光刻機用途是什么呢?下面我們就一起來看看吧。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學、精密運動、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制等
2022-07-10 16:34:40
5149
5149EUV光刻技術(shù)相關(guān)的材料
與此同時,在ASML看來,下一代高NA EUV光刻機為光刻膠再度帶來了挑戰(zhàn),更少的隨機效應(yīng)、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統(tǒng)的正膠和負膠肯定是沒法用了,DUV光刻機上常用的化學放大光刻膠(CAR)也開始在5nm之后的分辨率和敏感度上出現(xiàn)瓶頸
2022-07-22 10:40:08
3923
3923除ASML之外的光刻機廠商們近況如何?
廠商尼康和佳能為例,他們就仍在堅持開發(fā)并擴展自己的光刻機業(yè)務(wù)。 尼康 尼康的光刻機產(chǎn)品陣容比較全面,包括ArF浸沒式掃描光刻機、ArF步進掃描光刻機、KrF掃描光刻機、i線步進式光刻機和FPD面板光刻機,基本涵蓋了除EUV以外的主流光刻機
2022-11-24 07:10:03
5174
5174納米壓印光刻,能讓國產(chǎn)繞過ASML嗎?
日本最寄望于納米壓印光刻技術(shù),并試圖靠它再次逆襲,日經(jīng)新聞網(wǎng)也稱,對比EUV光刻工藝,使用納米壓印光刻工藝制造芯片,能夠降低將近四成制造成本和九成電量,鎧俠 (KIOXIA)、佳能和大日本印刷等公司則規(guī)劃在2025年將該技術(shù)實用化。
2023-03-22 10:20:39
3972
3972三星希望進口更多ASML EUV***,5年內(nèi)新增50臺
EUV曝光是先進制程芯片制造中最重要的部分,占據(jù)總時間、總成本的一半以上。由于這種光刻機極為復雜,因此ASML每年只能制造約60臺,而全球5家芯片制造商都依賴ASML的EUV光刻機,包括英特爾、美光、三星、SK海力士、臺積電。目前,AMSL約有70%的EUV光刻機被臺積電購買。
2023-11-22 16:46:56
1198
1198可繞過EUV量產(chǎn)5nm!佳能CEO:納米壓印設(shè)備無法賣到中國!
雖然目前在光刻機市場,還有尼康和佳能這兩大供應(yīng)商,但是這兩家廠商的產(chǎn)品主要都是被用于成熟制程芯片的制造,全球市場份額僅有10%左右,ASML一家占據(jù)了90%的市場份額,并壟斷了尖端的EUV光刻機的供應(yīng)。
2023-11-23 16:14:45
2060
2060
佳能推出5nm芯片制造設(shè)備,納米壓印技術(shù)重塑半導體競爭格局?
佳能近日表示,計劃年內(nèi)或明年上市使用納米壓印技術(shù)的光刻設(shè)備FPA-1200NZ2C。對比已商業(yè)化的EUV光刻技術(shù),雖然納米壓印的制造速度較傳統(tǒng)方式緩慢,但由于制程簡化,耗電僅為EUV的十分之一,且投資額也僅為EUV設(shè)備的四成。
2024-01-31 16:51:18
2045
2045佳能預(yù)計到2024年出貨納米壓印光刻機
Takeishi向英國《金融時報》表示,公司計劃于2024年開始出貨其納米壓印光刻機FPA-1200NZ2C,并補充說芯片可以輕松以低成本制造。2023年11月,該公司表示該設(shè)備的價格將比ASML的EUV機器便宜一位數(shù)。 佳能表示,與利用光曝光電路圖案的傳統(tǒng)光刻技術(shù)不同,納米壓印光刻不需要光源,利用
2024-02-01 15:42:05
1616
1616
臺積電A16制程采用EUV光刻機,2026年下半年量產(chǎn)
據(jù)臺灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機,而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機進行生產(chǎn)。相較之下,英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-NA EUV光刻機。
2024-05-17 17:21:47
2030
2030Rapidus對首代工藝中0.33NA EUV解決方案表示滿意,未采用高NA EUV光刻機
在全球四大先進制程代工巨頭(包括臺積電、三星電子、英特爾以及Rapidus)中,只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機進行大規(guī)模生產(chǎn)。
2024-05-27 14:37:22
1245
1245今日看點丨TCL收購LGD廣州廠;佳能首次出貨納米壓印光刻機
其中。 ? 報道援引知情人士的消息稱,蘋果退出了最近一輪的談判,該輪融資預(yù)計將于下周結(jié)束。另外兩家科技巨頭公司微軟和英偉達也參與了這一輪談判。有消息稱微軟預(yù)計將在此前已向該公司投資130億美元的基礎(chǔ)上再投資約10億美元。 ? 2. 佳能首次出貨納米壓印光刻機
2024-09-29 11:24:29
1303
1303今日看點丨 2011億元!比亞迪單季營收首次超過特斯拉;三星將于2025年初引進High NA EUV光刻機
1. 三星將于2025 年初引進High NA EUV 光刻機,加快開發(fā)1nm 芯片 ? 據(jù)報道,三星電子正準備在2025年初引入其首款High NA EUV(極紫外)光刻機設(shè)備,這標志著這家韓國
2024-10-31 10:56:06
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1494組成光刻機的各個分系統(tǒng)介紹
納米級別的分辨率。本文將詳細介紹光刻機的主要組成部分及其功能。 光源系統(tǒng) ? 光源系統(tǒng)是光刻機的心臟,負責提供曝光所需的能量。早期的光刻機使用汞燈作為光源,但隨著技術(shù)的進步,目前多采用深紫外(DUV)或極紫外(EUV)光源,
2025-01-07 10:02:30
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4530
納米壓印光刻技術(shù)旨在與極紫外光刻(EUV)競爭
來源:John Boyd IEEE電氣電子工程師學會 9月,佳能交付了一種技術(shù)的首個商業(yè)版本,該技術(shù)有朝一日可能顛覆最先進硅芯片的制造方式。這種技術(shù)被稱為納米壓印光刻技術(shù)(NIL
2025-01-09 11:31:18
1280
1280光刻機的分類與原理
本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片光刻機和面板光刻機。面板光刻機的工作原理和芯片光刻機相似
2025-01-16 09:29:45
6363
6363
佳能9月啟用新光刻機工廠,主要面向成熟制程及封裝應(yīng)用
與成熟制程市場提供更多設(shè)備產(chǎn)能支持。 據(jù)介紹,這座新工廠是佳能在 2023 年開始動工建設(shè)的,并可能使用自家開發(fā)的 Nanoimprint (納米壓印) 技術(shù),總投資額超過 500 億日元,涵蓋廠房與先進制造設(shè)備。新廠面積達 6.75 萬平方公尺,投產(chǎn)后將使光刻設(shè)備總產(chǎn)能提
2025-08-04 17:39:28
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712押注2nm!英特爾26億搶單下一代 EUV光刻機,臺積電三星決戰(zhàn)2025!
了。 ? 芯片制造離不開光刻機,特別是在先進制程上,EUV光刻機由來自荷蘭的ASML所壟斷。同時,盡管目前市面上,EUV光刻機客戶僅有三家,但需求不斷增加的情況底下,EUV光刻機依然供不應(yīng)求。 ? 針對后3nm時代的芯片制造工藝,High-NA(高數(shù)值孔徑)EUV光刻機
2022-06-29 08:32:00
6314
6314繞開EUV光刻,下一代納米壓印光刻技術(shù)從存儲領(lǐng)域開始突圍
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/李寧遠)提及芯片制造技術(shù),首先想到的自然是光刻機和光刻技術(shù)。眾所周知在芯片行業(yè),光刻是芯片制造過程中最重要、最繁瑣、最具挑戰(zhàn)也最昂貴的一項工藝步驟。在光刻機的支持下,摩爾定律
2023-07-16 01:50:15
4710
4710
納米壓印光刻技術(shù)應(yīng)用在即,能否掀起芯片制造革命?
壓印光刻技術(shù)NIL在這條賽道上備受關(guān)注,是最有機會率先應(yīng)用落地的技術(shù)路線。 ? 今年早些時候,根據(jù)英國金融時報的報道,負責監(jiān)督新型光刻機開發(fā)的佳能高管武石洋明在接受采訪時稱,采用納米壓印技術(shù)的佳能光刻設(shè)備FPA-1200NZ2C目標最快在
2024-03-09 00:15:00
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